現(xiàn)代日用陶瓷生產(chǎn)流程演講人：日期:CATALOGUE目錄01原料制備階段02成型加工環(huán)節(jié)03干燥處理過(guò)程04施釉裝飾工藝05高溫?zé)上到y(tǒng)06質(zhì)檢與包裝01原料制備階段黏土精選與配比高嶺土與瓷石篩選塑性原料處理多元礦物復(fù)合配比采用X射線熒光分析儀檢測(cè)原料成分，確保高嶺土中氧化鋁含量達(dá)標(biāo)，瓷石需具備低鐵鈦特性以減少燒成雜質(zhì)。根據(jù)產(chǎn)品性能需求，將黏土、長(zhǎng)石、石英按特定比例混合，例如骨質(zhì)瓷配方需添加磷酸鈣以增強(qiáng)透光性。對(duì)可塑性黏土進(jìn)行風(fēng)化處理，通過(guò)自然陳腐或真空練泥改善其成型性能，周期通常控制在特定時(shí)段。原料破碎與球磨處理顎式破碎初級(jí)加工采用分級(jí)破碎工藝，先將大塊原料破碎至粒徑小于特定尺寸，避免球磨機(jī)過(guò)載。濕法球磨精細(xì)研磨通過(guò)激光粒度分析儀監(jiān)測(cè)顆粒級(jí)配，確保漿料中粗顆粒與超細(xì)粉比例符合坯體強(qiáng)度要求。在球磨罐中加入適量水和研磨介質(zhì)，控制轉(zhuǎn)速與時(shí)間使?jié){料細(xì)度達(dá)到特定標(biāo)準(zhǔn)（如萬(wàn)孔篩余量≤特定百分比）。粒度分布調(diào)控高強(qiáng)度磁選除鐵依次通過(guò)特定目數(shù)不銹鋼篩網(wǎng)，去除未磨細(xì)顆粒和有機(jī)雜質(zhì)，篩余物需返回球磨工序。三級(jí)振動(dòng)過(guò)篩系統(tǒng)泥漿性能優(yōu)化添加電解質(zhì)（如碳酸鈉）調(diào)節(jié)流動(dòng)性，采用粘度計(jì)檢測(cè)確保達(dá)到注漿或壓坯工藝要求。使用稀土永磁滾筒分離器，清除原料中游離鐵質(zhì)，使Fe?O?含量降至特定閾值以下。泥漿除鐵過(guò)篩工藝02成型加工環(huán)節(jié)注漿成型技術(shù)應(yīng)用石膏模具吸水性原理利用石膏模具的毛細(xì)管作用吸收泥漿水分，使坯體在模具表面均勻沉積，適用于復(fù)雜異形器皿（如茶壺、花瓶）的批量生產(chǎn)，需控制泥漿比重和流動(dòng)性。030201高壓注漿工藝革新通過(guò)0.4-0.6MPa壓力加速脫水過(guò)程，可將傳統(tǒng)24小時(shí)成型周期縮短至2小時(shí)，顯著提升薄胎瓷器的成品率，但需配套專(zhuān)用金屬模具和穩(wěn)壓設(shè)備?？招淖{與實(shí)心注漿選擇空心注漿適用于開(kāi)口器物，單面吸附成型；實(shí)心注漿用于實(shí)心部件，需雙面吸附并精確計(jì)算泥漿注入量，兩者收縮率差異需在模具設(shè)計(jì)中補(bǔ)償。滾壓成型流水線滾頭曲線設(shè)計(jì)規(guī)范根據(jù)產(chǎn)品口徑深度比設(shè)計(jì)多項(xiàng)式曲線，深型產(chǎn)品采用漸開(kāi)線滾頭（傾角18-22°），淺型產(chǎn)品選用阿基米德螺旋線（傾角12-15°），確保坯體厚度差＜0.3mm。03泥料可塑性控制要求泥料含水率19-22%，陳腐時(shí)間≥72小時(shí)，添加0.3-0.5%羧甲基纖維素改善延展性，防止?jié)L壓過(guò)程中出現(xiàn)"荷葉邊"或裂紋缺陷。0201自動(dòng)化滾壓系統(tǒng)構(gòu)成包含定量喂泥機(jī)、高速旋轉(zhuǎn)滾頭（轉(zhuǎn)速800-1200r/min）、可調(diào)溫石膏模座，實(shí)現(xiàn)盤(pán)碗類(lèi)產(chǎn)品15-30秒/件的連續(xù)生產(chǎn)，日產(chǎn)可達(dá)5000件標(biāo)準(zhǔn)坯體。數(shù)控修坯機(jī)精加工采用五軸聯(lián)動(dòng)系統(tǒng)對(duì)注漿坯體進(jìn)行0.01mm精度修整，特別處理壺嘴、把手等關(guān)鍵部位，去除合模線并保證0.8-1.2mm的最終坯厚均勻度。坯體修整與接合高分子粘接劑應(yīng)用使用改性聚乙烯醇溶液（固含量12%）進(jìn)行部件粘接，在濕度65%環(huán)境下干燥24小時(shí)，接縫強(qiáng)度可達(dá)坯體本體的90%以上，優(yōu)于傳統(tǒng)泥漿粘接工藝。激光定位組裝技術(shù)通過(guò)CCD視覺(jué)系統(tǒng)定位把手/壺嘴安裝位置，配合機(jī)械臂完成±0.2mm精度裝配，較人工組裝效率提升300%，產(chǎn)品對(duì)稱度合格率提高至99.5%。03干燥處理過(guò)程恒溫控濕干燥房溫濕度精準(zhǔn)調(diào)控采用自動(dòng)化溫濕度控制系統(tǒng)，確保干燥房?jī)?nèi)溫濕度維持在最佳工藝參數(shù)范圍內(nèi)，避免坯體因干燥速率不均導(dǎo)致開(kāi)裂或變形。02040301節(jié)能環(huán)保設(shè)計(jì)結(jié)合熱回收技術(shù)，將干燥過(guò)程產(chǎn)生的余熱重新利用，降低能耗的同時(shí)減少碳排放，符合綠色生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)?？諝庋h(huán)系統(tǒng)優(yōu)化配備高效空氣循環(huán)裝置，通過(guò)均勻分布?xì)饬飨稍锼澜?，保證坯體各部位同步脫水，提升干燥效率。實(shí)時(shí)監(jiān)控與報(bào)警集成傳感器網(wǎng)絡(luò)實(shí)時(shí)采集環(huán)境數(shù)據(jù)，異常情況觸發(fā)聲光報(bào)警并自動(dòng)調(diào)整設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)，保障生產(chǎn)安全。坯體含水率檢測(cè)無(wú)損檢測(cè)技術(shù)應(yīng)用采用微波或紅外線水分測(cè)定儀，在不接觸坯體的情況下快速測(cè)定內(nèi)部含水率，避免傳統(tǒng)取樣法造成的破損。在干燥前、中、后期分別設(shè)置檢測(cè)點(diǎn)，建立含水率變化曲線模型，為工藝調(diào)整提供數(shù)據(jù)支撐。結(jié)合檢測(cè)結(jié)果聯(lián)動(dòng)機(jī)械臂，自動(dòng)分離未達(dá)標(biāo)坯體至返工通道，確保進(jìn)入下一工序的產(chǎn)品合格率。檢測(cè)數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)上傳至MES系統(tǒng)，生成可視化報(bào)表并支持歷史數(shù)據(jù)回溯，實(shí)現(xiàn)質(zhì)量全程可追溯。多階段檢測(cè)節(jié)點(diǎn)自動(dòng)化分揀系統(tǒng)數(shù)據(jù)追溯管理通過(guò)激光掃描獲取坯體三維模型，智能識(shí)別需修整區(qū)域并生成刀具路徑，提升修坯準(zhǔn)確性。三維掃描定位技術(shù)精修工位配備負(fù)壓吸塵裝置，同步收集陶瓷粉塵并過(guò)濾凈化，保持作業(yè)環(huán)境清潔。除塵回收一體化01020304采用金剛石涂層的數(shù)控修坯工具，實(shí)現(xiàn)0.1mm級(jí)精度的表面修整，消除干燥產(chǎn)生的微小變形。高精度修坯刀具設(shè)置放大照明檢測(cè)臺(tái)，由經(jīng)驗(yàn)技師對(duì)修坯后的產(chǎn)品進(jìn)行表面光潔度、輪廓對(duì)稱性等關(guān)鍵指標(biāo)復(fù)檢。人工質(zhì)檢標(biāo)準(zhǔn)坯體表面精修04施釉裝飾工藝將坯體完全浸入釉漿中2-3秒，通過(guò)控制浸入時(shí)間和提拉速度實(shí)現(xiàn)釉層厚度0.3-0.8mm，需注意坯體吸水率與釉漿比重（通常控制在1.4-1.6g/cm3）的匹配關(guān)系。浸釉/噴釉技法浸釉工藝操作規(guī)范采用壓縮空氣噴槍?zhuān)▔毫?.4-0.6MPa）進(jìn)行霧化噴涂，釉層均勻度誤差需小于±0.1mm，針對(duì)異形坯體需配合機(jī)械臂實(shí)現(xiàn)三維立體施釉。噴釉技術(shù)參數(shù)控制施釉后需經(jīng)過(guò)40-60℃低溫干燥12-24小時(shí)，防止釉面開(kāi)裂，燒成階段需根據(jù)釉料特性制定升溫曲線（通常以3-5℃/分鐘升至目標(biāo)溫度）。干燥與燒成匹配貼花轉(zhuǎn)印裝飾水移貼花技術(shù)流程采用PVB薄膜載體，通過(guò)活化劑（含5-8%酒精溶液）使圖案轉(zhuǎn)移至坯體，定位精度需達(dá)到±0.3mm，燒成后色差ΔE≤1.5。數(shù)碼噴墨打印技術(shù)采用陶瓷專(zhuān)用納米顏料（粒徑<1μm），通過(guò)壓電噴頭實(shí)現(xiàn)600dpi分辨率打印，可呈現(xiàn)1670萬(wàn)色域范圍，燒成后耐磨性達(dá)EN14411標(biāo)準(zhǔn)。高溫釉下貼花工藝使用硅酸鹽基轉(zhuǎn)印紙，在1280-1350℃燒成時(shí)釉料與裝飾層熔融結(jié)合，鉛鎘溶出量需符合ISO6486標(biāo)準(zhǔn)（Pb<0.5mg/dm2，Cd<0.25mg/dm2）。釉料成分調(diào)配基礎(chǔ)釉料配方設(shè)計(jì)特殊效果釉開(kāi)發(fā)功能性添加劑應(yīng)用長(zhǎng)石釉（鉀長(zhǎng)石40-50%+石英25-30%+高嶺土15-20%）與石灰釉（CaO>8%）的熔融溫度差異需控制在±20℃范圍內(nèi)，確保釉面平整度Ra≤0.5μm。引入3-5%羧甲基纖維素鈉（CMC）提高懸浮性，添加0.1-0.3%三聚磷酸鈉（STPP）降低釉漿粘度至30-50秒（福特杯4號(hào)測(cè)定）。結(jié)晶釉需含6-10%氧化鋅作為晶核劑，還原燒成時(shí)Fe?O?含量控制在1.5-2.5%可獲得天目釉效果，裂紋釉的熱膨脹系數(shù)需比坯體高1.2-1.5×10??/℃。05高溫?zé)上到y(tǒng)預(yù)熱區(qū)溫度梯度控制在坯體達(dá)到最高燒成溫度時(shí)，需維持穩(wěn)定高溫環(huán)境，使釉料充分熔融并與坯體結(jié)合，時(shí)間長(zhǎng)短直接影響陶瓷的致密度和機(jī)械強(qiáng)度。高溫?zé)蓞^(qū)恒溫保持冷卻區(qū)緩冷工藝設(shè)計(jì)針對(duì)不同材質(zhì)陶瓷制定差異化冷卻曲線，尤其關(guān)注石英晶型轉(zhuǎn)化溫度區(qū)間（573℃左右）的緩冷處理，防止因應(yīng)力集中引發(fā)產(chǎn)品炸裂。通過(guò)精確調(diào)節(jié)預(yù)熱區(qū)各段溫度梯度，確保坯體水分緩慢蒸發(fā)，避免因急劇升溫導(dǎo)致開(kāi)裂或變形，通常采用階梯式升溫策略，每段溫差控制在合理范圍內(nèi)。隧道窯溫控曲線氧化/還原燒制通過(guò)鼓入過(guò)量空氣使燃料完全燃燒，形成富氧環(huán)境，適用于釉下彩繪和透明釉燒制，能保持金屬氧化物發(fā)色穩(wěn)定，避免釉面出現(xiàn)煙熏缺陷。氧化焰氣氛調(diào)控技術(shù)在燒成中后期通入不完全燃燒氣體，降低窯內(nèi)氧分壓，促使三氧化二鐵轉(zhuǎn)化為氧化亞鐵，實(shí)現(xiàn)青瓷類(lèi)產(chǎn)品"鐵系發(fā)色"效果，需精確控制CO濃度與作用時(shí)長(zhǎng)。還原焰關(guān)鍵參數(shù)優(yōu)化針對(duì)特殊釉色需求，采用氧化-還原交替燒制工藝，通過(guò)智能氣體流量閥實(shí)現(xiàn)窯內(nèi)氣氛快速切換，滿足多元釉面呈色要求。復(fù)合氣氛分段控制快速冷卻技術(shù)余熱回收與冷卻協(xié)同將冷卻帶高溫廢氣導(dǎo)入干燥窯循環(huán)利用，同時(shí)配置板式換熱器對(duì)冷卻介質(zhì)進(jìn)行熱交換，降低能耗的同時(shí)保證冷卻速率穩(wěn)定性。晶相穩(wěn)定控制冷卻針對(duì)含鋰輝石等特殊原料的坯體，采用梯度降溫程序控制冷卻速率，避免因β-石英向α-石英轉(zhuǎn)化過(guò)快導(dǎo)致微觀結(jié)構(gòu)劣化。急冷段風(fēng)冷系統(tǒng)設(shè)計(jì)在高溫區(qū)后段安裝多組高速噴冷裝置，通過(guò)計(jì)算流體力學(xué)模擬優(yōu)化風(fēng)嘴角度與風(fēng)速，使產(chǎn)品在800-400℃區(qū)間實(shí)現(xiàn)均勻快速冷卻，縮短生產(chǎn)周期。03020106質(zhì)檢與包裝外觀缺陷分揀表面瑕疵檢測(cè)通過(guò)人工目檢或自動(dòng)化光學(xué)設(shè)備識(shí)別陶瓷表面的裂紋、氣泡、色差、變形等缺陷，確保產(chǎn)品符合美學(xué)標(biāo)準(zhǔn)。尺寸精度驗(yàn)證使用卡尺、投影儀等工具測(cè)量陶瓷制品的口徑、高度、底徑等關(guān)鍵尺寸，偏差超過(guò)允許范圍的產(chǎn)品需返工或報(bào)廢。釉面質(zhì)量評(píng)估檢查釉層均勻度、光澤度及是否存在剝落、針孔等問(wèn)題，釉面不達(dá)標(biāo)的產(chǎn)品需重新施釉或淘汰。抗沖擊強(qiáng)度測(cè)試落球沖擊試驗(yàn)將規(guī)定重量的鋼球從固定高度自由落體撞擊陶瓷表面，模擬運(yùn)輸或使用中的意外碰撞，評(píng)估產(chǎn)品的抗碎裂能力。循環(huán)負(fù)荷測(cè)試對(duì)陶瓷餐具施加周期性機(jī)械壓力（如模擬頻繁使用），檢測(cè)其長(zhǎng)期耐用性和結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。溫差驟變測(cè)試將陶瓷制品交替暴露于高溫和低溫