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文檔簡介
半導(dǎo)體器件的靜電損傷及防護
半導(dǎo)體器件在制造、測試、存儲、運輸及裝配過程中,儀器設(shè)備、材料及操作者
都很容易因摩擦而產(chǎn)生幾千伏的靜電電壓。當(dāng)器件與這些帶電體接觸時,帶電體
就會通過器件引出腳(Pin)放電,導(dǎo)致器件失效。靜電放電(Elcctro-Static-Dischargc)
損傷不僅對MOS器件很敏感,而且在雙極(Bipolar)器件中同樣也存在ESD損
傷問題。
1.靜電的產(chǎn)生
(1)摩擦起電
(2)感應(yīng)起電
(3)人體靜電
表1-1列出了活動人體身上的典型電壓。
表1-1活動中人體身上的典型電壓
電壓(KV)
人體活動
相對濕度20%相對濕度80%
在人造地毯上走動351.5
在聚乙烯地板上走動120.25
在工作臺上工作60.1
坐在人造革椅上181.5
拿乙烯包70.6
拾起乙烯袋201.2
2.影響摩擦起電電荷量的因素
(1)相對濕度
(2)材料
(3)接觸面積
(4)摩擦頻率
3.靜電能量與電荷量
1
⑴靜電能量E=1/2CV2
(2)電荷量Q=CV
4.ESD的危害性
在典型工作環(huán)境中,人體電容約為150pf,如果感應(yīng)的電荷量約0.6pC,那么就
會導(dǎo)致4KV的靜電勢,這時人體所帶靜電能量是1.2毫焦耳。我們試想帶電人
體作用在集成電路上,會發(fā)生什么呢?它會產(chǎn)生一個強電場然后擊穿集成電路內(nèi)
部的一些絕緣體或PN結(jié);它會對集成電路內(nèi)部的元器件放電,雖然時間非常短,
典型值約10ns?100ns,但瞬間電流可達1A?10A,這足以造成半導(dǎo)體器件的熱破
壞。因為人體活動范圍大,而人體靜電又容易被人們忽視,所以人體靜電放電往
往是引起半導(dǎo)體器件靜電損傷的主要原因之一,它對半導(dǎo)體器件的危害最大。
5.ESD損傷模型與測試方法
(1)HMR(hiimanBodyModel)
HBM是根據(jù)帶靜電的操作者與器件的引出腳接觸,通過器件對地放電,使器件
失效而建立的。等效電路如圖4-1所示。
10M1500
HVSupply-------------------o---------IZZ)-------DUT
lOOpf
圖4-1HBM模型
(2)CDM(Charged-DeviceModel)
CDM是基于已帶電的器件通過引出腳對地放電引起器件失效。模型如圖4-2所
不o
2
(3)MM(MachineModel)
MM可模擬HBM最惡劣之情形,模型如圖4-3所示。
10M
HVSupply------Q2]--------0------------------DUT
200pf
圖4-3MM模型
(4)FIM(Field-InducedModel)
當(dāng)器件處于靜電場環(huán)境中,在器件內(nèi)部將感應(yīng)出電位差,從而引起器件ESD失
效,這就是電場感應(yīng)模型(FIM)
⑸失效判據(jù)(FailureCriteria)
在給定電壓下受ESD過應(yīng)力后PIN上的漏電電流通常被作為失效判據(jù)。請注意
不是用受應(yīng)力后集成電路的所有功能參數(shù)來評價。
(6)測試程序
選取測試方法(如常用的HBM與MM),測試標(biāo)準(zhǔn)(常用UHBM>±2000V;
UMM>±300V或250V)與樣品數(shù)目。確定PIN的組合、相鄰兩次測試時間間隔(讓
DUT冷卻)以及Zap的次數(shù)。
6.靜電損傷的失效模式
(1)突發(fā)性完全失效
突發(fā)性完全失效是器件的一個或多個電參數(shù)突然劣化,完全失去規(guī)定功能的一種
失效。通常表現(xiàn)為開路、短路以及電參數(shù)嚴(yán)重漂挈。
半導(dǎo)體器件ESD損傷失效現(xiàn)象主要表現(xiàn)為:
介質(zhì)擊穿
鋁互連線損傷與燒熔
硅片局部區(qū)域熔化
PN結(jié)損傷與熱破壞短路
擴散電阻與多晶電阻損傷(包括接觸孔損傷)
ESD可觸發(fā)CMOS集成電路內(nèi)部寄生的可控硅(SCR)“閂鎖"(Latch-up)效應(yīng),
3
導(dǎo)致器件被過大電流燒毀。
(2)潛在性失效
如果帶電體的靜電勢或存儲的靜電能量較低,或ESD回路有限流電阻存在,-
次ESD脈沖不足以引起器件發(fā)生突發(fā)性完全失效。但它會在器件內(nèi)部造成輕微
損傷,這種損傷又是積累性的。隨著ESD脈沖次數(shù)增加,器件的損傷閾值電壓
逐漸下降,器件的電參數(shù)逐漸劣化,這類失效稱為潛在性失效。它降低了器件抗
靜電的能力,降低了器件的使用可靠性。
7.靜電損傷的失效機理
(1)電流型損傷機理
PN結(jié)短路--ESD引起PN結(jié)短路是最常見的失效現(xiàn)象。失效是由PN結(jié)二次
擊穿時產(chǎn)生的焦耳熱導(dǎo)致局部溫度超過鋁硅共晶溫度,引起合金釘穿透PN
結(jié)而失效。版圖設(shè)計對PN結(jié)短路有很大影響,最敏感的是接觸孔尺寸、形
狀及位置。較好的辦法是在一個擴散區(qū)內(nèi)設(shè)置多個小接觸孔,以便增加孔周
長;用圓形接觸孔可避免電流的非均勻流動,增加接觸孔與擴散區(qū)的間距,
可防止電流在接觸孔角落處集中。
鋁互連線損傷--鋁互連線在大電流ESD脈沖的過功率作用下容易引起熔化開
路,尤其是臺階處鋁條。ESD損傷有時可使鋁互連局部區(qū)域發(fā)生球化(局部
電流集中處),造成氧化層擊穿,影響電路可靠性。鋁互連線承受大電流能
力依賴它的橫截面積,因此輸入保護結(jié)構(gòu)應(yīng)盡量靠近壓焊點(PAD)以縮短鋁
互連線長度,鋁互連走線應(yīng)做得足夠?qū)?,以提高抗電過應(yīng)力的能力。
電阻損傷--大電流下的電阻I-V特性會呈現(xiàn)Snapback現(xiàn)象。一旦出現(xiàn)
Snapback,在強電場下電子與空穴都參與導(dǎo)電,進而由于熱導(dǎo)致硅熔化。電
阻抗電過應(yīng)力的的能力取決于其端頭、接觸孔的大小以及電阻條寬與長度。
擴散電阻的抗靜電能力優(yōu)丁多晶電阻,這是由丁多晶電阻的散熱性能比擴散
電阻差。
(2)電壓型損傷機理
柵氧穿通-由ESD產(chǎn)生的強電場會引起柵氧(Gateoxide)穿通。當(dāng)柵氧有
針孔(pinhole)時,擊穿首先在針孔處發(fā)生。所以在MOS或BiMOS集成
電路中必須對I/O處的MOS晶體管施以保護電路。
4
鋁互連線與擴散區(qū)短路--短路常發(fā)生在鍵合點(PAD)連接的擴散電阻和
橫跨其上的電源鋁條之間。由于它們之間是熱氧化層且厚度較厚,所以
這種短路失效幾率比較小。
鋁互連線與多晶電阻短路--短路常發(fā)生在鍵合點(PAD)連接的多晶電阻
和橫跨其上的電源或地互連線之間。由于鋁互連線與多晶電阻之間介質(zhì)
擊穿強度比熱氧化低得多,當(dāng)輸入端引入ESD時可導(dǎo)致該處介質(zhì)擊穿短
路,因此版圖設(shè)計時輸入端的多晶電阻條與鋁條之間應(yīng)留足夠距離更
要防止多晶電阻條與鋁條重疊。
PN結(jié)雪崩開通機構(gòu)
8.ESD保護電路中的元器件
雪崩二極管(Avalanchediode).利用二極管反向雪崩擊穿特性,使靜電壓
嵌位;由于反向擊穿動態(tài)電阻小,能夠泄放FSD能量。
SnapbackNPN晶體管-因為be短路或be之間串有一個電阻的ce擊穿存
在負(fù)阻效應(yīng),Snapback晶體管對ESD能量吸收效果很好。
電阻-與電容一起能減小ESD脈沖的斜率。
Snapback可控硅(SCR)-利用Snapback可控硅的負(fù)阻效應(yīng),能有效地吸收
ESD能量。它常用在CMOS集成電路中.
9.Bipolar集成電路中ESD保護電路設(shè)計與版圖考慮
(1)基本的ESD保護電路設(shè)計
I/O-pinsESD保護電路如圖9-1所示。當(dāng)一個晶體管且連接到PAD.
而這個晶體管發(fā)射區(qū)面積W140pm2時,這個晶體管必須被保護c
+VQSupplyVoltage
圖9-1ESDprotectioncircuit
5
第二個ESD保護電路如圖9-2所示。當(dāng)一個PAD上的電壓大于電源電
壓或因電路性能要求不能施加對電源保護電路,如HF輸入端因需要穩(wěn)
定時就采用這種保護電路。
Supply-lane
_GND
圖9-2ESDProtectionCircuit
第三個ESD保護電路如圖9?3所示。這個保護電路既有電壓限制也有電
流限制。電阻與后面電路的輸入電容一起能減小ESD脈沖的斜率。
圖9-3ESDProtectioncircuit
第四個ESD保護電路如圖9-4所示。在大多數(shù)情形下電源與Substrate之
間的寄生電容太小時需要這種電源對地的保護電路。
圖9-4ESD-Circuitforsupplypin
6
(2)版圖考慮
應(yīng)避免PAD與電源或地之間直接連接高摻雜的PN結(jié)(NPN的be結(jié))。
如有可能使用浮島(floatingisland)上的電阻與NPN的基極或發(fā)射極串
聯(lián)。另有可能請用PNP代替NPNO
為了減小所受應(yīng)力PN結(jié)的電流密度(如NPN的eb結(jié)),請不要在輸入
PINS上使用最小尺寸的器件。
在與PADS接合的電路(interfacecircuits)中,避免使用最小尺寸器件與薄
氧化層的元器件。
直接連接到PADS上的所有電阻應(yīng)有一個浮島(floatingisland
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