標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 33922-2017 MEMS壓阻式壓力敏感芯片性能的圓片級(jí)試驗(yàn)方法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)范MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))壓阻式壓力敏感芯片在圓片級(jí)別上的測(cè)試流程與方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于采用半導(dǎo)體工藝制造的壓力傳感器芯片,在未進(jìn)行封裝前即圓片狀態(tài)下的性能檢測(cè)。通過定義一系列測(cè)試條件和步驟,確保不同制造商之間能夠有一致性高的測(cè)試結(jié)果,從而促進(jìn)產(chǎn)品質(zhì)量控制和技術(shù)交流。
標(biāo)準(zhǔn)中詳細(xì)描述了測(cè)試所需環(huán)境條件、儀器設(shè)備要求及具體操作步驟。對(duì)于環(huán)境條件,規(guī)定了溫度、濕度等參數(shù)范圍;關(guān)于儀器設(shè)備,則明確了精度等級(jí)及其他技術(shù)指標(biāo)。測(cè)試項(xiàng)目包括但不限于零點(diǎn)輸出、靈敏度、非線性誤差、遲滯、溫度特性等關(guān)鍵性能指標(biāo)。每項(xiàng)測(cè)試都有明確的操作指導(dǎo),比如如何設(shè)置加載壓力值、讀取數(shù)據(jù)的方法以及如何計(jì)算最終結(jié)果。
此外,《GB/T 33922-2017》還提供了數(shù)據(jù)處理與分析的方法,幫助使用者準(zhǔn)確評(píng)估被測(cè)樣品的質(zhì)量狀況。通過標(biāo)準(zhǔn)化的數(shù)據(jù)記錄格式和統(tǒng)計(jì)分析手段,使得實(shí)驗(yàn)結(jié)果更加直觀可靠,便于后續(xù)的研究開發(fā)或質(zhì)量控制工作。
此標(biāo)準(zhǔn)為MEMS壓阻式壓力敏感芯片的研發(fā)人員、生產(chǎn)廠家及相關(guān)檢測(cè)機(jī)構(gòu)提供了一個(gè)統(tǒng)一的技術(shù)依據(jù),有助于提高整個(gè)行業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量和競(jìng)爭(zhēng)力。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2017-07-12 頒布
- 2018-02-01 實(shí)施




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ICS31200
L55.
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T33922—2017
MEMS壓阻式壓力敏感芯片性能的
圓片級(jí)試驗(yàn)方法
WaferleveltestmethodsforMEMSpiezoresistivepressure-sensitive
dieperformances
2017-07-12發(fā)布2018-02-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T33922—2017
目次
前言
…………………………Ⅲ
范圍
1………………………1
規(guī)范性引用文件
2…………………………1
術(shù)語和定義
3………………1
試驗(yàn)條件
4…………………1
大氣條件
4.1……………1
電磁條件
4.2……………2
振動(dòng)條件
4.3……………2
測(cè)試系統(tǒng)
4.4……………2
試驗(yàn)的一般規(guī)定
5…………………………2
證書文件
5.1……………2
預(yù)熱時(shí)間
5.2……………2
連接方式
5.3……………2
試驗(yàn)內(nèi)容和方法
6…………………………2
試驗(yàn)準(zhǔn)備
6.1……………2
電阻
6.2…………………2
常壓輸出
6.3……………3
靜態(tài)性能試驗(yàn)
6.4………………………4
溫度性能試驗(yàn)
6.5………………………7
Ⅰ
GB/T33922—2017
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微機(jī)電技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口
(SAC/TC336)。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位北京大學(xué)中機(jī)生產(chǎn)力促進(jìn)中心北京必創(chuàng)科技股份有限公司中國(guó)電子科
:、、、
技集團(tuán)公司第十三研究所中北大學(xué)
、。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人張威程紅兵陳得民李海斌崔波石云波朱悅
:、、、、、、。
Ⅲ
GB/T33922—2017
MEMS壓阻式壓力敏感芯片性能的
圓片級(jí)試驗(yàn)方法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了壓阻式壓力敏感芯片簡(jiǎn)稱壓力敏感芯片的術(shù)語和定義試驗(yàn)條件試驗(yàn)的
MEMS()、、
一般規(guī)定試驗(yàn)內(nèi)容和方法
、。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于閉環(huán)和開環(huán)壓阻式壓力敏感芯片性能的圓片級(jí)試驗(yàn)
MEMS。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第部分按接收質(zhì)量限檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃
GB/T2828.11:(AQL)
半導(dǎo)體器件第部分半導(dǎo)體傳感器壓力傳感器
GB/T2052214-3:———
微機(jī)電系統(tǒng)技術(shù)術(shù)語
GB/T26111(MEMS)
3術(shù)語和定義
和界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件
GB/T20522GB/T26111。
31
.
壓阻式壓力敏感芯片piezoresistivepressure-sensitivedie
采用技術(shù)在硅襯底上制造腔膜結(jié)構(gòu)在膜上制作半導(dǎo)體電阻并組成惠斯通電橋利用半導(dǎo)
MEMS,,
體的壓阻效應(yīng)實(shí)現(xiàn)將壓力信號(hào)轉(zhuǎn)化為電信號(hào)的芯片
。
32
.
閉環(huán)壓阻式壓力敏感芯片closedlooppiezoresistivepressure-sensitivedie
惠
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