平面度定義及測量方法_第1頁
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平面度定義及測量方法_第3頁
平面度定義及測量方法_第4頁
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文檔簡介

100:0.1例1:表面任意100x100的范圍,必須位于距離為公差值0.1mm的兩平行平面內(nèi)。圖中符號含義:定義:

是指基片具有的宏觀凹凸高度相對理想平面的偏差。表示符號:“”2021/10/101例2:

符號含義:圖1上表面必須位于距離為公差值0.1mm的兩平行平面內(nèi)。

0.10.1平面度公差實(shí)例圖1虛擬平面(容許在兩實(shí)際平面浮動)實(shí)際平面圖2細(xì)節(jié)解釋如圖2所示:}公差帶公差帶:是距離為公差值t的兩平行平面之間的區(qū)域。2021/10/102平面度測量方法①

測量工具:塞尺

測量方法:1、將待測產(chǎn)品固定在基準(zhǔn)平臺,待檢測面向下放置,貼合平臺表面。如圖22、在產(chǎn)品邊緣插入塞尺,如細(xì)節(jié)圖所示。細(xì)節(jié)圖塞尺測量要求:產(chǎn)品平面度公差值為0.3如圖1所示判定標(biāo)準(zhǔn):間隙處使用塞尺,尺寸0.3以上不可塞入為合格下表面為待測平面,要求公差為0.3,測量時,此面向下貼合平臺放置圖2例如:塞尺尺寸為0.3可以塞入超過0.3不可塞入,產(chǎn)品OK若塞尺尺寸0.4可塞入則產(chǎn)品NG圖1

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