ICS31200

L55.

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T28276—2012

硅基MEMS制造技術(shù)

體硅溶片工藝規(guī)范

Silicon-basedMEMSfabricationtechnology—

Specificationfordissolvedwaferprocess

2012-05-11發(fā)布2012-12-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T28276—2012

目次

前言…………………………

Ⅰ

范圍………………………

11

規(guī)范性引用文件…………………………

21

術(shù)語(yǔ)和定義………………

31

工藝流程…………………

42

體硅溶片工藝流程…………………

4.12

硅片加工工藝流程…………………

4.22

玻璃片加工工藝流程………………

4.33

硅玻璃鍵合片工藝流程……………

4.4-4

工藝加工能力……………

54

工藝保障條件要求………………………

64

人員要求……………

6.14

環(huán)境要求……………

6.24

設(shè)備要求……………

6.35

原材料要求………………

76

安全操作要求……………

86

用電安全……………

8.16

化學(xué)試劑……………

8.26

排廢…………………

8.36

工藝檢驗(yàn)…………………

96

總則…………………

9.16

關(guān)鍵工序檢驗(yàn)………………………

9.27

最終檢驗(yàn)……………

9.38

附錄資料性附錄體硅溶片關(guān)鍵工序檢驗(yàn)方法……………………

A()10

GB/T28276—2012

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微機(jī)電技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口

(SAC/TC336)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位中國(guó)電子科技集團(tuán)第十三研究所中機(jī)生產(chǎn)力促進(jìn)中心北京大學(xué)中國(guó)科學(xué)院上

:、、、

海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所

。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人崔波羅蓉劉偉張大成熊斌陳海蓉

:、、、、、。

Ⅰ

GB/T28276—2012

硅基MEMS制造技術(shù)

體硅溶片工藝規(guī)范

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用體硅溶片加工工藝進(jìn)行器件加工時(shí)應(yīng)遵循的工藝要求和工藝評(píng)價(jià)規(guī)范

MEMS。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于體硅溶片工藝的加工和質(zhì)量檢驗(yàn)

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范

GB50073—2001

測(cè)量管理體系測(cè)量過(guò)程和測(cè)量設(shè)備的要求

GB/T19022—2003

微機(jī)電系統(tǒng)技術(shù)術(shù)語(yǔ)

GB/T26111—2010(MEMS)

3術(shù)語(yǔ)和定義

和界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

GB/T26111—2010GB/T19022—2003。

31

.

微機(jī)電系統(tǒng)micro-electromechanicalsystemMEMS

;

關(guān)鍵部件特征尺寸在亞微米至亞毫米之間能獨(dú)立完成機(jī)光電等功能的系統(tǒng)

(),。

注1微機(jī)電系統(tǒng)一般包括微型機(jī)構(gòu)微傳感器微執(zhí)行器信號(hào)處理和控制通訊接口電路以及能源等部分

:、、、、。

注2微機(jī)電系統(tǒng)通常需要多學(xué)科領(lǐng)域技術(shù)的綜合應(yīng)用例如機(jī)電光生物等多種領(lǐng)域

:,、、、。

注3主要在美國(guó)使用微系統(tǒng)主要在歐洲使用微機(jī)械主要在日本使用

:MEMS,,。

定義

[GB/T26111—2010,3.1.1]

32

.

體微加工工藝bulkmicromachining

通過(guò)選擇性去除部分基底材料實(shí)現(xiàn)微結(jié)構(gòu)的微機(jī)械加工方法

。

注體微機(jī)械工藝式通過(guò)化學(xué)方法刻蝕去除基底不需要部分的加工方法通過(guò)使用或掩膜可以保護(hù)表

:。SiO2SiN

面不被刻蝕硼參雜層也可以停止表面層以下部分的刻蝕

。。

定義

[GB/T26111—2010,3.5.16]

33

.

體硅溶片工藝