標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 16879-1997 掩模曝光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則》作為一項技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，規(guī)定了掩模曝光系統(tǒng)在半導(dǎo)體制造過程中的精密度與準(zhǔn)確度評估方法。然而，您提供的對比項為空白，無法直接進(jìn)行詳細(xì)的變更比較。若要分析該標(biāo)準(zhǔn)與其他某個具體標(biāo)準(zhǔn)或更新版本之間的差異，通常需要將兩者的具體內(nèi)容進(jìn)行逐條比對，涉及技術(shù)指標(biāo)、測試方法、合格判定準(zhǔn)則等方面的調(diào)整和改進(jìn)。

例如，如果要對比《GB/T 16879-1997》與假設(shè)的其后續(xù)修訂版或國際同類標(biāo)準(zhǔn)，可能的變更包括但不限于：

  1. 精密度定義的更新：新標(biāo)準(zhǔn)可能更精確地界定了曝光系統(tǒng)的重復(fù)性誤差和再現(xiàn)性誤差的計算方法，以適應(yīng)技術(shù)進(jìn)步和更嚴(yán)格的制造要求。
  2. 準(zhǔn)確度測量方法的改進(jìn)：隨著測量技術(shù)的發(fā)展，新標(biāo)準(zhǔn)可能會引入更先進(jìn)的校準(zhǔn)技術(shù)和測試設(shè)備要求，以提高準(zhǔn)確度評估的可靠性。
  3. 指標(biāo)調(diào)整：針對掩模尺寸、分辨率、對準(zhǔn)精度等方面，新標(biāo)準(zhǔn)可能會設(shè)定更嚴(yán)格或更具體的性能指標(biāo)，以反映行業(yè)進(jìn)步和技術(shù)革新。
  4. 數(shù)據(jù)處理和統(tǒng)計方法：在數(shù)據(jù)分析部分，新標(biāo)準(zhǔn)可能采用了新的統(tǒng)計學(xué)方法來處理測量數(shù)據(jù)，確保評價結(jié)果的科學(xué)性和準(zhǔn)確性。
  5. 兼容性與國際接軌：考慮到全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的融合，新標(biāo)準(zhǔn)可能增強(qiáng)了與國際標(biāo)準(zhǔn)的兼容性，吸收了國際上的先進(jìn)理念和實(shí)踐。

由于沒有具體的對比對象，以上僅為一般性的假設(shè)性變更示例。如果您有特定的標(biāo)準(zhǔn)想進(jìn)行對比，請?zhí)峁┰摌?biāo)準(zhǔn)的詳細(xì)信息，以便進(jìn)行更加精確的分析。


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  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 1997-06-20 頒布
  • 1998-03-01 實(shí)施
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GB/T 16879-1997掩模曝光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則_第1頁
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GB/T 16879-1997掩模曝光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則-免費(fèi)下載試讀頁

文檔簡介

IcS31.020L97中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)CB/T16879一1997掩模暖光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示淮則Cuidelinesforprecisionandaccuracyexpressionformaskwritingeguipment1997-06-20發(fā)布1998-03-01實(shí)施國家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

GB/T16879-1997次前言1范圍2引用標(biāo)準(zhǔn)·3精密度和準(zhǔn)確度的定義、表示方式、測量方法和要求4說明事項

GB/T16879-1997本標(biāo)準(zhǔn)等同采用1994年SEMI標(biāo)準(zhǔn)版本“微型構(gòu)圖"部分中的SEMIP21—92《掩模暖光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則》（Guidelinesforprecisionandaccuracyexpressionformaskwritingequipment）。SEMI標(biāo)準(zhǔn)是國際上公認(rèn)的一套半導(dǎo)體設(shè)備和材料國際標(biāo)準(zhǔn)。SEMIP21一92《掩模瞬光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則》是其中的一項,它將與已經(jīng)轉(zhuǎn)化的SEMIP1-92《硬面光掩模基板》、SEMIP2一86《硬面光掩模用鉻薄膜》、SEMIP3-90《硬面感光板中光致抗蝕劑和電子抗蝕劑》、SEMIP4-92《圓形石英玻璃光掩模基板》、SEMIP6-88(光拖模定位標(biāo)記規(guī)范》及SEMIP19-92《用于集成電路制造技術(shù)的檢測圖形單元規(guī)范》和SEMIP22-93《光拖模缺陷分類和尺寸定義的指南》兩項SEMI標(biāo)準(zhǔn)形成一個微型構(gòu)圖標(biāo)準(zhǔn)系列。本標(biāo)準(zhǔn)是根據(jù)SEMI標(biāo)準(zhǔn)P21—92《掩模暖光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則》制定的。在技術(shù)內(nèi)容上等同地采用了該國際標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)的格式和結(jié)構(gòu)按國標(biāo)GB/T1.1一1993第一單元第一部分的規(guī)定編制。本標(biāo)準(zhǔn)從1998年3月1日實(shí)施。本標(biāo)準(zhǔn)由中國科學(xué)院提出。本標(biāo)準(zhǔn)由電子工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)化研究所歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：中國科學(xué)院微電子中心。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：陳寶欽、陳森錦、摩溫初。

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)掩模瞬光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示淮GB/T16879-1997Guidelincsforprecisionandaccuracyexpressionformaskwritingequipment1范圍本準(zhǔn)則規(guī)定了在表示掩模噪光設(shè)備的精密度和準(zhǔn)確度時應(yīng)逍循的一般要求。掩模瞬光設(shè)備的圖形噪光精密度和準(zhǔn)確度是通過測量制成的掩模來評估的，掩模制造過程中的工藝條件對它有很大影響。所以，噪光條件應(yīng)經(jīng)廠家和用戶雙方同意。2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。SJ/T10152—91集成電路主要工藝設(shè)備術(shù)語SJ/T10584—94微電子學(xué)光掩酸技術(shù)術(shù)語精密度和準(zhǔn)確度的定義、表示方式、測量方法和要求3.1最小圖形minimunpattern3.1.1定義指最小的線條和透亮的圖形，以及可以區(qū)分的最小圖形。3.1.2表示方式掃描電子顯微鏡（SEM）照片3.1.3測址光刻膠圖形或鉻膜圖形的SEM照片。3.2圖形尺寸的精密度和準(zhǔn)確度pattcrndimensionprecisionandaceuracy3.2.1定義指制成的掩模圖形關(guān)鍵尺寸(CD)相對于設(shè)計值的偏差和變化量，3.2.2表示方式實(shí)測圖形尺寸的平均值相對于設(shè)計值的偏差(</:Pm)及其實(shí)測值變化量(3o:Pm）應(yīng)當(dāng)明確說明被測的區(qū)域和抽樣點(diǎn)的數(shù)量。3.2.3測最方法（a）光學(xué)CD測

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