標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 16879-1997 掩模曝光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則》作為一項(xiàng)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),規(guī)定了掩模曝光系統(tǒng)在半導(dǎo)體制造過(guò)程中的精密度與準(zhǔn)確度評(píng)估方法。然而,您提供的對(duì)比項(xiàng)為空白,無(wú)法直接進(jìn)行詳細(xì)的變更比較。若要分析該標(biāo)準(zhǔn)與其他某個(gè)具體標(biāo)準(zhǔn)或更新版本之間的差異,通常需要將兩者的具體內(nèi)容進(jìn)行逐條比對(duì),涉及技術(shù)指標(biāo)、測(cè)試方法、合格判定準(zhǔn)則等方面的調(diào)整和改進(jìn)。
例如,如果要對(duì)比《GB/T 16879-1997》與假設(shè)的其后續(xù)修訂版或國(guó)際同類(lèi)標(biāo)準(zhǔn),可能的變更包括但不限于:
- 精密度定義的更新:新標(biāo)準(zhǔn)可能更精確地界定了曝光系統(tǒng)的重復(fù)性誤差和再現(xiàn)性誤差的計(jì)算方法,以適應(yīng)技術(shù)進(jìn)步和更嚴(yán)格的制造要求。
- 準(zhǔn)確度測(cè)量方法的改進(jìn):隨著測(cè)量技術(shù)的發(fā)展,新標(biāo)準(zhǔn)可能會(huì)引入更先進(jìn)的校準(zhǔn)技術(shù)和測(cè)試設(shè)備要求,以提高準(zhǔn)確度評(píng)估的可靠性。
- 指標(biāo)調(diào)整:針對(duì)掩模尺寸、分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度等方面,新標(biāo)準(zhǔn)可能會(huì)設(shè)定更嚴(yán)格或更具體的性能指標(biāo),以反映行業(yè)進(jìn)步和技術(shù)革新。
- 數(shù)據(jù)處理和統(tǒng)計(jì)方法:在數(shù)據(jù)分析部分,新標(biāo)準(zhǔn)可能采用了新的統(tǒng)計(jì)學(xué)方法來(lái)處理測(cè)量數(shù)據(jù),確保評(píng)價(jià)結(jié)果的科學(xué)性和準(zhǔn)確性。
- 兼容性與國(guó)際接軌:考慮到全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的融合,新標(biāo)準(zhǔn)可能增強(qiáng)了與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的兼容性,吸收了國(guó)際上的先進(jìn)理念和實(shí)踐。
由于沒(méi)有具體的對(duì)比對(duì)象,以上僅為一般性的假設(shè)性變更示例。如果您有特定的標(biāo)準(zhǔn)想進(jìn)行對(duì)比,請(qǐng)?zhí)峁┰摌?biāo)準(zhǔn)的詳細(xì)信息,以便進(jìn)行更加精確的分析。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 1997-06-20 頒布
- 1998-03-01 實(shí)施




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GB/T 16879-1997掩模曝光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則-免費(fèi)下載試讀頁(yè)文檔簡(jiǎn)介
IcS31.020L97中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)CB/T16879一1997掩模暖光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示淮則Cuidelinesforprecisionandaccuracyexpressionformaskwritingeguipment1997-06-20發(fā)布1998-03-01實(shí)施國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布
GB/T16879-1997次前言1范圍2引用標(biāo)準(zhǔn)·3精密度和準(zhǔn)確度的定義、表示方式、測(cè)量方法和要求4說(shuō)明事項(xiàng)
GB/T16879-1997本標(biāo)準(zhǔn)等同采用1994年SEMI標(biāo)準(zhǔn)版本“微型構(gòu)圖"部分中的SEMIP21—92《掩模暖光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則》(Guidelinesforprecisionandaccuracyexpressionformaskwritingequipment)。SEMI標(biāo)準(zhǔn)是國(guó)際上公認(rèn)的一套半導(dǎo)體設(shè)備和材料國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。SEMIP21一92《掩模瞬光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則》是其中的一項(xiàng),它將與已經(jīng)轉(zhuǎn)化的SEMIP1-92《硬面光掩?;濉?、SEMIP2一86《硬面光掩模用鉻薄膜》、SEMIP3-90《硬面感光板中光致抗蝕劑和電子抗蝕劑》、SEMIP4-92《圓形石英玻璃光掩?;濉?、SEMIP6-88(光拖模定位標(biāo)記規(guī)范》及SEMIP19-92《用于集成電路制造技術(shù)的檢測(cè)圖形單元規(guī)范》和SEMIP22-93《光拖模缺陷分類(lèi)和尺寸定義的指南》兩項(xiàng)SEMI標(biāo)準(zhǔn)形成一個(gè)微型構(gòu)圖標(biāo)準(zhǔn)系列。本標(biāo)準(zhǔn)是根據(jù)SEMI標(biāo)準(zhǔn)P21—92《掩模暖光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示準(zhǔn)則》制定的。在技術(shù)內(nèi)容上等同地采用了該國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)的格式和結(jié)構(gòu)按國(guó)標(biāo)GB/T1.1一1993第一單元第一部分的規(guī)定編制。本標(biāo)準(zhǔn)從1998年3月1日實(shí)施。本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)科學(xué)院提出。本標(biāo)準(zhǔn)由電子工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)化研究所歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:中國(guó)科學(xué)院微電子中心。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:陳寶欽、陳森錦、摩溫初。
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)掩模瞬光系統(tǒng)精密度和準(zhǔn)確度的表示淮GB/T16879-1997Guidelincsforprecisionandaccuracyexpressionformaskwritingequipment1范圍本準(zhǔn)則規(guī)定了在表示掩模噪光設(shè)備的精密度和準(zhǔn)確度時(shí)應(yīng)逍循的一般要求。掩模瞬光設(shè)備的圖形噪光精密度和準(zhǔn)確度是通過(guò)測(cè)量制成的掩模來(lái)評(píng)估的,掩模制造過(guò)程中的工藝條件對(duì)它有很大影響。所以,噪光條件應(yīng)經(jīng)廠家和用戶雙方同意。2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文,通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí),所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂,使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。SJ/T10152—91集成電路主要工藝設(shè)備術(shù)語(yǔ)SJ/T10584—94微電子學(xué)光掩酸技術(shù)術(shù)語(yǔ)精密度和準(zhǔn)確度的定義、表示方式、測(cè)量方法和要求3.1最小圖形minimunpattern3.1.1定義指最小的線條和透亮的圖形,以及可以區(qū)分的最小圖形。3.1.2表示方式掃描電子顯微鏡(SEM)照片3.1.3測(cè)址光刻膠圖形或鉻膜圖形的SEM照片。3.2圖形尺寸的精密度和準(zhǔn)確度pattcrndimensionprecisionandaceuracy3.2.1定義指制成的掩模圖形關(guān)鍵尺寸(CD)相對(duì)于設(shè)計(jì)值的偏差和變化量,3.2.2表示方式實(shí)測(cè)圖形尺寸的平均值相對(duì)于設(shè)計(jì)值的偏差(</:Pm)及其實(shí)測(cè)值變化量(3o:Pm)應(yīng)當(dāng)明確說(shuō)明被測(cè)的區(qū)域和抽樣點(diǎn)的數(shù)量。3.2.3測(cè)最方法(a)光學(xué)CD測(cè)
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