犐犆犛２５．２２０．４０

犃２９

中華人民共和國國家標準

犌犅／犜１２３３２—２００８／犐犛犗４５２６：２００４

代替ＧＢ／Ｔ１２３３２—１９９０

金屬覆蓋層工程用鎳電鍍層

犕犲狋犪犾犾犻犮犮狅犪狋犻狀犵狊—犈犾犲犮狋狉狅狆犾犪狋犲犱犮狅犪狋犻狀犵狊狅犳狀犻犮犽犲犾犳狅狉犲狀犵犻狀犲犲狉犻狀犵狆狌狉狆狅狊犲狊

（ＩＳＯ４５２６：２００４，ＩＤＴ）

２００８０６１９發(fā)布２００９０１０１實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局

發(fā)布

中國國家標準化管理委員會

書

犌犅／犜１２３３２—２００８／犐犛犗４５２６：２００４

目次

前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅲ

引言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅳ

１范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

２規(guī)范性引用文件!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１

３術(shù)語和定義!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２

４向供方提供的資料!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２

５標識!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!２

６要求!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!４

７抽樣!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!６

附錄Ａ（資料性附錄）瓦特鎳和氨基磺酸鎳槽液的典型組成和操作條件及鎳電鍍層的力學性能!７

附錄Ｂ（資料性附錄）厚度測量的試驗方法!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!８

附錄Ｃ（規(guī)范性附錄）熱水孔隙率試驗!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!９

附錄Ｄ（規(guī)范性附錄）改進型孔隙率試劑試驗!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１０

附錄Ｅ（資料性附錄）不同用途的附加資料!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１１

參考文獻!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!１２

Ⅰ

書

犌犅／犜１２３３２—２００８／犐犛犗４５２６：２００４

前言

本標準等同采用ＩＳＯ４５２６：２００４《金屬覆蓋層工程用鎳電鍍層》（英文版）。

本標準根據(jù)ＩＳＯ４５２６：２００４翻譯起草。

為了便于使用，本標準做了下列編輯性修改：

———刪除國際標準的前言，增加了我國標準前言；

———“本國際標準”一詞改為“本標準”；

———引用了與國際標準相對應的國家標準。

本標準代替ＧＢ／Ｔ１２３３２—１９９０《金屬覆蓋層工程用鎳電鍍層》。

本標準與ＧＢ／Ｔ１２３３２—１９９０相比主要變化如下：

———增加了引言；

———增加了標識部分；

———刪除了工程用鎳電鍍層的特性、用途及應用實例；

———修改了瓦特鎳和氨基磺酸鎳槽液中電鍍層的力學性能；

———增加了熱水孔隙率試驗、改進型孔隙率試劑試驗；

———增加了不同用途的附加資料。

本標準的附錄Ｃ、附錄Ｄ為規(guī)范性附錄，附錄Ａ、附錄Ｂ、附錄Ｅ為資料性附錄。

本標準由中國機械工業(yè)聯(lián)合會提出。

本標準由全國金屬與非金屬覆蓋層標準化技術(shù)委員會（ＳＡＣ／ＴＣ５７）歸口。

本標準起草單位：武漢材料保護研究所、廣州市達志化工科技有限公司、浙江新豐控股有限公司、

杭州天堂傘業(yè)集團有限公司。

本標準主要起草人：張德忠、毛祖國、蔡志華、鄭秀林、鄭秀海、王奇?zhèn)ァ⒑谓?、賈建新。

本標準所代替標準的歷次版本發(fā)布情況為：

———ＧＢ／Ｔ１２３３２—１９９０。

Ⅲ

犌犅／犜１２３３２—２００８／犐犛犗４５２６：２００４

引言

工程用鎳電鍍層具有多方面的應用，如提高硬度、耐磨性、耐蝕性、承載性能、抗熱氧化性、抗腐蝕疲

勞性能及其他表面性能的改進。電鍍鎳也在工程中用于修復磨損的或超差的機加工件以及與其他金屬

覆蓋層組合為擴散阻擋層。工程用鎳電鍍層一般含鎳高于９９％，其通常采用不加添加劑的瓦特鎳或氨

基磺酸鎳槽液進行電鍍。附錄Ａ給出了典型槽液的組成、操作條件及鍍層的力學性能。

要求提高硬度、增強耐磨性、改善電沉積內(nèi)應力及增強整平性能時，可以向溶液中加入如碳化硅、碳

化鎢、氧化鋁、碳化鉻的微粒及其他物質(zhì)。當鍍層最終使用溫度為低溫或中溫時，可添加含硫有機添加

劑來提高硬度和降低殘余內(nèi)應力。含硫鎳電鍍層在高溫下暴露會導致鍍層變脆和開裂，其影響與溫度

有關(guān)。熱處理時間足夠長時，１５０℃下這種影響可能很明顯。

一個顯著的趨勢是工程用鎳合金電鍍工藝的應用逐漸增多，這包括鎳與鈷、鐵、錳、鉬、磷、鎢組成的

二元合金。

Ⅳ

犌犅／犜１２３３２—２００８／犐犛犗４５２６：２００４

金屬覆蓋層工程用鎳電鍍層

１范圍

本標準規(guī)定了黑色和有色金屬上的工程用鎳和鎳合金電鍍層的要求。

本標準不適用于鎳為小組分的二元鎳合金電鍍層。

標識提供了一種表示工程用鎳及鎳合金電鍍層的類型和厚度的方法。

２規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有

的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本標準，然而，鼓勵根據(jù)本標準達成協(xié)議的各方研究

是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標準。

ＧＢ／Ｔ３１３８金屬鍍覆和化學處理與有關(guān)過程術(shù)語（ＧＢ／Ｔ３１３８—１９９５，ｎｅｑＩＳＯ２０７９：１９８１）

ＧＢ／Ｔ４９５５金屬覆蓋層覆蓋層厚度測量陽極溶解庫侖法（ＧＢ／Ｔ４９５５—２００５，ＩＳＯ２１７７：

２００３，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ５２７０金屬基體上的金屬覆蓋層電沉積和化學沉積層附著力強度試驗方法評述

（ＧＢ／Ｔ５２７０—２００５，ＩＳＯ２８１９：１９８０，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ６４６１金屬基體上金屬和其他無機覆蓋層經(jīng)腐蝕試驗后的試樣和試件的評級

（ＧＢ／Ｔ６４６１—２００２，ＩＳＯ１０２８９：１９９９，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ６４６２金屬和氧化物覆蓋層厚度測量顯微鏡法（ＧＢ／Ｔ６４６２—２００５，ＩＳＯ１４６３：２００３，

ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ６４６３金屬和其他無機覆蓋層厚度測量方法評述（ＧＢ／Ｔ６４６３—２００５，ＩＳＯ３８８２：２００３，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ９７９０金屬覆蓋層及其他有關(guān)覆蓋層維氏和努氏顯微硬度試驗（ＧＢ／Ｔ９７９０—１９８８，

ｎｅｑＩＳＯ４５１６：１９８０）

ＧＢ／Ｔ１２３３４金屬和其他非有機覆蓋層關(guān)于厚度測量的定義和一般規(guī)則（ＧＢ／Ｔ１２３３４—２００１，

ＩＳＯ２０６４：１９９３，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ１２６０９電沉積金屬覆蓋層和相關(guān)精飾計數(shù)檢驗抽樣程序（ＧＢ／Ｔ１２６０９—２００５，

ＩＳＯ４５１９：１９８０，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ１３７４４