2025年無損檢測員(高級技師)無損檢測技術試卷（附答案）一、單項選擇題（共20題，每題2分，共40分。每題只有一個正確選項）1.對于厚度為30mm的Q345R鋼對接焊縫超聲檢測，采用2.5MHz、K2斜探頭（有機玻璃楔塊），已知鋼中橫波聲速為3230m/s，有機玻璃中縱波聲速為2730m/s，探頭折射角計算值為（）A.45°B.60°C.70°D.75°答案：B解析：根據(jù)折射定律，sinβ/CL有機玻璃=sinα/CS鋼，代入數(shù)據(jù)得sinβ=(2730/3230)×sinα（K2對應α=63.4°），計算得β≈60°。2.下列關于數(shù)字射線檢測（DR）的說法中，錯誤的是（）A.圖像分辨率受探測器像素尺寸影響B(tài).透照厚度比可大于傳統(tǒng)膠片射線檢測C.動態(tài)范圍通常大于1000:1D.無需暗室處理，但需定期校準探測器答案：B解析：DR檢測的透照厚度比受探測器動態(tài)范圍限制，通常小于膠片檢測（膠片厚度比可達1:4~1:5，DR一般為1:3左右）。3.磁粉檢測中，采用交流電磁軛檢測厚鋼板表面缺陷時，有效檢測區(qū)域為（）A.兩磁極連線兩側(cè)各50mm，磁極中心連線長度范圍內(nèi)B.兩磁極連線兩側(cè)各25mm，磁極中心連線長度范圍內(nèi)C.兩磁極連線兩側(cè)各75mm，磁極中心連線長度的1.5倍范圍內(nèi)D.兩磁極連線兩側(cè)各10mm，磁極中心連線長度的2倍范圍內(nèi)答案：A解析：根據(jù)NB/T47013.4-2023，交流電磁軛的有效檢測區(qū)域為兩磁極連線兩側(cè)各50mm，磁極中心連線長度范圍內(nèi)。4.滲透檢測中，若被檢工件表面存在機加工螺紋，應優(yōu)先選擇（）A.水洗型滲透劑B.后乳化型滲透劑C.溶劑去除型滲透劑D.熒光滲透劑答案：C解析：螺紋等復雜表面難以用水或乳化劑徹底清洗，溶劑去除型滲透劑可局部擦拭，避免過清洗。5.渦流檢測中，檢測銅管壁厚減薄時，最佳激勵頻率應選擇（）A.100HzB.1kHzC.10kHzD.100kHz答案：C解析：銅管電導率高（約58MS/m），壁厚檢測需滲透深度適中，根據(jù)滲透深度公式δ=503/√(fμrσ)（μr≈1），10kHz時δ≈0.5mm，適合檢測壁厚（通常1~3mm）。6.超聲檢測中，使用雙晶直探頭檢測板材分層缺陷時，兩晶片的偏置距離應（）A.小于近場區(qū)長度B.大于近場區(qū)長度C.等于近場區(qū)長度D.與近場區(qū)無關答案：B解析：雙晶直探頭通過一發(fā)一收減少近場干擾，偏置距離需大于近場區(qū)長度（約N=D2f/(4CS)），避免直達波影響。7.射線檢測中，使用Ir-192源透照厚度25mm的鋼焊縫，焦距600mm，若需將曝光時間縮短一半，可采用（）A.提高管電壓B.增加焦距至848mmC.降低源活度D.改用Co-60源答案：B解析：根據(jù)平方反比定律，I1/I2=(F2/F1)2，縮短時間一半需增加輻射強度一倍，即F2=F1×√2≈600×1.414≈848mm。8.磁粉檢測時，對直徑50mm的圓鋼進行周向磁化，采用直接通電法，電流值應選擇（）A.300AB.600AC.900AD.1200A答案：B解析：周向磁化電流公式I=K×D，K取12~20（鋼），D=50mm，I=12×50=600A（保守值）。9.下列缺陷中，超聲檢測時回波信號最尖銳的是（）A.氣孔B.夾渣C.裂紋D.未熔合答案：C解析：裂紋為面狀缺陷，垂直入射時回波高且尖銳；氣孔為球缺形，回波較低且圓潤；夾渣為不規(guī)則體積型，回波分散。10.滲透檢測質(zhì)量控制中，試塊應定期進行的試驗是（）A.靈敏度試驗B.水洗性試驗C.乳化時間試驗D.干燥時間試驗答案：A解析：試塊（如A型試塊）主要用于驗證滲透檢測系統(tǒng)的靈敏度，需定期進行靈敏度對比試驗。11.超聲檢測中，DAC曲線的作用是（）A.補償耦合損失和材質(zhì)衰減B.確定缺陷位置C.評定缺陷大小D.校準探頭角度答案：C解析：DAC（距離-波幅曲線）通過不同距離的標準反射體繪制，用于將實測缺陷波高與曲線比較，評定缺陷當量大小。12.射線檢測像質(zhì)計的放置位置應（）A.靠近射線源側(cè)工件表面B.靠近膠片側(cè)工件表面C.焊縫中心D.熱影響區(qū)答案：A解析：根據(jù)GB/T3323-2019，像質(zhì)計應放置在射線源側(cè)工件表面，以反映最嚴格的透照條件。13.渦流檢測中，提離效應會導致（）A.阻抗平面信號向電阻增加方向偏移B.阻抗平面信號向電抗增加方向偏移C.信號幅度降低，相位變化D.信號幅度增加，相位不變答案：C解析：提離增加時，線圈與工件耦合減弱，感應電流減小，阻抗中電阻分量（反映電導率）和電抗分量（反映磁導率/厚度）均變化，表現(xiàn)為信號幅度降低、相位偏移。14.磁粉檢測中，剩磁法適用于（）A.高矯頑力材料B.低矯頑力材料C.表面粗糙工件D.薄壁工件答案：A解析：剩磁法依賴材料剩磁，需材料矯頑力足夠大（如淬火鋼），低矯頑力材料（如軟鋼）剩磁小，需連續(xù)法。15.超聲檢測橫向裂紋時，最佳檢測方法是（）A.直探頭垂直入射B.斜探頭小角度（如K0.5）入射C.雙晶斜探頭D.表面波探頭答案：D解析：表面波沿工件表面?zhèn)鞑?，可有效檢測與表面平行的橫向裂紋（如焊縫橫向裂紋）。16.射線檢測中，散射線的主要來源是（）A.工件本身B.膠片暗盒C.射線機外殼D.周圍空氣答案：A解析：工件被射線照射時，內(nèi)部原子發(fā)生康普頓散射，產(chǎn)生大量散射線（約占總散射的80%以上）。17.滲透檢測后，若發(fā)現(xiàn)缺陷顯示呈連續(xù)直線狀，邊緣清晰，最可能的缺陷是（）A.氣孔B.裂紋C.夾渣D.未焊透答案：B解析：裂紋為開口缺陷，滲透劑吸附均勻，顯示為連續(xù)直線或曲線，邊緣清晰；氣孔為圓形或橢圓形顯示，夾渣為不規(guī)則塊狀。18.超聲檢測中，若發(fā)現(xiàn)缺陷波高位于DAC曲線的Ⅱ區(qū)（定量線與判廢線之間），應（）A.判廢B.記錄并評估C.忽略D.重新檢測答案：B解析：根據(jù)GB/T11345-2013，Ⅱ區(qū)為定量線與判廢線之間，需記錄缺陷尺寸、位置，結(jié)合標準評定是否允許存在。19.渦流檢測管道時，采用內(nèi)穿過式線圈，主要檢測（）A.外表面缺陷B.內(nèi)表面缺陷C.壁厚減薄D.分層缺陷答案：B解析：內(nèi)穿過式線圈的磁場集中于管道內(nèi)壁附近，對內(nèi)壁缺陷（如腐蝕坑）靈敏度更高。20.磁粉檢測中，使用非熒光磁粉時，檢測環(huán)境光照度應不低于（）A.500lxB.1000lxC.1500lxD.2000lx答案：B解析：NB/T47013.4-2023規(guī)定，非熒光磁粉檢測時，可見光照度不低于1000lx。二、判斷題（共10題，每題1分，共10分。正確打“√”，錯誤打“×”）1.超聲檢測中，橫波探頭的K值（折射角正切值）越大，近場區(qū)長度越長。（×）解析：近場區(qū)長度N=D2f/(4CS)，與K值無關（K=tanβ，β為折射角）。2.射線檢測時，提高管電壓可增加穿透能力，但會降低對比度。（√）解析：管電壓升高，射線能量增加，穿透厚度增大，但散射線增多，對比度（黑度差）降低。3.磁粉檢測中，交流電磁化的有效深度比直流電磁化深。（×）解析：交流電有趨膚效應，有效檢測深度（約3~5mm）小于直流電（可達20mm以上）。4.滲透檢測中，顯像時間過長會導致背景過深，影響缺陷顯示。（√）解析：顯像劑吸附滲透劑的時間過長，非缺陷區(qū)域的滲透劑也會被吸附，造成背景污染。5.渦流檢測中，絕對式線圈比差動式線圈更適合檢測局部缺陷。（×）解析：差動式線圈對局部缺陷（如單個腐蝕坑）更敏感，絕對式線圈適合檢測整體參數(shù)（如平均壁厚）。6.超聲檢測曲面工件時，需對耦合補償和缺陷定位進行修正。（√）解析：曲面會導致聲束擴散、耦合層厚度變化，需通過試塊校準或計算修正。7.射線檢測像質(zhì)計靈敏度為2-10，表示可檢測到厚度2%、長度10mm的缺陷。（×）解析：像質(zhì)計靈敏度2-10表示可識別像質(zhì)計中2%厚度（如25mm工件，絲徑0.5mm）、第10根絲（對應長度要求）。8.磁粉檢測時，工件表面的氧化皮會阻礙磁粉聚集，需徹底清除。（√）解析：氧化皮與工件結(jié)合不牢，磁粉易吸附在氧化皮上形成偽顯示，需打磨至金屬光澤。9.滲透檢測后，若工件需進行熱處理，應在熱處理前完成檢測。（√）解析：熱處理可能導致缺陷閉合（如焊接裂紋在高溫下氧化封閉），滲透劑無法滲入，影響檢測效果。10.超聲檢測中，使用數(shù)字式儀器時，存儲的A掃描信號可直接作為缺陷評定依據(jù)。（×）解析：需結(jié)合儀器校準狀態(tài)、探頭參數(shù)、掃查方式等綜合評定，存儲信號僅為記錄。三、簡答題（共5題，每題8分，共40分）1.簡述超聲相控陣（PAUT）檢測相對于常規(guī)超聲檢測的優(yōu)勢及適用場景。答案：優(yōu)勢：①聲束角度、聚焦深度可電子控制，無需更換探頭；②多晶片同時激發(fā)，檢測速度快；③可形成B掃描、C掃描圖像，缺陷定位定量更直觀；④對復雜形狀工件（如彎頭、T型接頭）適應性強。適用場景：厚壁容器焊縫檢測、異種金屬焊接接頭檢測、核電站管道在役檢測、復雜結(jié)構(gòu)件的高精度檢測。2.射線檢測中，如何選擇合適的透照方式（單壁單影、雙壁單影、雙壁雙影）？答案：選擇依據(jù)：①工件厚度：單壁單影（T≤80mm）適用于厚壁工件，成像質(zhì)量高；②結(jié)構(gòu)限制：雙壁單影（如小直徑管道，Φ≤89mm）適用于無法單面透照的情況；③檢測效率：雙壁雙影（如Φ≤100mm管道）通過一次透照覆蓋整圈焊縫，效率高。需綜合考慮透照厚度比（K值）、像質(zhì)計靈敏度、缺陷檢出率，優(yōu)先選擇單壁單影（K≤1.03），無法實現(xiàn)時采用雙壁單影（K≤1.1），小直徑管道采用雙壁雙影（橢圓成像或重疊成像）。3.磁粉檢測中，如何區(qū)分偽顯示與真實缺陷顯示？答案：①觀察顯示形態(tài)：真實缺陷顯示（如裂紋）呈連續(xù)細線狀，邊緣清晰；偽顯示（如劃痕、氧化皮）多為斷續(xù)、模糊或規(guī)則形狀（如工件邊緣的磁痕）。②重復檢測：清除磁粉后重新磁化，真實缺陷會再次顯示，偽顯示可能消失。③表面檢查：用放大鏡觀察工件表面，劃痕、凹坑等物理缺陷會導致偽顯示，無物理缺陷的磁痕多為真實缺陷。④斷電檢查：剩磁法檢測時，斷電后磁痕若消失，為偽顯示（由漏磁場引起）；若保留，可能為真實缺陷（剩磁吸附）。4.滲透檢測中，影響檢測靈敏度的主要因素有哪些？答案：①滲透劑性能：滲透力（表面張力小）、對比度（熒光或著色強度）、清洗性（不易過清洗）；②工件表面狀態(tài)：粗糙度（Ra≤12.5μm）、污染（油污、氧化皮需清除）；③滲透時間（一般10~30min，厚工件延長）；④清洗效果（水洗型需控制水壓，后乳化型需控制乳化時間）；⑤顯像劑厚度（均勻薄層，過厚會掩蓋缺陷）；⑥觀察條件（熒光檢測暗室光照≤20lx，可見光照度≥1000lx）。5.渦流檢測中，如何抑制提離效應的干擾？答案：①采用提離補償技術：儀器通過電子電路或軟件對提離引起的阻抗變化進行補償，保持信號穩(wěn)定性；②固定探頭提離距離：使用機械裝置（如彈簧支架）確保探頭與工件表面距離恒定；③選擇高頻率激勵：高頻時提離效應影響范圍小（滲透深度淺），但需兼顧檢測深度；④差動式線圈：通過兩個線圈的信號差抵消提離引起的共模干擾；⑤校準試塊模擬提離：在標準試塊上加工不同提離高度的人工缺陷，建立補償曲線。四、綜合分析題（共2題，每題10分，共20分）1.某石化企業(yè)一臺20R鋼制反應釜（設計壓力16MPa，介質(zhì)氫氣，設計溫度350℃），筒體縱焊縫為V型坡口，厚度25mm，需進行制造階段無損檢測。請制定超聲檢測（UT）和射線檢測（RT）的聯(lián)合檢測工藝，并說明關鍵參數(shù)選擇依據(jù)。答案：（1）超聲檢測工藝：①探頭選擇：2.5MHz、K2斜探頭（橫波，折射角60°），晶片尺寸13×13mm（兼顧近場長度和指向性）；②試塊：CSK-ⅢA標準試塊（模擬25mm厚焊縫，人工反射體為Φ1×6mm橫孔）；③檢測靈敏度：基于DAC曲線，定量線（SL）為Φ1×6mm-6dB，判廢線（RL）為Φ1×6mm+2dB；④掃查方式：鋸齒形掃查，掃查速度≤150mm/s，相鄰掃查線重疊≥15%；⑤耦合劑：甘油（高溫下性能穩(wěn)定，避免水對焊縫的腐蝕）；⑥缺陷評定：超過定量線的缺陷需記錄位置、波幅、長度（6dB法或端點衍射法），超過判廢線的缺陷需返修。（2）射線檢測工藝：①射線源：Ir-192（能量0.35~0.61MeV，適合25mm鋼的穿透）；②透照方式：單壁單影，焦距600mm（≥10d2/T=10×(2.5)2/25=2.5mm，滿足幾何不清晰度Ug≤0.2mm）；③膠片：T2類（高對比度，適合中等厚度工件）；④增感屏：鉛箔增感屏（前屏0.1mm，后屏0.1mm），增強感光效率；⑤像質(zhì)計：線型像質(zhì)計（Fe系列），放置于射線源側(cè)工件表面，鋼絲編號應顯示≥10（對應靈敏度2%）；⑥曝光參數(shù)：源活度370GBq，曝光時間15min（根據(jù)曝光曲線確定）；⑦黑度：1.5~4.0（符合GB/T3323-2019要求）；⑧缺陷評定：按JB/T4730-2023，Ⅰ級片允許缺陷（氣孔、夾渣尺寸≤0.3T且≤2mm