041YB中華人民共和國(guó)黑色治金行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)YB/T172一2000硅磚定量相分析X射線衍射法Phasequantitativeanalysisofsilicabricks-X-raydiffractionmethod2000-07-26發(fā)布2000-12-01實(shí)施國(guó)家治金工業(yè)局發(fā)布

YB/T172-2000前本標(biāo)準(zhǔn)在內(nèi)容上部分參考了我國(guó)JG/T629-19894國(guó)家計(jì)量檢定規(guī)程！多品義射線衍射儀》、在非金屬材料特別是硅磚中殘存石英含量的測(cè)定目前尚無(wú)標(biāo)準(zhǔn)，而硅磚中殘余石英的含量是衡量硅磚質(zhì)量的重要指標(biāo)，對(duì)硅磚的生產(chǎn)控制及產(chǎn)品質(zhì)量檢驗(yàn)起到促進(jìn)作用。本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A為標(biāo)準(zhǔn)的附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)耐火材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：洛陽(yáng)耐火材料研究院、北京焦化廠山西孟縣西小坪耐火材料有限公司。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：任剛偉、張熊榮、高宜欽、趙孟喜

中華人民共和國(guó)黑色治金行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)硅磚定量相分析X射線衍射法YB/T172—2000PhasequantitativeanalysisofsilicabricksX-raydiffractionmethod本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅磚X射線定量相分析的定義、原理、儀器設(shè)備、標(biāo)樣、試樣制備、定城分析、試驗(yàn)報(bào)告本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅磚中石英、方石英及殘余石英的定量分析引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)，所示版本均為為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。JJG/T629-1989國(guó)家計(jì)量檢定規(guī)程，多晶X射線衍射儀3定義本標(biāo)準(zhǔn)采用下列定義，3.1X射線強(qiáng)度X-rayintensityX射線衍射分析中的強(qiáng)度系指扣除背景后衍射峰的積分強(qiáng)度，也可用衍射峰的面積來(lái)表示3.2分析線analysislines需要對(duì)其強(qiáng)度進(jìn)行測(cè)量并據(jù)此判定被分析物相含量的特征譜線，3.3同素異形體polymorph組成相同而結(jié)構(gòu)不同的礦物，如鱗石英、方石英、。-石英的組成均為Si.，但結(jié)構(gòu)各不相同。3.4擇優(yōu)取向preferredorientation非金屬材料由于試樣粒度粗或壓制試樣時(shí)用力過(guò)大等使某一衍射面的衍射強(qiáng)度反常而增大。原理及計(jì)算公式對(duì)多相混合試樣進(jìn)行X射線衍射測(cè)量時(shí)，待測(cè)相的X射線衍射強(qiáng)度與該相在試樣中的含量成正比，與多相混合試樣的質(zhì)量吸收系數(shù)成反比。硅磚中鱗石英、方石英及殘余石英均為二氧化硅的同素異形體，采用外標(biāo)法商便易行，可用微機(jī)直接進(jìn)行數(shù)據(jù)處理。如果沒(méi)有計(jì)算軟件可按下列公式計(jì)算：Tx·（Ki）100式中：Wx-試樣中待測(cè)相的重量百分?jǐn)?shù)，%；試樣中待