中華人民共和國國家計量技術(shù)規(guī)范

JJF1967—2022

激光衍射法反射光柵

校準(zhǔn)規(guī)范

CalibrationSpecificationforReflectionGratings

byLaserDiffraction

2022-04-29發(fā)布2022-10-29實(shí)施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

JJF1967—2022

激光衍射法反射光柵

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歸口單位全國新材料與納米計量技術(shù)委員會

:

主要起草單位中國計量科學(xué)研究院

:

參加起草單位同濟(jì)大學(xué)

:

本規(guī)范委托全國新材料與納米計量技術(shù)委員會負(fù)責(zé)解釋

JJF1967—2022

本規(guī)范主要起草人

:

殷聰中國計量科學(xué)研究院

()

石春英中國計量科學(xué)研究院

()

參加起草人

:

王建波中國計量科學(xué)研究院

()

程鑫彬同濟(jì)大學(xué)

()

鄧曉同濟(jì)大學(xué)

()

JJF1967—2022

目錄

引言

………………………(Ⅱ)

范圍

1……………………(1)

引用文件

2………………(1)

術(shù)語和計量單位

3………………………(1)

光柵

3.1…………………(1)

反射光柵

3.2……………(1)

間距

3.3…………………(1)

平均間距

3.4……………(1)

利特羅結(jié)構(gòu)

3.5…………(1)

利特羅角

3.6……………(1)

二維光柵正交性

3.7……………………(1)

概述

4……………………(2)

計量特性

5………………(2)

校準(zhǔn)條件

6………………(2)

環(huán)境條件

6.1……………(2)

測量標(biāo)準(zhǔn)及其他設(shè)備

6.2………………(3)

校準(zhǔn)項目和校準(zhǔn)方法

7…………………(3)

一維反射光柵平均間距

7.1……………(3)

二維反射光柵平均間距

7.2……………(4)

二維反射光柵正交性

7.3………………(4)

校準(zhǔn)結(jié)果表達(dá)

8…………(5)

復(fù)校時間間隔

9…………(5)

附錄校準(zhǔn)記錄內(nèi)容

A…………………(6)

附錄校準(zhǔn)證書內(nèi)頁內(nèi)容

B……………(11)

附錄不確定度評定示例

C……………(13)

附錄衍射法測量反射光柵間距的原理

D……………(22)

Ⅰ

JJF1967—2022

引言

本規(guī)范依據(jù)通用計量術(shù)語及定義國家計量校準(zhǔn)規(guī)范編寫

JJF1001《》、JJF1071《

規(guī)則編制參考了納米技術(shù)人造光柵的描述測量和幾何

》,IEC/TS62622:2012《,

量的質(zhì)量參數(shù)

》(Nanotechnologies—Description,measurementanddimensionalquality

一維光柵比對

parametersofartificialgratings)、Nano4(Nano4comparisonon1Dgrat-

二維光柵比對測量不確定度的評

ings)、Nano5(Nano5comparisonon2Dgratings),

定按照測量不確定度評定與表示進(jìn)行

JJF1059.1《》。

本規(guī)范為首次發(fā)布

。

Ⅱ

JJF1967—2022

激光衍射法反射光柵

校準(zhǔn)規(guī)范

1范圍

本規(guī)范適用于平均間距為能觀測到衍射現(xiàn)象的一維或二維反

(140~2000)nm、

射光柵的校準(zhǔn)

。

2引用文件

本規(guī)范引用了下列文件

:

光學(xué)儀器術(shù)語

GB/T13962—2009

凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本規(guī)范凡是不注日期的引用文

,;

件其最新版本包括所有的修改單適用于本規(guī)范

,()。

3術(shù)語和計量單位

光柵

3.1grating

一種表面排列大量精細(xì)的相互平行的等距的周期性的相同的結(jié)構(gòu)的光學(xué)器

、、、、

件其周期性結(jié)構(gòu)既可以是直線陣列也可以是沿直線排列的點(diǎn)陣

。,。

注:此處光柵的定義與/—《光學(xué)儀器術(shù)語》中光柵的定義不同。此處的

GBT1396220096.139

定義僅針對被校準(zhǔn)對象的特征。

反射光柵

3.2reflectiongrating

入射光與衍射光在光柵工作面同一側(cè)的衍射光柵

。

間距

3.3pitch

光柵上相鄰結(jié)構(gòu)之間的距離

。

注:單位為。

1nm

注:一般用結(jié)構(gòu)的中心距確定間距,有些情況下也可以用結(jié)構(gòu)的邊界確定間距。