標準解讀

《YS/T 871-2013 高純鋁化學分析方法 痕量雜質元素的測定 輝光放電質譜法》是一項針對高純鋁中痕量雜質元素進行檢測的標準。該標準詳細規(guī)定了利用輝光放電質譜（GDMS）技術來分析高純度鋁材料中的微量雜質成分的方法流程，適用于99.99%及以上純度級別的鋁樣品。

標準首先明確了適用范圍，指出其主要用于評價和控制生產(chǎn)過程中或成品階段高純鋁的質量，尤其是對于那些對材料純凈度有嚴格要求的應用場景而言尤為重要。接著，在術語與定義部分，給出了本文件所使用的關鍵詞匯的確切含義，確保所有讀者都能準確理解后續(xù)內(nèi)容。

在原理方面，《YS/T 871-2013》解釋了如何通過輝光放電將固體樣品表面原子化，并利用質譜儀實現(xiàn)不同元素離子的分離及定量測量。這種方法能夠有效識別并測定出包括鐵、銅、鎂等在內(nèi)的多種潛在污染物。

實驗步驟被細分為樣品準備、儀器設置、測試條件選擇等多個環(huán)節(jié)，每一步都給出了具體的操作指南以及可能影響結果準確性的因素說明。例如，在樣品制備時需注意避免外界污染；而關于設備參數(shù)的選擇，則強調(diào)根據(jù)實際樣品特性和所需檢測精度靈活調(diào)整。

此外，該標準還特別強調(diào)了質量控制的重要性，提出了定期校準儀器、參與實驗室間比對試驗等多項措施以保證數(shù)據(jù)可靠性。同時，也提供了處理異常情況的方法建議，比如當發(fā)現(xiàn)背景信號過強或者目標峰形不理想時應采取的應對策略。


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  • 廢止
  • 已被廢除、停止使用，并不再更新
  • 2013-04-25 頒布
  • 2013-09-01 實施
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YS/T 871-2013高純鋁化學分析方法痕量雜質元素的測定輝光放電質譜法_第1頁
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文檔簡介

ICS7712040

H13..

中華人民共和國有色金屬行業(yè)標準

YS/T871—2013

高純鋁化學分析方法

痕量雜質元素的測定

輝光放電質譜法

Chemicalanalysisofhighpurityaluminium—

Determinationoftraceimpurities—

Glowdischargemassspectrometry

2013-04-25發(fā)布2013-09-01實施

中華人民共和國工業(yè)和信息化部發(fā)布

YS/T871—2013

前言

本標準按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標準由全國有色金屬標準化技術委員會歸口

(SAC/TC243)。

本標準起草單位北京有色金屬研究總院新疆眾和股份有限公司金川新材料科技股份有限公司

:、、、

山東兗礦輕合金有限公司

。

本標準主要起草人李愛嫦劉紅李繼東孫澤明劉英洪濤肖麗梅周維宋玉萍戴珍珍

:、、、、、、、、、、

秦芳林邱平

、。

Ⅰ

YS/T871—2013

高純鋁化學分析方法

痕量雜質元素的測定

輝光放電質譜法

1范圍

本標準規(guī)定了采用高質量分辨率輝光放電質譜法測定高純鋁中痕量元素的測試方法

。

本標準適用于高純鋁中痕量元素含量的測定各元素測定范圍為-7-3

。5.0×10%~1.0×10%

ω

(%)。

2方法提要

將一個作為陰極的試樣安裝到等離子體放電室利用惰性氣體氬氣在高壓條件下電離產(chǎn)生的離

,()

子撞擊樣品表面使之發(fā)生濺射從試樣表面濺射出來的原子被離子化通過雙聚焦扇形磁場質量分析儀

,,

聚焦為離子束進而被質譜分析器收集檢測在每一元素質量數(shù)處以預設的掃描點數(shù)和積分時間對相

,。

應譜峰積分所得面積即為譜峰強度依據(jù)式由儀器軟件計算出雜質元素的含量

,。(1)。

3試劑與材料

31乙醇ρ優(yōu)級純

.(=0.789g/mL),。

32鹽酸ρ優(yōu)級純

.(=1.19g/mL),。

33鹽酸

.(1+1)。

34氮氣ω

.[(N2)]≥99.99%。

35氬氣ω

.[(Ar)]≥99.99%。

36去離子水電阻率要求達到

.:18.2MΩ·cm。

37高純鋁標準物質條件允許的情況下利用高純鋁標準物質生成待測元素的相對靈敏度因子RSFx

.:,。

4儀器

41高分辨率輝光放電質譜儀質量分辨率可達到

.(GDMS):9000。

42機械加工設備能夠使樣品和參比樣品制成所需的幾何形狀并得到光滑的表面

.,。

5試樣

51試樣具有均勻性和代表性

.。

52試樣不應采取母材的表面將試樣制備成為塊狀要求至少有一個用于輝光放電的光滑平面試樣

.,,;

大小要求能放入輝光放電樣品夾空腔內(nèi)并且其光滑平面能覆蓋住樣品夾上的放電孔試樣的厚度要求

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