ICS7704099

H21..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T31353—2014

藍(lán)寶石襯底片彎曲度測試方法

Testmethodsforbowofsapphiresubstrates

2014-12-31發(fā)布2015-09-01實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T31353—2014

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識別這些專利的責(zé)任

。。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會和全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)

(SAC/TC203)

化技術(shù)委員會材料分會共同提出并歸口

(SAC/TC203/SC2)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位江蘇協(xié)鑫軟控設(shè)備科技發(fā)展有限公司中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所

:、、

北京合能陽光新能源技術(shù)有限公司

。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人薛抗美魏明德黃修康杭寅林清香肖宗杰

:、、、、、。

Ⅰ

GB/T31353—2014

藍(lán)寶石襯底片彎曲度測試方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了藍(lán)寶石切割片研磨片拋光片以下簡稱藍(lán)寶石襯底片彎曲度的測試方法

、、()。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于直徑厚度為不小于的藍(lán)寶石襯底片彎曲度的測試

50.8mm~304.8mm,200μm。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第部分按接收質(zhì)量限檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃

GB/T2828.11:(AQL)

硅片彎曲度測試方法

GB/T6619

半導(dǎo)體材料術(shù)語

GB/T14264

3術(shù)語和定義

界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件

GB/T14264。

31

.

彎曲度bow

自由無夾持晶片中位面的中心點(diǎn)與中位面基準(zhǔn)平面間的偏離

。

32

.

中位面基準(zhǔn)平面mediansurfacereferenceplane

由指定的小于晶片標(biāo)稱直徑的直徑圓周上的個(gè)等距離點(diǎn)決定的平面

3。

4方法提要

41接觸式測試

.

將藍(lán)寶石襯底片放置在基準(zhǔn)環(huán)的個(gè)支點(diǎn)上支點(diǎn)形成一個(gè)基準(zhǔn)平面利用低壓力位移指示器測

3,3,

試藍(lán)寶石襯底片中心點(diǎn)偏離基準(zhǔn)平面的距離翻轉(zhuǎn)襯底片重復(fù)測試兩次測試值之差的一半表示襯底

,,。

片的彎曲度

。

42非接觸式測試

.

將藍(lán)寶石襯底片放置在基準(zhǔn)環(huán)的個(gè)支點(diǎn)上個(gè)支點(diǎn)形成一個(gè)基準(zhǔn)平面利用非接觸式位移傳感

3,3,

器測試藍(lán)寶石襯底片中心點(diǎn)偏離基準(zhǔn)平面的距離翻轉(zhuǎn)襯底片重復(fù)測試兩次測試值之差的一半表示

,,。

襯底片的彎曲度

。

43白光干涉式測試

.

激光照射藍(lán)寶石襯底片表面光經(jīng)過反射相互疊加干涉干涉圖經(jīng)光學(xué)成像系統(tǒng)記錄開始高低形

,,,

貌測試物鏡在軸方向上不斷微小的移動在每個(gè)移動位置上光學(xué)成像系統(tǒng)進(jìn)行拍照收集