中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析一、光刻機(jī)加工概述芯片前道工藝七大設(shè)備包括光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、鍍膜設(shè)備、量測(cè)設(shè)備、清洗機(jī)、離子注入機(jī)以及其他設(shè)備，光機(jī)機(jī)主要作用為將掩膜版上的芯片電路轉(zhuǎn)移到硅片，是IC制造最為核心環(huán)節(jié)。光刻機(jī)分為三類:一是主要用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī);二是用于封裝的光刻機(jī);三是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。其中用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)涉及眾多世界先進(jìn)技術(shù),中國(guó)光刻機(jī)與國(guó)外頂尖光刻機(jī)存在的差距比較明顯。光刻工藝定義了半導(dǎo)體器件的尺寸，是IC制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。作為芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的步驟，光刻工藝難度最大、耗時(shí)最長(zhǎng)，芯片在生產(chǎn)過(guò)程中一般需要進(jìn)行20~30次光刻，耗費(fèi)時(shí)間約占整個(gè)硅片工藝的40～60%，成本極高，約為整個(gè)硅片制造工藝的1/3。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測(cè)等工序。二、光刻機(jī)市場(chǎng)結(jié)構(gòu)光刻機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備，也是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量最高的設(shè)備，包含上萬(wàn)個(gè)零部件，集合了數(shù)學(xué)、光學(xué)、流體力學(xué)、高分子物理與化學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、機(jī)械、自動(dòng)化、軟件、圖像識(shí)別領(lǐng)域等多項(xiàng)頂尖技術(shù)。作為整個(gè)芯片工業(yè)制造中必不可少的精密設(shè)備——光刻機(jī)，其光刻的工藝水平直接決定芯片的制程和性能水平，因此光刻機(jī)更是被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。資料來(lái)源;公開資料整理光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模的增量主要來(lái)自EUV，全球銷量占比27%的EUV與ArFimmersion占光刻機(jī)市場(chǎng)銷售額的82%。2020年EUV光刻機(jī)銷量31臺(tái)占比8%，銷售額55億美元同比增長(zhǎng)76%，占光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模的比例為41%；ArFi銷量80臺(tái)占19%，銷售額估計(jì)54億美元同比下降7%，但占全球光刻機(jī)市場(chǎng)的40%。值得注意的是，EUV數(shù)量占比最小，而金額占比最小，i-Line市場(chǎng)數(shù)量占比最高為34%，而金額占比僅為3%，體現(xiàn)出工業(yè)不同的價(jià)格差距，高端光刻機(jī)工藝壟斷，下游具備較強(qiáng)議價(jià)權(quán)，而低端產(chǎn)品雖然銷量較高，然而市場(chǎng)價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)激烈，價(jià)格較低。三、國(guó)產(chǎn)化狀況全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)復(fù)蘇,受益于下游晶圓巨大需求、服務(wù)器云計(jì)算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展,帶動(dòng)相關(guān)芯片的需求,2020年光刻機(jī)銷售額與銷量增速穩(wěn)定提升。數(shù)據(jù)顯示2020年全球光刻機(jī)銷量為413臺(tái)，總銷售額為109億美元，隨著下游市場(chǎng)需求持續(xù)升高，預(yù)計(jì)2021全球市場(chǎng)仍將持續(xù)增長(zhǎng)。全球光刻機(jī)市場(chǎng)主要由荷蘭的阿斯麥(ASML)、日本尼康和佳能三家把持，其中ASML更是全球絕對(duì)龍頭，市占率83.3%，幾乎壟斷了高端光刻機(jī)（EUV）市場(chǎng)。日本尼康和佳能產(chǎn)品主要為中低端機(jī)型。國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)領(lǐng)域中，上海微電子(SMEE)一枝獨(dú)秀。2018年3月，上海微電子承擔(dān)的“02專項(xiàng)”的“90nm光刻機(jī)樣機(jī)研制”順利通過(guò)驗(yàn)收，正在攻關(guān)“28nm光刻機(jī)”，成為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的優(yōu)秀代表。四、國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)破局之路隨著中國(guó)大陸代工廠的不斷擴(kuò)建，未來(lái)對(duì)于國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的需求不斷提升，而當(dāng)前國(guó)內(nèi)與國(guó)外頂尖光刻機(jī)制程仍存在較大差距，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)應(yīng)從如下幾個(gè)方面尋求突破：1、產(chǎn)業(yè)分工：國(guó)內(nèi)涉及相關(guān)光刻機(jī)零部件的企業(yè)形成產(chǎn)業(yè)分工，各取所長(zhǎng)研發(fā)、提供相應(yīng)的技術(shù)和零部件；2、科研投入：目前國(guó)內(nèi)企業(yè)仍存有買辦思維，光刻機(jī)作為人類智慧的結(jié)晶，高科技產(chǎn)物，科研投入必不可少；3、技術(shù)突破：匯集頂尖人才對(duì)于核心技術(shù)優(yōu)先突破；4、人才積累：注重獎(jiǎng)勵(lì)機(jī)制。整體而言，目前全球光刻設(shè)備的格局是：ASML一家獨(dú)占鰲頭，成為唯一的一線供應(yīng)商，旗下產(chǎn)品覆蓋了全部級(jí)別的光刻機(jī)設(shè)備；Nikon高開低走，但憑借多年技術(shù)積累，勉強(qiáng)保住二線供應(yīng)商地位；而Canon只能屈居三線；上海微電子裝備（SMEE）作為后起之秀，暫時(shí)只能提供低端光刻設(shè)備，由