Tc9.31200中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T16527-1996硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑規(guī)范Specificationforphotoresist/E-beamresistforhardsurfacephotoplates1996-09-09發(fā)布1997-05-01實施國家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

GB/T16527-1996前三本標(biāo)準(zhǔn)等效采用SEMI標(biāo)準(zhǔn)SEMIP3—90《硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑規(guī)范》.本標(biāo)準(zhǔn)第5章要求中5.2條和5.3條均按SEMIP3-90制定，且根據(jù)產(chǎn)品使用方的需要，增加了5.1條抗蝕劑涂層性能。SEMI標(biāo)準(zhǔn)是半導(dǎo)體設(shè)備和材料國際標(biāo)準(zhǔn),具有較高的科學(xué)性和先進性，內(nèi)容全面，標(biāo)準(zhǔn)配套。本標(biāo)準(zhǔn)與已經(jīng)轉(zhuǎn)化為我國標(biāo)準(zhǔn)的SEMIP1-92《硬面光掩模基板》（GB/T15871一1995）、SEMIP2一86《硬面光掩模用鉻薄膜》（GB/T15870—1995)、SEMIP4-92圓形石英玻璃光拖模基板規(guī)范》(GB/T16523-1996)、SEMIP6-88《光推模對準(zhǔn)標(biāo)記規(guī)范》GB/T16524-1996)及準(zhǔn)備轉(zhuǎn)化為我國標(biāo)準(zhǔn)的SEMIP21-92《拖模瞬光系統(tǒng)準(zhǔn)確度表示準(zhǔn)則》、SEMIP19—92《用于集成電路制造技術(shù)的檢測圖形單元規(guī)范》等項標(biāo)準(zhǔn)形成一個微型構(gòu)圖標(biāo)準(zhǔn)系列。本標(biāo)準(zhǔn)附錄A是提示的附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國電子工業(yè)部提出。本標(biāo)準(zhǔn)由電子工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)化研究所歸口，本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：長沙韶光微電子總公司、電子工業(yè)部標(biāo)準(zhǔn)化研究所.本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：談仁良、吳保華、王亦林、韓艷芬、

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)硬面感光板中光致抗蝕劑和GB/T16527-1996電子束抗蝕劑規(guī)范Specificationforphotoresist/E-beamresistforhardsurfacephotoplates1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑涂層的要求、試驗方法等內(nèi)容本標(biāo)準(zhǔn)適用于硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑的涂層檢驗引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)淮出版時，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。GB191一90包裝儲運圖示標(biāo)志GB2828—87逐批檢查計數(shù)抽樣程序及抽樣表(適用于連續(xù)批的檢查)GB2829—87周期檢查計數(shù)抽樣程序及抽樣表(適用于生產(chǎn)過程穩(wěn)定性的檢查)GB7238—87玻璃及鉻版表面平整度的測試方法GB7239—87鉻版鉻膜和膠膜厚度的測試方法GB/T15871一1995硬面光搶?；錑B/T15870—1995硬面光掩模用鉻薄膜SJ/T10584—94微電子學(xué)光拖蔽技術(shù)術(shù)語3定義本標(biāo)準(zhǔn)采用SJ/T10584中的定義。4分類與命名抗蝕劑涂層符合本標(biāo)準(zhǔn)的硬面感光板基板應(yīng)滿足GB/T15871和GB/T15870規(guī)定的要求?？刮g劑的分類與型號命名按附錄A(提示的附錄)規(guī)定，主要依據(jù)如下(訂貨文件中應(yīng)子注明)：a）抗蝕劑材料；b）在質(zhì)量區(qū)內(nèi)抗蝕劑的厚度及其公差；c）整個質(zhì)量區(qū)抗蝕劑的均勾性;d）板與板之間抗蝕