1、鍍膜員工試題庫填空題:1. 關(guān)機(jī)時(shí) , 關(guān)掉擴(kuò)散泵加熱，需要冷卻60 分種以上 時(shí)間才可以關(guān)掉總電源2. 我們正常鍍膜過程中鏡片需要鍍膜的一面應(yīng)該向下 放置。3. 寫出+XP的意思 向正方向調(diào)X方向位置4. 新科隆機(jī)SID1100中生產(chǎn)IR CUT濾色片，每層開鍍時(shí)，TiO2 材料的起始光控曲線方向向上，SiO2材料的光控曲線方向向下。5. 新科隆機(jī) SID1100 中的離子源 ， 有 3 片柵極 ，從上到下依次為 TOP ， MID ， BOT ; 柵極間總共有 12 片 陶瓷片絕緣 .6. 現(xiàn)在我們使用的鍍膜機(jī)光學(xué)控制方式有反射 式和 透射 式 兩種， 昭和機(jī)屬于 透射 式新科隆機(jī)屬于反射

2、式，光馳機(jī)屬于反射 式。7. 相同蒸發(fā)條件下，餅料的SIO2，和顆粒狀的SIO2，餅料的SiO2所需的蒸發(fā)功率要高。8. 比較下列膜料正常蒸發(fā)功率，由大到小排列：MgF2 H4 SiO2 H4 SiO2 MgF29. 選擇下列光學(xué)原理： a 、光的反射原理 b 、光的折射原理 c 、光的干涉原理 d 、光的投射原理（ 1）看到水中筷子是彎曲的 ， 利用光的 b （2）看到鏡子里自已像，利用光的a （3）光學(xué)薄膜利用光的 c10. 真空可以大致分為四段，分別為 初真空 、 低真空 、 高真空 、 超高真空11. 在真空的定義范圍內(nèi)，高真空度范圍是 10-1-10-6 Pa12. 電子槍分為 18

3、0槍和 270槍，而目前韓一機(jī)器的電子槍180 度，光馳機(jī)器的電子槍 180 度，昭和機(jī)器的電子槍 270 度，新柯隆機(jī)器的電子槍 180 度，13. 鏡片放到鍍膜機(jī)后，關(guān)門加熱抽真空，等到 真空度 和 溫度 到達(dá)，兩者都滿足設(shè)定要求后，機(jī)器才 能開始鍍膜。14目前我們鍍膜機(jī)有兩種厚度控制方法：晶振控制 和 光控控制 、15昭和機(jī)器在沒有放光控監(jiān)控片下鍍膜時(shí)，光控曲線直線 形狀16、報(bào)警程序中 PFC報(bào)警，其中PFC含義：POLYCOLD17、 當(dāng)擴(kuò)散泵指示燈閃爍時(shí)說明擴(kuò)散泵還在加熱中，還不能打開高閥。18、 當(dāng)擴(kuò)散泵指示燈不閃爍時(shí)說明擴(kuò)散泵已加熱完成 ，可以正常工作。19、寫出-YS的意思

4、減少Y方向電子槍光斑大小21、 鍍膜機(jī)中，膜層厚度的記錄單位是：埃（A）,與米（m）的換算關(guān)系是：10-10 ,速率的單位是：AS .22、 保持鍍膜機(jī)開門時(shí)間盡可能的短，是為了防止真空室內(nèi)部的護(hù)板吸附空氣中的水汽 ，使鍍膜機(jī)的 抽速變 慢 ，影響產(chǎn)品的品質(zhì)。23、 薄膜微觀結(jié)構(gòu)是柱狀 結(jié)構(gòu)，為了改善膜層結(jié)構(gòu)，提高聚集密度，分別出現(xiàn)了三種成膜工藝離子輔助 、 反應(yīng)離子鍍 、 濺射24 光學(xué)鍍膜機(jī)真空排氣系統(tǒng)中，機(jī)械泵排氣原理： 機(jī)械壓縮排除氣體擴(kuò)散泵排氣原理： 靠蒸汽射流攜 帶排除氣體25、 POLYCOL工作原理：利用低溫表面對氣體進(jìn)行物理吸附排氣26、 寫出下列薄膜種類符號：（ 1 ）減反

5、膜（ 2）、分束膜（ 3）內(nèi)反射（ 4）偏振膜27、 寫出下列真空度轉(zhuǎn)換關(guān)系：1Pa= 10-2 Mbar= 0.75E-2 Torr 1Torr= 133 Pa= 1.33 Mbar28、 鍍單層MgF2,目前鍍的是500nm晶振厚度是1000A，而現(xiàn)在需要鍍550nm那么輸入晶振厚度約為1100 A29、 該層晶振厚度是 800A，現(xiàn)已鍍了 150A，由于某種原因充氣而需要加鍍，那么加鍍晶振厚度是650 A30、 寫出鍍膜機(jī)各控制閥門的中文名稱：MV 高閥 DP 擴(kuò)散泵 RV 粗抽閥 SLV 細(xì)充氣閥 FV 輔助閥31、 光學(xué)玻璃BK7折射率為1.517,則該玻璃表面單面反射率是4.219

6、% 。32、 真空規(guī)管測量原理通過氣體放電方式產(chǎn)生電子，通過磁場使電子獲得能量將氣體分子電離33、 石英晶體控制原理主要是利用了石英晶體的兩個(gè)效應(yīng)，即壓電效應(yīng)和質(zhì)量負(fù)荷效應(yīng)。34、 長波通膜系基本結(jié)構(gòu)公式A/（0.5HL0.5H）Ap/G短波通膜系基本結(jié)構(gòu)公式A/（0.5LH0.5L）Ap/G35、現(xiàn)配有 2 把電子槍，面向機(jī)器 左邊 為 EB1, 右邊 為 EB2.36、 正常新晶振的頻率為6 MHz 左右.37、一般情況下 , 真空達(dá)到 7.0 Pa 以上, 高閥才會(huì)自動(dòng)開啟 , 5E-3 Pa 時(shí), 可以預(yù)熔膜料 .38、 開機(jī)時(shí)，擴(kuò)散泵中的油溫需加熱到250 C左右，擴(kuò)散泵才能抽真空3

7、9、 氧氣瓶中氧氣的壓力須大于3 KG.40、若一個(gè)膜系 40層, 每個(gè)光控片控制 2層膜, 再備 2 片余量 ,總共需要放 22 片光控片 .41、鍍膜機(jī)開機(jī)前必須檢查 冷卻水 , 壓縮空氣 , 電 是否正常 , 是否穩(wěn)定供應(yīng)42、 晶振冷卻水的進(jìn)水溫度要求是：18 25 C43、 寫出下列膜料分子式：二氧化硅SiO2 氟化鎂 MgF2 二氧化鈦 TiO2 氧化鋁 AL2O344、 寫出下列膜料分子式的名稱：Ta2O5 五氧化二鉭 Nb2O5 五氧化二釹 SiO 一氧化硅 MgO 氧化鎂45、韓一鍍膜機(jī)有 2 個(gè)晶振頭，外 邊為 1 號 ，里 邊為 2 號。46、 在點(diǎn)檢機(jī)械泵、羅茨泵部件，

8、必須查看油位 是否滿足標(biāo)準(zhǔn)要求47、 打開鍍膜機(jī)時(shí)，必須給擴(kuò)散泵預(yù)加熱60 分鐘后才能用擴(kuò)散泵抽真空48、 清冼電子槍、規(guī)管或離子源等部件，必須戴手套 進(jìn)行操作49、 利用光控控制鍍膜機(jī)，一般在每爐擺放監(jiān)控片數(shù)量必須多于程序中設(shè)定數(shù)量2 片才可以關(guān)門。50、 在取放昭和機(jī)器光控片時(shí)，每個(gè)光控套筒里擺放 1 片干凈、無傷痕監(jiān)控片。51、 鍍膜人員在機(jī)器罩子上取放鏡片時(shí)，一定要戴口罩 。52、 晶振片和鍍膜材料應(yīng)放在干燥器 中的目的是： 防止在空氣中受潮 。53、 有2塊修正板的鍍膜機(jī)，面向機(jī)器左邊為MASK1,右邊為MASK254、 寫出下列中、英名稱：晶振crystal Coating鍍膜 真

9、空 vacuum Optical 光學(xué)55、 開鍍膜機(jī)之前，先需檢查壓縮空氣壓力在_5-8 公斤56、開啟穩(wěn)壓電源，穩(wěn)壓電壓值應(yīng)為 _380_V 左右。57、 開鍍膜機(jī)之前，檢查水壓3-5 公斤 .58、 光控控制的鍍膜機(jī)蒸鍍過程中光控曲線方向?yàn)椋悍瓷涫娇刂频母?折射率材料蒸鍍方向向上；59、機(jī)器大清洗后應(yīng)進(jìn)行 抽真空 和 加熱 處理，才能正常生產(chǎn)。60、 我們現(xiàn)在的鍍膜方式屬于熱蒸發(fā) 方式。二、選擇題 （ 不定項(xiàng)選擇題 ）1. 在鍍膜過程中,石英晶振可以顯示以下哪些因素？（ AD ） A 、蒸發(fā)速率B、蒸發(fā)溫度C、真空度D、膜層厚度2材料蒸發(fā)時(shí)，充氧的主要目的有哪些？（AB ） A 、補(bǔ)充材

10、料失去的氧原子，使材料氧化更充分，降低膜層吸收B、使每次鍍膜時(shí)，真空室內(nèi)的真空狀態(tài)相接近C、使蒸發(fā)更穩(wěn)定 D、使控制更精確。3、 鍍膜機(jī)罩子或放扇形板的轉(zhuǎn)動(dòng)架須高速轉(zhuǎn)動(dòng)的目的是（ABCD）A、使同圈的膜層厚度分布均勻B、使內(nèi)外排膜層厚度分布均勻C、使同圈溫度分布均勻D、使內(nèi)外排溫度分布均勻4、現(xiàn)在我們生產(chǎn)lr-cut 平板濾色片，從反射看平板的顏色是（ A ） A、紅色B、綠色C、藍(lán)色D、沒 有規(guī)律5、油擴(kuò)散泵上面加冷阱 , 其作用是 （ A D ）. A. 防止擴(kuò)散油分子回流到真空室 B. 加快排氣速度 . C. 防止 雜物掉入擴(kuò)散泵 . D 、提高膜層附著力6、為使蒸發(fā)材料分子從蒸發(fā)源到達(dá)

11、基板時(shí)基本不和殘余氣體分子發(fā)生碰撞，故真空室內(nèi)真空度要到達(dá)10-3Pa以下，以滿足（B ）條件A、氣體分子平均自由程小于蒸發(fā)距離.B、氣體分子平均自由程遠(yuǎn)大于蒸發(fā)距離C、氣體分子平均自由程等于蒸發(fā)距離。D氣體分子平均自由程的平方大于蒸發(fā)距離。7、 對鍍膜材料進(jìn)行預(yù)熔的目的是（A C ） A、去除材料內(nèi)部的雜質(zhì) B、改變材料的表面形狀 C、減少材 料的放氣D、提高材料的溫度8、真空鍍膜時(shí)真空度范圍應(yīng)在（ C ） A、低真空B、中真空C、高真空D、超高真空9、 電子槍“ FIL ”燈變紅，故障原因是（0 A、電子槍高壓線路故障B、真空室底下門沒有關(guān)好C、電子槍燈絲有問題 D 、電子槍電流回路故障。

12、10、 提高膜層聚集密度工藝有（ AD ） A、提高離子源功率 B、降低溫度C、降低真空度 D、提高溫度11、黃色互補(bǔ)色是（B ） A、綠色B、藍(lán)色C、紅色D、紫紅色12、 增強(qiáng)膜層和鏡片附著強(qiáng)度，以下那些因素有關(guān)（ ABCD ） A、鏡片表面清潔度 B、鏡片表面溫度 C、 真空室內(nèi)清潔度D、膜層材料13、鍍650 10 IR-CUT濾色片，請問鍍出在哪個(gè)波長范圍內(nèi)合格（ B ） A、640660nmB、640655nmC 630-660nm D 、 635-660nm14、 在可見光光譜中，綠色波長范圍是（D ） A、 600-570 B 、 500-450 C 、 630-600 D 、

13、570-50015、SID1100 的離子源中和器正常工作時(shí) ，需要下列哪些氣體 ? （ AC ） 冷卻時(shí)需要什么氣體 ? （ C ） A 、 氧氣 （O2） B 、氮?dú)?（N2） C 、氬氣 （Ar） D 、氦氣 （He）16、 鍍膜鏡片表面產(chǎn)生雜質(zhì)，以下哪些是可能原因？ （ ABCD ） A、材料本身不純，有雜質(zhì)B、預(yù)熔時(shí)沒熔透，鍍膜時(shí)有飛濺C、光斑打到邊緣或外邊，將其它物質(zhì)鍍到鏡片上D、坩堝蓋板太臟，預(yù)熔時(shí)有膜料殘?jiān)暨M(jìn)坩堝17、鍍膜機(jī)抽速慢，以下哪些可能會(huì)引起？ （ ABCD ） A、各類泵油使用時(shí)間太長，已變質(zhì) B、POLYCOLD有問題C、真空室的清潔不到位D、機(jī)器有漏氣18、真空

14、室內(nèi)部清掃不干凈， 可能會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果？ （ ABCD ） A 、機(jī)器抽速慢 B 、零件表面灰塵 C、 機(jī)器效率降低 D 、分光特性不重復(fù)19、 下列哪些因素影響內(nèi)外排的均勻性？（ ABD） A、電子槍光斑的位置 B、電子槍光斑的形狀、大小C、真空度不穩(wěn)定D、修正板的形狀和上升高度 .20、正常情況下，真空室內(nèi)部清洗干凈后，機(jī)器的抽氣速度將（B ） A 、變慢B、變快C、不變D、無法 判斷。21、電子槍燈絲變形，可能有以下哪些結(jié)果？（ ABCD）A、電子槍光斑變形，位置打偏B、內(nèi)外排分布不均勻C、分光特性不良 D、產(chǎn)生雜質(zhì)23、 在相同光斑大小和蒸發(fā)速率的情況下，AL2O3電子槍功率（A）

15、SiO2電子槍功率A、大于B、小于 C等于D、不知道24、 下列屬于鍍膜機(jī)粗抽閥門符號是（C ） A、 LV B、 SLV C、 RV D、 SRV25、 昭和機(jī)器利用光控監(jiān)控鍍膜，在新的一片光控片上鍍（AD ）材料光控曲線向下走動(dòng)（未鍍到極值點(diǎn)之前） A、 TiO2B、 SiO2C、 MgF2D、 Ta2O526 、 1 Torr= ( BC ) A、 1Pa B、 133Pa C、 1.33Mbar D 、 1MbarABC ）因素有關(guān) A、光斑不在中27、新科隆 850 離子源有（ B ）片柵極片 A、 1 B、 2 C、 3 D、 28、如果你鍍出來一罩鏡片有的排鏡片合格，有的排不合格

16、，與下列（心位置B、修正板變形C、電子槍檔板松掉 D、蒸發(fā)速率不穩(wěn)29、在鍍 IR-CUT 時(shí)，鍍出鏡片表面發(fā)黑，其原因是（勻C、溫度沒有加 D、沒有充氧D ) A、鍍膜材料受到污染B、內(nèi)外排分布不均30、下列那個(gè)符號代表高閥（C ) A、FVB 、 MBPC、 MVD、 DP31、下列那個(gè)符號代表光控（A ) A、OPMB 、 EBC、 MBPD、 PFC32、關(guān)門抽真空，一般當(dāng)真空度抽到（5.0E-3PaC、 2.0E-3PaB ）時(shí)開始自動(dòng)預(yù)熔膜料D 、 5.0E-5PaA、1.5E-3PaB、33、 目前控制膜厚種類有（AC）A、光學(xué)膜厚儀控制 B、電子槍控制C、晶振膜厚儀控制 D、電

17、腦控制34、 MgF2材料，我們可以采用是哪種蒸發(fā)方式：（A）A、電子槍蒸發(fā)B、鉬舟蒸發(fā)（阻蒸法）C、都不是 D 、離子輔助蒸發(fā)35、 正?？缮敌拚宓腻兡C(jī)，若EB2正在鍍膜,EB1,EB2上方的修正板，處于何種狀態(tài)？（ BC） A EB1 上方的修正板升起 B、 EB2 上方的修正板升起 C、 EB1 上方的修正板下降 D、 EB2 上方的修正板下降34、 韓一機(jī)從開始抽真空計(jì)時(shí) ，到高閥開啟，正常情況下需要多少分鐘 ?（ B ） A 、1分鐘B、5分鐘C、 10分鐘 D、 30 分鐘35、 鍍膜機(jī)在鍍膜過程中,需要操作員工關(guān)注以下哪些情況 ?（ ABCD ） A、蒸發(fā)速率穩(wěn)定情況 B、

18、APC充氧 情況C、電子槍光斑位置及大小情況D、光控曲線的走向及形狀.36、 為減少鏡片人為污染，員工在取鏡片時(shí)，應(yīng)采取以下哪些保護(hù)措施？（ BC）A、不開吸塵器B、戴棉手套C、戴口罩D、戴手指套37、 手動(dòng)預(yù)熔材料時(shí)，應(yīng)注意下列哪些事項(xiàng)？（ ABCD）A、真空室內(nèi)達(dá)到一定的真空度，開始加電流預(yù)熔材料 B、 光斑不能打到坩堝邊上，更不能打到坩堝外邊C、 預(yù)熔時(shí)的電流一定要高于蒸發(fā)時(shí)的電流 D 、不同材料不同的預(yù)熔電流38、 下列哪些部件在機(jī)器運(yùn)行時(shí)需要冷卻水？（ BCD ） A 、電子槍B、擴(kuò)散泵C、坩堝盤D、晶振頭39、 有些鍍膜夾具的擺放有上下之分， 如棱鏡、平板夾具，如果上下顛倒擺放 ，

19、 鏡片會(huì)因于什么原因而報(bào) 廢：（D ） A、破邊B、膜不潔C、劃傷D、通光40、鍍膜機(jī)在自動(dòng)充氣（待開門）狀態(tài)下，下列哪些情況是正確的？ （ABC）A、LV開B、MTR開C、FV 開 D、MV開。41、 在清洗和安裝電子槍高壓電極的引線時(shí)，為了防止扭壞電極，我們?nèi)绾芜x擇工具？（ B）A、鴨 嘴鉗B、兩只扳手C、尖嘴鉗D、螺絲刀42、對于 AR 膜而言，下列哪個(gè)波段反射率偏高時(shí)，鏡片的反射光呈現(xiàn)紅色？（D ） A、400420nmB 、 500530nmC 、 580620nmD、 630760nm43、 每臺(tái)機(jī)器安裝修正板的目的是（C ） A 、調(diào)整內(nèi)外排溫度分布 B、調(diào)整機(jī)器內(nèi)的真空度分布C

20、、調(diào)整內(nèi)外排膜厚分布 D調(diào)整同圈厚度分布44、 如果加熱板下方的溫度探頭移位，比正常時(shí)要低許多，結(jié)果鏡片溫度將會(huì)：（B）A、比正常時(shí)低B、 比正常時(shí)高C、基本不變D、劃破鏡片45、在蒸鍍膜料時(shí)，電子槍電流有，但加不高的原因是（ AD）A、裝電子槍燈絲螺絲松了 B、電子槍燈 絲壽命到期C、燈絲斷了 D、高壓引線松動(dòng)46、在正常情況下，目前規(guī)定韓一機(jī)器使用新晶振最多只能鍍（B）爐A、一一 B、二C、三D、不確定47、 鍍膜機(jī)中EB代表的含義（C ） A、電腦B、擴(kuò)散泵C、電子槍D、光斑48、 下列（B ）符號代表 Y方向的光斑大小 A、YPBYSC XPDEB49、下列（ A ）符號代表 X 方向

21、的光斑位置 A、 XPB、 XSC、 YPD、 EB50、機(jī)器按規(guī)定（D ）換護(hù)板。A、每周B、每天C、每爐D、每班51、 在正常情況下，我們鍍一爐650 10nm IR-CUT需要多長時(shí)間（A ） A、6小時(shí)B、2小時(shí)C、4 小時(shí) D 、 8 小時(shí)52、 在正常情況下，我們鍍一爐普通增透需要多長時(shí)間（B）A、6小時(shí)B、2小時(shí)C、4小時(shí)D、半 小時(shí)53、下列（ B ）符號代表 X 方向的光斑大小 A、 XP B、 XS C、 YP D、 EB54、下列（ C ）符號代表 Y 方向的光斑位置 A、 XP B、 XS C、 YP D、 EB55、 以下材料折射率最高的是（C ） A、 SIO2B、

22、 AL2O3C、 TIO2D、MGF255、以下材料折射率最低的是（ D ） A、 SIO2B 、 AL2O3C、 TIO2D、MGF256、 晶振不好會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（AC）A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好D、膜 層牢固度不好57、 充氧不穩(wěn)會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（A）A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好D、膜層 牢固度不好58、 光控曲線不好會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（ A）A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好D、 膜層牢固度不好59、 溫度不對會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（ABD）A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好D、膜 層牢固度不好60、 真空

23、度不對會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（ ABD）A、整罩分光特性超差 B、均勻性不好 C、表面不好D、 膜層牢固度不好三、判斷題1、本部目前所使用的鍍膜機(jī)有單層鍍膜機(jī)、多層鍍膜機(jī)和磁控濺射鍍膜機(jī)（X ）2、在選擇膜系，按照自己以前鍍過的膜系經(jīng)驗(yàn)來選擇膜系的（X ）3、 多層鍍膜機(jī)每次可以蒸發(fā)二種以上的鍍膜料（V ）4、 每臺(tái)多層鍍膜機(jī)都配有二把電子槍（X ）5、開機(jī)前先檢氣壓要求為 2 公斤以下（ X ）6、開機(jī)前先檢水壓要求為10公斤以上(X )7、 開啟穩(wěn)壓電源，穩(wěn)壓指示應(yīng)為220V ( X )8、 自動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)不需要考慮真空度就可以直接關(guān)機(jī)(X )9、 自動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)只要把總電源關(guān)掉就可以了(X )10、

24、關(guān)擴(kuò)散泵后等待 30 分鐘就可以關(guān)掉設(shè)備總電源( X )11、 手動(dòng)開機(jī)時(shí)，打開擴(kuò)散泵(DP)加熱開關(guān)前先需把 MV閥打開，否則會(huì)影響擴(kuò)散泵抽速( X )12、 當(dāng)擴(kuò)散泵指示燈長亮?xí)r說明擴(kuò)散泵還在加熱完成，還不能正常工作(X )13、 手動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)，關(guān)閉擴(kuò)散泵加熱，等冷卻50分鐘后，需先關(guān)閉 MV閥、再關(guān)羅茨泵和機(jī)械泵(X )14、 鏡片上架時(shí)需先將待鍍鏡片確認(rèn)面別，并對照作業(yè)標(biāo)準(zhǔn)書確定膜系(V )15、 鏡片上架后，確認(rèn)鏡片不會(huì)掉下來，關(guān)門按“STOP機(jī)器自動(dòng)運(yùn)行，并選擇好膜系(X )16、 預(yù)熔時(shí)先把電子槍手/自動(dòng)開關(guān)拔到 REMOTE把POCKETS鈕拔到MAN用上下鍵選擇好要預(yù)熔的坩 堝

25、號按SET(轉(zhuǎn)動(dòng)到位)(X)17、 按ACC ON FIL ON，旋EMISSION一點(diǎn)(看到光班)，旋控制柜面板上的POSITION/SCAN X與Y位 置把位置定到邊緣( X )18、預(yù)熔H4時(shí)，電子槍電流只加到 100 150 MA就可以預(yù)熔好材料( X )19、 在鏡片鍍膜前先需核對所鍍鏡片與流轉(zhuǎn)單是否相符(V )20、 設(shè)備點(diǎn)檢每周一次，發(fā)現(xiàn)異常及時(shí)修理(X )21、 機(jī)器按規(guī)定每月一次大洗，每天定期換護(hù)板(X )22、 電子槍擋板更換周期為每四罩一次(X )23、 按點(diǎn)檢表內(nèi)容和操作過程實(shí)際情況認(rèn)真填寫(操作一步、填寫一步)(V )24、 記錄者可以只寫姓氏，不寫工號(X )25、

26、 若點(diǎn)檢發(fā)現(xiàn)有與要求不相符的情況出現(xiàn)時(shí)需及時(shí)向線長匯報(bào)，并認(rèn)真記錄在設(shè)備點(diǎn)檢表內(nèi)(V )26、 膜料、輔料領(lǐng)用時(shí)先填寫領(lǐng)用單，由車間授權(quán)人員簽字后向成品倉庫領(lǐng)用(V )27、 在安裝新晶振時(shí)，發(fā)現(xiàn)晶振壽命不好，把那片新晶振取下扔掉，重新?lián)Q上新晶振(X )28、添加 SIO2 膜料藥勺可以拿來添加氟化鎂膜料( X )30、 鍍膜員工可以保管不合格鏡片（X ）31、 報(bào)廢片與合格片需在同一個(gè)盒子內(nèi)擺放，防止混淆（x ）32、 不合格鏡片非專職人員可以隨便拿?。╔）33、 韓一機(jī)器、昭和機(jī)器和新科隆機(jī)器中，顯示真空度單位都是一樣的（x ）34、 韓一機(jī)器可以利用光控進(jìn)行膜厚控制（X ）35、 新科隆

27、機(jī)器既可以利用光控控制也可以利用晶振控制（V ）36、 昭和機(jī)器可以利用舊的晶振裝到機(jī)器上進(jìn)行鍍膜控制（V ）37、 昭和機(jī)器和新科隆機(jī)器，在鍍TIO2時(shí)光控走動(dòng)方向一樣（ X ）38、 昭和機(jī)器和新科隆機(jī)器電子槍都是270度（ V ）39、 韓一機(jī)器和新科隆機(jī)器的電子槍都是270 度（ X ）40、 在裝韓一電子槍時(shí)，裝好電子槍燈絲擰緊電子槍燈冒，但擰緊之后又要倒轉(zhuǎn)1/4 圈（ V ）41、符號表示分光膜（ X ）X)42、 目前本部鍍膜機(jī)配制的膜厚控制儀有MDC360、 IC-5 和 XTC-2（ X ）43、 需連續(xù)預(yù)熔下個(gè)坩堝時(shí)， 不需要把EMISSION（電流）旋小，只把下一個(gè)坩鍋轉(zhuǎn)

28、到位就開始預(yù)熔44、韓一機(jī)器在鍍膜時(shí)，修正板全部是自動(dòng)升降的（X）45、新科隆和昭和機(jī)器在鍍膜時(shí)，修正板全部是自動(dòng)升降的（V）46、昭和鍍膜機(jī)在鍍IR-CUT時(shí)，真空度抽到 5.0E-5Torr,開始自動(dòng)預(yù)熔 SIO2膜料（X ）47、 電子槍光斑 X方位置偏移不在中心時(shí)，我們只需調(diào)節(jié)XP（ V ）48、 在相同光斑條件下，電子槍鍍 AL2O3電流跟MGF2電流大小差不多（ X ）49、 鍍膜機(jī)鍍膜結(jié)束，不需要冷卻可直接充氣（X ）50、 每次更換晶振，除了我們換上新的晶振，還必須把晶振頭也清冼干凈（V ）簡答題。1簡述在鍍膜過程中產(chǎn)生雜質(zhì)的原因和對策？答： 原因 對策 1. 電子槍周圍沒有打

29、掃干凈用吸塵器、百潔布等清冼電子槍部件 2 坩鍋沒有清冼干凈 坩鍋邊緣用百潔布、酒精、紗布清冼干凈 3 鍍膜時(shí)電子槍光斑不在中間而打到邊緣鍍膜時(shí)必須把電子槍 光斑打到中間而不能打偏 4 預(yù)熔材料不透徹把膜料充分地預(yù)熔透徹 5 預(yù)熔膜料電流加得太快加電流要 緩慢，不要加的太快 6. 電子槍檔板不干凈每罩要更換電子槍檔板，以及電子槍檔板要清冼干凈 7. 膜料 污染避免膜料相互污染，以及保存方法 8. 膜料本身不純更換其它品種膜料2從操作角度來看，如何操作和保養(yǎng)才能讓一臺(tái)鍍膜機(jī)的膜系穩(wěn)定？答：本題是員工自由發(fā)揮題目，沒有明確答案，可以從以下三個(gè)方面考慮：1、如何按照作業(yè)指導(dǎo)書進(jìn)行操作？ 2、如何維護(hù)

30、設(shè)備日常保養(yǎng)？ 3、在鍍膜時(shí)出現(xiàn)問題時(shí)，怎樣去解決這些問題？3簡述一下鍍金屬膜注意事項(xiàng)？答：高的真空度 、低基板溫度 、 快蒸4、在使用擴(kuò)散泵應(yīng)注意那些事項(xiàng)？答 1、冷卻水不足， 必須關(guān)閉擴(kuò)散泵， 否則輕則會(huì)造成返油， 重則會(huì)使擴(kuò)散泵過熱造成擴(kuò)散泵油燒焦。 （機(jī) 器若有自動(dòng)保護(hù)裝置，會(huì)自動(dòng)停止擴(kuò)散泵加熱，并報(bào)警）2 、擴(kuò)散泵必須在低真空閥關(guān)閉，預(yù)抽閥開啟，且系統(tǒng)真空高于真空室真空時(shí)才能打開，否則會(huì)造成真空室返油5、 光控控制的機(jī)器在鍍 TI02,光控程序設(shè)定為 START 90 PERK 1 STOP 10,而現(xiàn)在的光控曲線鍍到 80時(shí) 突然報(bào)警，而必須退出程序重新加鍍，請問如何設(shè)置程序進(jìn)行加

31、鍍？答：首先把START值從90改到80,然后重新加鍍這一層，讀出極值點(diǎn)數(shù)值，這時(shí)過振量應(yīng)該這樣計(jì)算 STOP 值=（結(jié)束值-PERK 值）/ （ 90-PERK值）*1006、為什么要在高真空下鍍膜？答： 1、真空狀態(tài)下,膜料的熔點(diǎn)溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對高熔點(diǎn)的氧化物膜料,在 真空狀態(tài)下其熔點(diǎn)要低得多。也就容易到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。2 、真空狀態(tài)下,真空室中空氣極少,膜料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞,即分子自由 程長。膜料容易沉積在基片上。 3 、由于真空室中氣體分子少,因而氧分子、硫分子等化學(xué)活潑分子也 少,高溫狀態(tài)的膜料分子

32、就不會(huì)與之發(fā)生化學(xué)變化,從而保證膜層的膜料純度。7、晶振水堵塞后你怎么進(jìn)行疏通 ?答：把晶振冷卻水管進(jìn)口、出口從連接處斷開,并把閥門關(guān)上,用壓縮空氣氣槍從進(jìn)口處吹入壓縮空氣, 看出口處是否有異物流出？8、鍍膜機(jī)在自動(dòng)鍍膜時(shí)發(fā)生報(bào)警,而作為一名操作員工應(yīng)如何處理報(bào)警？答：首先按報(bào)警暫停按紐，查看報(bào)警內(nèi)容，看自已是否知道？能否自已解決？如不能自已解決，查看作 業(yè)指導(dǎo)書是否有，如沒有向線長匯報(bào)，由線長再向技術(shù)人員詢問如何解決，直到報(bào)警內(nèi)容消除后才能按 繼續(xù)鍍膜的鍵。9、利用光控控制，上一罩鍍出IR-CUT,測試曲線波長最長 672nm最短是666nm,而現(xiàn)在要鍍650土 10 IR-CUT 濾色片，請問如何更改參數(shù)？答：=所有光控控制波長X 650/672 10 根據(jù)你的工作經(jīng)驗(yàn)，從外表看，如何區(qū)分AL2O3和MGF2材料？答：從形狀來看：AL2O3顆料比較有梭角，MGF2膜料更碎；從顏色來看：AL2O3的顏色要暗一些，MGF2的顏色要亮一些。11 作為一名交班者，你個(gè)人認(rèn)為應(yīng)該讓接班者清楚哪些事情 , 同時(shí)作為一個(gè)接班者你個(gè)人認(rèn)為應(yīng)該從前 一班中清楚哪些事情？答：本題是員工發(fā)揮題，可以從以下幾個(gè)方面答題 1 、本班在上班時(shí)，