ICS77060

CCSH.25

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T17899—2023

代替GB/T17899—1999

金屬和合金的腐蝕不銹鋼在氯化鈉

溶液中點(diǎn)蝕電位的動(dòng)電位測(cè)量方法

Corrosionofmetalsandalloys—

Methodofmeasuringthepittingpotentialforstainlesssteels

bypotentiodynamiccontrolinsodiumchloridesolution

ISO151582014MOD

(:,)

2023-08-06發(fā)布2024-03-01實(shí)施

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T17899—2023

目次

前言

…………………………Ⅰ

引言

…………………………Ⅱ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語(yǔ)和定義

3………………1

原理

4………………………1

試驗(yàn)裝置

5…………………1

恒電位儀

5.1……………1

電極電位測(cè)量?jī)x

5.2……………………1

電流測(cè)量?jī)x

5.3…………………………1

試樣架

5.4………………2

電解池

5.5………………2

輔助電極

5.6……………2

參比電極

5.7……………2

試樣

6………………………2

試驗(yàn)步驟

7…………………3

參比電極的準(zhǔn)備

7.1……………………3

試樣的準(zhǔn)備

7.2…………………………3

溶液的準(zhǔn)備

7.3…………………………3

試驗(yàn)

7.4…………………3

記錄

7.5…………………3

終止試驗(yàn)

7.6……………4

點(diǎn)蝕電位數(shù)據(jù)的統(tǒng)計(jì)分析

8………………4

試驗(yàn)報(bào)告

9…………………4

附錄資料性試樣架

A()…………………6

附錄資料性點(diǎn)蝕電位數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)分析示例

B()…………9

參考文獻(xiàn)

……………………11

GB/T17899—2023

前言

本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

本文件代替不銹鋼點(diǎn)蝕電位測(cè)量方法與相比除結(jié)構(gòu)

GB/T17899—1999《》,GB/T17899—1999,

調(diào)整和編輯性改動(dòng)外主要技術(shù)變化如下

,:

修改了范圍見第章年版的第章

———(1,19991);

增加了術(shù)語(yǔ)和定義見第章

———(3);

增加了原理見第章

———(4);

增加了避免縫隙腐蝕的方法說(shuō)明見附錄和

———(5.4、A.1A.2);

更改了最低溶液體積與試樣面積之比見年版的

———(5.5.5,19996.1);

更改了參比電極見年版的第章

———(5.7,19995);

更改了試樣的準(zhǔn)備見年版的

———(7.2.1,19993.6);

更改了試驗(yàn)溶液的配制見年版的第章

———(7.3,19994);

更改了溶液除氧試驗(yàn)步驟見年版的

———(7.4.3,19996.3);

更改了電位掃描速度見年版的

———(7.4.3,19996.4);

更改了試驗(yàn)結(jié)果的觀察見年版的

———(7.6.3,19996.5);

更改了平行試驗(yàn)數(shù)量見年版的

———(8.1,19993.8);

本文件修改采用金屬和合金的腐蝕不銹鋼在氯化鈉溶液中點(diǎn)蝕電位的動(dòng)電位

ISO15158:2014《

測(cè)量方法

》。

本文件與相比做了下述結(jié)構(gòu)調(diào)整

ISO15158:2014:

增加第章第章將原第章第章順序調(diào)整為第章第章

———2、3,2~74~9。

本文件與的技術(shù)性差異及其原因如下

ISO15158:2014:

增加了推薦或的純度在以上以獲得較低的初始自腐蝕電位并且在整

———“N2Ar99.99%,Ecorr,

個(gè)試驗(yàn)過(guò)程中一直通氣除氧原因是除氧環(huán)節(jié)重要見

。”(7.4.3)。

本文件做了下列編輯性修改

:

用資料性引用的代替了見

———GB/T40299ISO17474(5.7.2);

增加了注見

———(5.7.2);

用資料性引用的代替了見

———GB/T40796ISO14802(8.2)。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任

。。

本文件由中國(guó)鋼鐵工業(yè)協(xié)會(huì)提出

。

本文件由全國(guó)鋼標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC183)。

本文件起草單位上海材料研究所冶金工業(yè)信息標(biāo)準(zhǔn)研究院鋼鐵研究總院有限公司中車青島四

:、、、

方機(jī)車車輛股份有限公司青拓集團(tuán)有限公司株洲時(shí)代金屬制造有限公司

、、。

本文件主要起草人李光福侯捷豐涵紀(jì)開強(qiáng)孫曉光姜美雪田子健宋志剛王睿李倩施黎明

:、、、、、、、、、、、

黃亮

。

本文件于年首次發(fā)布本次為第一次修訂

1999,。

Ⅰ

GB/T17899—2023

引言

雖然不銹鋼作為一種耐腐蝕材料而廣泛使用但它容易發(fā)生點(diǎn)蝕縫隙腐蝕應(yīng)力腐蝕開裂等其

,、、。

中點(diǎn)蝕是不銹鋼表面最常見的腐蝕現(xiàn)象之一評(píng)估不銹鋼點(diǎn)蝕抗力的一個(gè)常用參數(shù)是所謂的點(diǎn)蝕電

,。

位它定義了最低電位認(rèn)為穩(wěn)定的點(diǎn)蝕坑在該電位以下就不生長(zhǎng)通常點(diǎn)蝕受尺寸取向合金成分

,,。,、、、

雜質(zhì)夾雜物偏析表面處理熱處理史使用時(shí)間和環(huán)境波動(dòng)等因素的影響而顯示出隨機(jī)性因此它的

、、、、、,

測(cè)量至少需要兩個(gè)數(shù)值

。

Ⅱ

GB/T17899—2023

金屬和合金的腐蝕不銹鋼在氯化鈉

溶液中點(diǎn)蝕電位的動(dòng)電位測(cè)量方法

1范圍

本文件描述了在動(dòng)電位控制下測(cè)定不銹鋼點(diǎn)蝕電位的方法

。

本文件適用于不銹鋼奧氏體鐵素體奧氏體鐵素體馬氏體不銹鋼點(diǎn)蝕電位的測(cè)量

(、·、、)。

與采用恒電位的測(cè)試方法[1][2]相比本方法的主要優(yōu)勢(shì)在于測(cè)試的快速性使用該方法在一次電位

,,

掃描中即可測(cè)得點(diǎn)蝕電位

。

本文件測(cè)得的點(diǎn)蝕電位可以作為性能的一個(gè)相對(duì)指標(biāo)例如用于比較不同批次不銹鋼的相對(duì)性能

,。

本文件闡述的試驗(yàn)并非旨在測(cè)定真實(shí)服役條件下實(shí)際點(diǎn)蝕確實(shí)發(fā)生與否的點(diǎn)蝕電位

。

2規(guī)范性引用文件

本文件沒有規(guī)范性引用文件

。

3術(shù)語(yǔ)和定義

本文件沒有需要界定的術(shù)語(yǔ)和定義

。

4原理

該測(cè)試將試樣暴露在恒定溫度下規(guī)定濃度的氯化鈉溶液中以指定的掃描速率增加其陽(yáng)極電位

,。

點(diǎn)蝕電位V或V定義為電流密度超過(guò)2或2