ICS11020

C05.

中華人民共和國(guó)衛(wèi)生行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

WS340—2011

準(zhǔn)分子激光角膜屈光手術(shù)質(zhì)量控制

Qualitystandardsforexcimerlasercornealrefractivesurgery

2011-08-12發(fā)布2012-02-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)衛(wèi)生部發(fā)布

WS340—2011

前言

本標(biāo)準(zhǔn)中除5256226472772882為推薦性條款外其余均為強(qiáng)制性

..、..、.、..、..、.,。

本標(biāo)準(zhǔn)由衛(wèi)生部醫(yī)療服務(wù)標(biāo)準(zhǔn)專(zhuān)業(yè)委員會(huì)提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國(guó)衛(wèi)生部批準(zhǔn)

。

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位衛(wèi)生部醫(yī)院管理研究所中山大學(xué)眼科中心北京新力眼科北京大學(xué)眼科中

:、、、

心重慶醫(yī)科大學(xué)附屬第二醫(yī)院眼科中心復(fù)旦大學(xué)附屬眼耳鼻喉科醫(yī)院

、、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人王錚陸文秀陳躍國(guó)杜之渝周行濤楊斌

:、、、、、。

Ⅰ

WS340—2011

準(zhǔn)分子激光角膜屈光手術(shù)質(zhì)量控制

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了準(zhǔn)分子激光角膜屈光手術(shù)的技術(shù)要求

。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于全國(guó)各級(jí)具有資質(zhì)的醫(yī)療單位開(kāi)展準(zhǔn)分子激光角膜屈光手術(shù)

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅所注日期的版本適用于本

。,

文件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

消毒技術(shù)規(guī)范中華人民共和國(guó)衛(wèi)生部年

2002

3術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

。

31

.

表層切削手術(shù)surfaceablation

以機(jī)械化學(xué)或激光法去除或分離角膜上皮后對(duì)角膜前彈力層和淺基質(zhì)層進(jìn)行準(zhǔn)分子激光屈光性

、,

切削的手術(shù)包括準(zhǔn)分子激光屈光性角膜切削術(shù)化學(xué)法上皮瓣下角膜磨鑲術(shù)和機(jī)械法上皮瓣下角膜

,:、

磨鑲術(shù)

。

311

..

準(zhǔn)分子激光屈光性角膜切削術(shù)photorefractivekeratectomyPRK

,

以機(jī)械化學(xué)或激光法去除角膜上皮對(duì)角膜前彈力層和淺基質(zhì)層進(jìn)行準(zhǔn)分子激光屈光性切削

、,。

312

..

化學(xué)法上皮瓣下角膜磨鑲術(shù)lasersubepithelialkeratomileusisLASEK

,

以乙醇松解角膜上皮后將其分離形成角膜上皮瓣然后對(duì)角膜前彈力層和淺基質(zhì)層進(jìn)行準(zhǔn)分子激

,,

光屈光性切削最后將角膜上皮瓣復(fù)位

,。

313

..

機(jī)械法上皮瓣下角膜磨鑲術(shù)epipolislaserin-situkeratomileusisEpi-LASIK

,

以特制的角膜上皮分離器制作角膜上皮瓣然后對(duì)角膜前彈力層和淺基質(zhì)層進(jìn)行準(zhǔn)分子激光屈光

,

性切削最后將角膜上皮瓣復(fù)位

,。

32

.

準(zhǔn)分子激光原位角膜磨鑲術(shù)laserin-situkeratomileusisLASIK

,

以微型角膜刀或飛秒激光制作角膜瓣含角膜上皮前彈力層和淺基質(zhì)層翻轉(zhuǎn)角膜瓣后采用準(zhǔn)分

(、),

子激光對(duì)角膜基質(zhì)進(jìn)行屈光性切削然后將角膜瓣復(fù)位

,。

33

.

傳統(tǒng)切削conventionalablatio