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薄膜物理
ThinFilmPhysics材料物理與化學(xué)系DepartmentofMaterialsPhysicsandChemistry電子郵件:tiezhu-主講教師辛鐵柱緒論薄膜的概念薄膜是薄的物體的總稱現(xiàn)在所說的薄膜是指固體材料,也就是說是固體薄膜薄膜的厚度標(biāo)準(zhǔn):說法不太統(tǒng)一緒論薄膜技術(shù)已經(jīng)滲透到現(xiàn)代科技和國(guó)民經(jīng)濟(jì)的各個(gè)領(lǐng)域,如航空航天、醫(yī)藥、能源、交通、通信和信息等。另外,在器件的高速化、高集成化、小型化、輕量化方面,薄膜技術(shù)作出了重大的貢獻(xiàn)
薄膜基本制備技術(shù)
薄膜物理基礎(chǔ)薄膜制備設(shè)備往往涉及真空系統(tǒng)目前,人們所廣泛使用的很多表面分析設(shè)備都具有真空系統(tǒng)緒論薄膜的制備技術(shù)
氣相沉積法
溶液鍍膜法緒論溶液鍍膜法
電沉積法陽極氧化法溶膠-凝膠法LB膜的制備緒論薄膜物理基礎(chǔ)薄膜的形成過程薄膜的結(jié)構(gòu)與缺陷薄膜的性質(zhì):電學(xué)、磁學(xué)、力學(xué)及半導(dǎo)體的性質(zhì)緒論緒論緒論電學(xué)薄膜薄膜材料按其功能及應(yīng)用的領(lǐng)域可分:光學(xué)薄膜硬質(zhì)膜、耐蝕膜、潤(rùn)滑膜有機(jī)分子薄膜裝飾膜緒論第一章緒論第二章真空技術(shù)基礎(chǔ)第三章薄膜的物理氣相沉積法9第四章薄膜的化學(xué)氣相沉積法3第五章溶液鍍膜法3第六章薄膜的形成與生長(zhǎng)1第七章薄膜的結(jié)構(gòu)與缺陷1第八章薄膜分析1第九章薄膜的性質(zhì)1本課程主要學(xué)習(xí)的內(nèi)容與章節(jié)安排:11薄膜物理與技術(shù)楊邦朝電子科技大學(xué)出版社2薄膜材料制備原理、技術(shù)及應(yīng)用唐偉忠冶金工業(yè)出版社3薄膜材料與薄膜技術(shù)鄭偉濤化學(xué)工業(yè)出版社4薄膜技術(shù)與薄膜材料田民波清華大學(xué)出版社5新型電子薄膜材料陳光華化學(xué)工業(yè)出版社緒論參考教材
物理氣相沉積法中的真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等是基本的薄膜制備技術(shù)。它們均要求沉積薄膜的空間有一定的真空度。
真空技術(shù)基礎(chǔ)真空技術(shù)是薄膜制備的基礎(chǔ)
一、真空及其單位第一節(jié)真空的基本知識(shí)真空的概念?在給定的空間內(nèi),氣體的壓強(qiáng)低于一個(gè)大氣壓的狀態(tài),稱為真空真空是什么物質(zhì)都不存在嗎?真空的基本知識(shí)P:壓強(qiáng)(Pa)n:氣體分子密度(個(gè)/m3)V:體積(m3)m:氣體質(zhì)量(kg)M:氣體分子量(kg/mol)T:絕對(duì)溫度(K)k:玻爾茲曼常數(shù)(1.3810-23J/K)R:氣體普適常數(shù)(8.314J/K?mol)真空的基本知識(shí)怎樣表示真空程度?真空度和壓強(qiáng)是兩個(gè)概念,不能混淆。壓強(qiáng)越低真空度越高,反之真空度越低壓強(qiáng)越高真空度壓強(qiáng)氣體分子密度:?jiǎn)挝惑w積中氣體分子數(shù)氣體分子的平均自由程形成一個(gè)分子層所需的時(shí)間等真空的基本知識(shí)壓強(qiáng)的表示方法:國(guó)際單位:帕斯卡(Pascal)其它單位:托(Torr)毫米汞柱(mmHg)毫巴(bar)大氣壓(atm)真空的基本知識(shí)1托(Torr)=1毫米汞柱(mmHg)1大氣壓(atm)=760毫米汞柱(mmHg)=1.013×105帕斯卡(Pascal)單位帕/Pa托/Torr毫巴/mba標(biāo)準(zhǔn)大氣壓1Pa17.5×10-3
1×10-2
9.87×10-6
1Torr133.311.3331.316×10-3
1mba1000.7519.87×10-4
1atm1.013×1057601.013×103
1幾種壓強(qiáng)單位的換算關(guān)系真空的基本知識(shí)中真空:氣體分子密度與大氣時(shí)有很大差別,氣體的帶電粒子在電場(chǎng)的作用下,會(huì)產(chǎn)生氣體導(dǎo)電現(xiàn)象。這時(shí),氣體的流動(dòng)也狀態(tài)逐漸從粘稠滯流狀態(tài)過渡到分子狀態(tài),氣體分子的動(dòng)力學(xué)性質(zhì)明顯,氣體的對(duì)流現(xiàn)象完全消失
高真空:氣體分子密度更加降低,容器中分子數(shù)很少。因此氣體分子在運(yùn)動(dòng)過程中相互間的碰撞很少,氣體分子的平均自由程已大于一般真空容器的限度。在高真空下蒸發(fā)的材料,粒子將按直線飛行。另外,容器空間的任何物體與殘余氣體分子的化學(xué)作用也十分微弱。這種狀態(tài)下,氣體的熱傳導(dǎo)和內(nèi)摩擦已變得與壓強(qiáng)無關(guān)超高真空:氣體分子間碰撞極少,氣體分子主要與器壁相碰撞緒論緒論真空的基本知識(shí)各種物質(zhì)的臨界溫度物質(zhì)臨界溫度(℃)物質(zhì)臨界溫度氮(N2)-267.8氬(Ar)-12.4氫(H2)-241.0氧(O2)-118.0氖(Ne)-228.0氪(Kr)-62.5空氣-140.0氙(Xe)14.7乙醚194.0二氧化碳(CO2)31.0氨(NH3)132.4鐵(Fe)3700.0酒精243.0甲烷(CH4)-82.5水(H2O)374.2氯(Cl2)144汞(Hg)1450.0一氧化碳(CO)-140.2可以看出,氮、氫、氬、氧和空氣等物質(zhì)的臨界溫度遠(yuǎn)低于室溫,所以常溫下它們是氣體;水蒸氣、有機(jī)物質(zhì)和氣態(tài)金屬的臨界溫度遠(yuǎn)高于室溫,所以常溫下它們是蒸氣
第二節(jié)
稀薄氣體的基本性質(zhì)Ideal-GasLaw玻義爾定律蓋?呂薩克定律查理定律玻義爾定律:一定質(zhì)量的氣體,在恒定溫度下,氣體的壓強(qiáng)與體積的乘積為常數(shù)。
PV=C或P1V1
=P2V2稀薄氣體的基本性質(zhì)蓋?呂薩克定律:一定質(zhì)量的氣體,在壓強(qiáng)一定時(shí),氣體的體積與絕對(duì)溫度成正比。
V=CT或V1/T1=V2/T2查理定律:一定質(zhì)量的氣體,如果保持體積不變,則氣體的壓強(qiáng)與絕對(duì)溫度成正比。
P=CT或P1/T1=P2/T2
稀薄氣體的基本性質(zhì)一、氣體分子的運(yùn)動(dòng)速度及其分布?xì)怏w分子運(yùn)動(dòng)論認(rèn)為:氣體的大量分子每時(shí)每刻都處于無規(guī)則的熱運(yùn)動(dòng)之中,其平均速度取決于氣體所具有的溫度;同時(shí),在氣體分子之間以及氣體分子與容器壁之間,發(fā)生著不斷的碰撞過程,這種碰撞過程的結(jié)果之一是使氣體分子的速度服從一定的統(tǒng)計(jì)分布。氣體分子的運(yùn)動(dòng)速度υ服從麥克斯韋爾-玻耳茲曼(Maxwell-Boltzmann)分布:稀薄氣體的基本性質(zhì)M:氣體分子的相對(duì)原子質(zhì)量T:熱力學(xué)溫度R:氣體常數(shù)上式表明:氣體分子的速度分布只取決于分子的相對(duì)原子質(zhì)量M與氣體熱力學(xué)溫度T的比值。稀薄氣體的基本性質(zhì)氣體分子的速度具有很大的分布空間。溫度越高、氣體分子的相對(duì)原子質(zhì)量越小,分子的平均運(yùn)動(dòng)速度越大
稀薄氣體的基本性質(zhì)不同種類氣體分子的平均運(yùn)動(dòng)速度也只與T/M的平方根成正比在常溫條件下,一般氣體分子的運(yùn)動(dòng)速度是很高的。比如在T=300K時(shí),空氣分子的平均運(yùn)動(dòng)速度υa≈460m/s氣體分子的平均運(yùn)動(dòng)速度稀薄氣體的基本性質(zhì)最可幾速度——用于討論速度分布平均速度
——用于計(jì)算分子運(yùn)動(dòng)的平均距離均方根速度——用于計(jì)算分子的平均動(dòng)能稀薄氣體的基本性質(zhì)二、氣體分子的平均自由程其統(tǒng)計(jì)平均值:
每個(gè)分子在連續(xù)兩次碰撞之間的路程稱為自由程
稱為平均自由程
平均自由程與分子密度n和分子直徑σ的平方成反比關(guān)系
平均自由程與壓強(qiáng)成反比,與溫度成正比
稀薄氣體的基本性質(zhì)若氣體種類和溫度一定的情況下在25℃的空氣情況下或稀薄氣體的基本性質(zhì)三、碰撞次數(shù)與余弦定律入射頻率:?jiǎn)挝粫r(shí)間內(nèi),在單位面積的器壁上發(fā)生碰撞的分子數(shù),用v表示n:氣體分子的密度va:氣體分子的平均速度
上述公式稱為赫茲-克努森(Hertz-Knudsen)公式,它是描述氣體分子熱運(yùn)動(dòng)的重要公式
稀薄氣體的基本性質(zhì)單位時(shí)間碰撞單位固體表面分子數(shù)的另一表達(dá)式例如,對(duì)于20℃的空氣,則有v20=2.86×1018P
(個(gè)/cm2·s)
式中P的單位為帕(Pa)
M40,T293KP10-3Pa則有v20=2.4×1015P(個(gè)/cm2·s)
式中P的單位為帕(Pa)
稀薄氣體的基本性質(zhì)碰撞于固體表面的分子,它們飛離表面的方向與原入射方向無關(guān),并按與表面法線方向所成角度θ的余弦進(jìn)行分布。則一個(gè)分子在離開其表面時(shí),處于立體角dω(與表面法線成θ角)中的幾率是:氣體分子從表面的反射-余弦定律式中1/π是歸一化條件,即位于2π立體角中的幾率為1而出現(xiàn)的稀薄氣體的基本性質(zhì)余弦定律的重要意義在于:(1)它揭示了固體表面對(duì)氣體分子作用的另一個(gè)方面,即將分子原有的方向性徹底“消除”,均按余弦定律散射(2)分子在固體表面要停留一定的時(shí)間,這是氣體分子能夠與固體進(jìn)行能量交換和動(dòng)量交換的先決條件,這一點(diǎn)有重要的實(shí)際意義第三節(jié)真空的獲得真空系統(tǒng)應(yīng)包括:待抽空的容器(真空室)獲得真空的設(shè)備(真空泵)
測(cè)量真空的器具(真空計(jì))
必要的管道、閥門和其他附屬設(shè)備
判斷真空系統(tǒng)能否滿足鍍膜的兩個(gè)指標(biāo):系統(tǒng)所能達(dá)到的最低壓強(qiáng)抽氣的速率
真空的獲得前級(jí)泵:能使壓力從一個(gè)大氣壓開始變小,進(jìn)行排氣的泵常稱為“前級(jí)泵”次級(jí)泵:只能從較低壓力抽到更低壓力的真空泵稱為“次級(jí)泵”極限真空:任何一個(gè)真空系統(tǒng),都不可能得到絕對(duì)真空,而是具有一定的壓強(qiáng),稱為極限壓強(qiáng)或極限真空抽氣速率:指在規(guī)定壓強(qiáng)下單位時(shí)間所抽出氣體的體積,它決定抽真空所需要的時(shí)間真空的獲得真空泵分為:輸運(yùn)式真空泵捕獲式真空泵
輸運(yùn)式真空泵采用對(duì)氣體的壓縮方式將氣體分子輸送至真空系統(tǒng)之外
捕獲式真空泵依靠在真空系統(tǒng)內(nèi)凝結(jié)或吸附氣體分子的方式將氣體捕獲,排出于真空系統(tǒng)之外
輸運(yùn)式真空泵:旋轉(zhuǎn)式機(jī)械真空泵、油擴(kuò)散泵、復(fù)合分子泵
捕獲式真空泵:分子篩吸附泵、鈦升華泵、濺射離子泵、低溫泵
真空的獲得至今還沒有一種泵能直接從大氣一直工作到超高真空常常需要把2~3種真空泵組合起來構(gòu)成復(fù)合排氣系統(tǒng)以達(dá)到所需要的高真空
旋片泵噪聲小,速度高,原理建立在玻-馬略特定律基礎(chǔ)上:P0V0=P1V1擴(kuò)散泵是利用被
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