ICS31030

L90.

中華人民共和國國家標(biāo)準

GB/T37275—2018

代替

GB/T11297.4—1989,GB/T11297.5—1989

摻釹釔鋁石榴石激光棒激光閾值及

斜率效率測量方法

TestmethodforlasinthresholdandsloeefficiencofNdYAGlaserrods

gpy:

2018-12-28發(fā)布2019-07-01實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準化管理委員會

中華人民共和國

國家標(biāo)準

摻釹釔鋁石榴石激光棒激光閾值及

斜率效率測量方法

GB/T37275—2018

*

中國標(biāo)準出版社出版發(fā)行

北京市朝陽區(qū)和平里西街甲號

2(100029)

北京市西城區(qū)三里河北街號

16(100045)

網(wǎng)址

:

服務(wù)熱線

:400-168-0010

年月第一版

20191

*

書號

:155066·1-56372

版權(quán)專有侵權(quán)必究

GB/T37275—2018

前言

本標(biāo)準按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準代替摻釹釔鋁石榴石激光棒長脈沖激光閾值及斜率效率的測量方

GB/T11297.4—1989《

法和摻釹釔鋁石榴石激光棒連續(xù)激光閾值斜率效率和輸出功率測量方法

》GB/T11297.5—1989《、》。

與和相比除編輯性修改外主要技術(shù)內(nèi)容變化如下

GB/T11297.4—1989GB/T11297.5—1989,:

適用范圍增加了也可用于摻釹離子的玻璃及陶瓷激光棒的測量見第章

———(1);

增加了測量環(huán)境被測激光棒的加工技術(shù)要求和安全防護要求見和

———、(4.1、4.24.3);

修改了測量裝置及測量條件的要求見第章的第章

———(6,GB/T11297.4—19893,GB/T11297.5—

的第章

19893);

修改了測量步驟見第章的第章的

———(7,GB/T11297.4—19894,GB/T11297.5—1989

第章

5);

增加了測量精密度要求見第章

———(9)。

本標(biāo)準由中華人民共和國工業(yè)和信息化部電子歸口

()。

本標(biāo)準起草單位中國電子科技集團公司第十一研究所

:。

本標(biāo)準主要起草人朱建慧仇瑛

:、。

本標(biāo)準所代替標(biāo)準的歷次版本發(fā)布情況為

:

———GB/T11297.4—1989;

———GB/T11297.5—1989。

Ⅰ

GB/T37275—2018

摻釹釔鋁石榴石激光棒激光閾值及

斜率效率測量方法

1范圍

本標(biāo)準規(guī)定了在波長的標(biāo)準激光腔內(nèi)測量摻釹釔鋁石榴石簡稱

1.06μm(Nd:Y3Al5O12,Nd:

激光棒的連續(xù)激光閾值斜率效率和輸出功率的方法及脈沖能量激光閾值及斜率效率的方法

YAG)、、。

本標(biāo)準適用于測量也可用于摻釹離子的玻璃及陶瓷激光棒

Nd:YAG,。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

光學(xué)零件表面疵病

GB/T1185

固體激光材料名詞術(shù)語

GB/T11293—1989

3術(shù)語和定義

界定的術(shù)語和定義適用于本文件

GB/T11293—1989。

4要求

41測試條件

.

除非另有規(guī)定測試應(yīng)在以下條件下進行

,:

環(huán)境溫度

a):25℃±5℃;

相對濕度

b):≤85%;

測量系統(tǒng)應(yīng)處于無明顯的振動氣流和煙塵的環(huán)境中不得有影響測量結(jié)果的干擾

c)、,。

42被測激光棒的加工技術(shù)要求

.

除特殊要求外激光棒應(yīng)滿足以下要求

,:

兩端面平行度應(yīng)優(yōu)于或等于

a)10″;

端面對棒軸垂直度應(yīng)優(yōu)于或等于

b)5';

端面表面疵病應(yīng)符合的規(guī)定具體要求為為麻

c)GB/T1185,:B/0.8D0×0.05、C1×0.01、P0.1(B

點為激光棒直徑單位為為劃痕為崩口

;D0,mm;C;P);

端面平面度在全口徑直徑范圍內(nèi)應(yīng)優(yōu)于或等于λλ為

d)90%/10,(632.8nm);

激光晶體兩端面鍍增透膜