ICS7104040

G04..

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T32996—2016/ISO/TS251382010

:

表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜法

分析金屬氧化物膜

Surfacechemicalanalysis—Analysisofmetaloxidefilmsby

glow-dischargeopticalemissionspectrometry

(ISO/TS25138:2010,IDT)

2016-10-13發(fā)布2017-09-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T32996—2016/ISO/TS251382010

:

目次

前言

…………………………Ⅰ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

原理

3………………………1

儀器

4………………………1

調(diào)節(jié)輝光放電譜儀系統(tǒng)設(shè)置

5……………3

樣品處理

6…………………6

建立工作曲線

7……………7

測(cè)試樣品的分析

8…………………………11

分析結(jié)果的表示

9…………………………12

精密度

10…………………13

實(shí)驗(yàn)報(bào)告

11………………13

附錄規(guī)范性附錄工作曲線常數(shù)的計(jì)算和深度剖析的定量評(píng)價(jià)

A()…………………14

附錄資料性附錄測(cè)定元素的建議譜線

B()……………22

附錄資料性附錄氧化物密度和相關(guān)量ρ的實(shí)例

C()0………………24

附錄資料性附錄金屬氧化物膜實(shí)驗(yàn)室間試驗(yàn)報(bào)告

D()………………25

參考文獻(xiàn)

……………………30

GB/T32996—2016/ISO/TS251382010

:

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法等同采用表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜法分析金屬

ISO/TS25138:2010《

氧化物膜

》。

與本標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)范性引用的國(guó)際文件有一致性對(duì)應(yīng)關(guān)系的我國(guó)文件如下

:

表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜方法通則

———GB/T19502—2004(ISO14707:2000,IDT);

鋼和鐵化學(xué)成分測(cè)定用試樣的取樣與制樣方法

———GB/T20066—2006(ISO14284:1996,

IDT)。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口

(SAC/TC38)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位上海市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究院華東師范大學(xué)中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所

:、、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人徐建郝萍張?jiān)破G劉芬吳立敏陳永康朱麗娜周瑩

:、、、、、、、。

Ⅰ

GB/T32996—2016/ISO/TS251382010

:

表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜法

分析金屬氧化物膜

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了利用輝光放電發(fā)射光譜測(cè)定金屬氧化物膜厚度單位面積質(zhì)量和金屬氧化物膜化學(xué)

、

組成的方法

。

本方法適用于測(cè)定金屬上厚度為的氧化物膜氧化物的金屬元素包括鐵鉻

1nm~10000nm,、、

鎳銅鈦硅鉬鋅鎂錳和鋁中的一種或多種其他可測(cè)元素還包括氧碳氮?dú)淞缀土?/p>

、、、、、、、。、、、、。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

鋼和鐵化學(xué)成分測(cè)定用試樣的取樣和制樣方法

ISO14284(Steelandiron—Samplingand

preparationofsamplesforthedeterminationofchemicalcomposition)

表面化學(xué)分析輝光放電發(fā)射光譜方法通則

ISO14707[Surfacechemicalanalysis—Glowdischarge

opticalemissionspectrometry(GD-OES)—Introductiontouse]

表面化學(xué)分析輝光放電光發(fā)射光譜鋅和或鋁基金屬鍍層的分析

GB/T29559—2013/

(ISO16962:2005,IDT)

3原理

輝光放電發(fā)射光譜法的分析包括如下過程

:

在直流或射頻輝光放電源裝置中使金屬氧化物表面產(chǎn)生陰極濺射

a),;

在輝光放電裝置中分析物原子在等離子體中被激發(fā)

b),;

被測(cè)物原子特征譜線發(fā)射強(qiáng)度隨時(shí)間變化的光譜測(cè)量深度剖析

c)();

通過工作曲線將深度剖析中強(qiáng)度隨時(shí)間的變化轉(zhuǎn)化為質(zhì)量分?jǐn)?shù)隨濺射深度的變化定量化

d),()。

通過測(cè)量已知化學(xué)成分和濺射率的樣品建立系統(tǒng)工作曲線

。

4儀器

41輝光放電發(fā)射光譜儀

.

411概述