標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 13323-2009 光學(xué)制圖》相比于其前版《GB/T 13323-1991 光學(xué)制圖》,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了更新和修訂:
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適用范圍擴(kuò)展:2009版標(biāo)準(zhǔn)可能對(duì)光學(xué)制圖的應(yīng)用領(lǐng)域或覆蓋的光學(xué)元件類型進(jìn)行了更廣泛的定義,以適應(yīng)技術(shù)進(jìn)步和行業(yè)發(fā)展的需求。
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術(shù)語(yǔ)和定義更新:隨著光學(xué)技術(shù)的發(fā)展,新標(biāo)準(zhǔn)引入或修訂了部分專業(yè)術(shù)語(yǔ)和定義,以確保與當(dāng)前行業(yè)實(shí)踐保持一致,增強(qiáng)規(guī)范的準(zhǔn)確性和通用性。
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圖形符號(hào)標(biāo)準(zhǔn)化:對(duì)光學(xué)系統(tǒng)中的圖形符號(hào)進(jìn)行了修訂和完善,可能包括新增符號(hào)以表示新的光學(xué)元件或功能,以及優(yōu)化原有符號(hào)的清晰度和一致性,便于設(shè)計(jì)者和制造者之間的溝通。
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制圖規(guī)則調(diào)整:為了提高圖紙的可讀性和信息表達(dá)的準(zhǔn)確性,2009版標(biāo)準(zhǔn)可能對(duì)光學(xué)元件的尺寸標(biāo)注、公差要求、視圖布局等方面制定了更詳細(xì)或更為靈活的規(guī)定。
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數(shù)字化與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)兼容性:考慮到現(xiàn)代設(shè)計(jì)流程中CAD軟件的廣泛應(yīng)用,新標(biāo)準(zhǔn)可能包含了關(guān)于光學(xué)圖紙電子化制作、存儲(chǔ)、傳輸?shù)臉?biāo)準(zhǔn)和指導(dǎo),確保與現(xiàn)代設(shè)計(jì)工具的無(wú)縫對(duì)接。
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質(zhì)量控制和檢驗(yàn)要求:針對(duì)光學(xué)元件的特殊性質(zhì),2009版標(biāo)準(zhǔn)或許加強(qiáng)了對(duì)制圖質(zhì)量和成品檢驗(yàn)的要求,提供了更具體的質(zhì)量評(píng)估方法和標(biāo)準(zhǔn),以保證光學(xué)產(chǎn)品的性能和互換性。
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參考標(biāo)準(zhǔn)更新:由于標(biāo)準(zhǔn)體系的不斷完善,新標(biāo)準(zhǔn)引用了最新的國(guó)內(nèi)外相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),確保光學(xué)制圖規(guī)范與國(guó)際接軌,提升國(guó)內(nèi)光學(xué)產(chǎn)品在全球市場(chǎng)上的競(jìng)爭(zhēng)力。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2009-11-15 頒布
- 2010-02-01 實(shí)施




文檔簡(jiǎn)介
犐犆犛37.020
犖30
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜13323—2009
代替GB/T13323—1991
光學(xué)制圖
犗狆狋犻犮犪犾犱狉犪狑犻狀犵狊
(ISO101101:2006,Opticsandphotonics—Preparationof
drawingsforopticalelementsandsystems—Part1:General,NEQ)
20091115發(fā)布20100201實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局
發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
書
犌犅/犜13323—2009
目次
前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅰ
1范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
2規(guī)范性引用文件!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
3一般規(guī)定!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
4圖樣要求!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!4
附錄A(資料性附錄)光學(xué)圖樣畫法及表示示例!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!14
附錄B(規(guī)范性附錄)材料的應(yīng)力雙折射及非均勻性!!!!!!!!!!!!!!!!!!!23
附錄C(規(guī)范性附錄)表面結(jié)構(gòu)的公差!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!25
參考文獻(xiàn)!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!27
書
犌犅/犜13323—2009
前言
本標(biāo)準(zhǔn)對(duì)應(yīng)ISO101101:2006《光學(xué)和光子學(xué)光學(xué)零件和光學(xué)系統(tǒng)繪圖準(zhǔn)備第1部分:總則》,
與ISO101101:2006的一致性程度為非等效。
本標(biāo)準(zhǔn)與ISO101101:2006的主要差異如下:
———?jiǎng)h除了國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的序言和前言;
———根據(jù)ISO101101:2006及我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)用語(yǔ)習(xí)慣對(duì)標(biāo)準(zhǔn)范圍及符號(hào)作了重新編寫;
———參考并補(bǔ)充了ISO101108,ISO1011010,ISO1011012相關(guān)部分的內(nèi)容。
本標(biāo)準(zhǔn)代替GB/T13323—1991《光學(xué)制圖》,本標(biāo)準(zhǔn)與GB/T13323—1991相比主要變化如下:
———修改了標(biāo)準(zhǔn)范圍;
———修改了光軸的標(biāo)注方法;
———將GB/T13323—1991的毛面修改為非拋光面;
———修改了光學(xué)零件圖樣的列表格式及內(nèi)容;
———修改了光學(xué)零件缺陷的公差的標(biāo)注方法;
———修改了材料的雙折射和非均勻性的公差標(biāo)注方法,并將其技術(shù)要求內(nèi)容放入附錄B;
———增加了表面結(jié)構(gòu)的公差的標(biāo)注方法,并將其內(nèi)容放入附錄C;
———修改了附錄A的示例,并增加了非球面透鏡的圖樣標(biāo)注方法。
本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A是資料性附錄,附錄B、附錄C是規(guī)范性附錄。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC103)歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位:寧波永新光學(xué)股份有限公司、上海理工大學(xué)、鳳凰光學(xué)集團(tuán)有限公司、江南永
新光學(xué)有限公司、上海光學(xué)精密機(jī)械研究所、蘇州一光儀器有限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)參加起草單位:寧波市教學(xué)儀器有限公司、貴陽(yáng)新天光電科技有限公司、寧波華光精密儀器
有限公司、南京東利來(lái)光電實(shí)業(yè)有限公司、浙江舜宇集團(tuán)股份有限公司、梧州奧卡光學(xué)儀器公司、麥克奧
迪實(shí)業(yè)集團(tuán)有限公司。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:曾麗珠、章慧賢、馮瓊輝、鄔子剛、徐德衍、李、付曉平。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為:
———GB1331—1977;
———GB/T13323—1991。
Ⅰ
犌犅/犜13323—2009
光學(xué)制圖
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了光學(xué)制圖的一般規(guī)定、圖樣要求及尺寸、公差標(biāo)注。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)部件和光學(xué)零件圖樣的繪制。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過(guò)本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T131產(chǎn)品幾何技術(shù)規(guī)范(GPS)技術(shù)產(chǎn)品文件中表面結(jié)構(gòu)的表示法(GB/T131—2006,
ISO1302:2002,IDT)
GB/T1185光學(xué)零件表面疵病(GB/T1185—2006,ISO101107:1996,Opticsandopticalinstru
ments—Preparationofdrawingsforopticalelementsandsystems—Part7:Surfaceimperfectiontoler
ances,NEQ;ISO14997:2003,Opticsandopticalinstruments—Testmethodsforsurfaceimperfections
ofopticalelements,NEQ)
GB/T2831光學(xué)零件的面形偏差(GB/T2831—2009,ISO101105:2007,Opticsandphotonics—
Preparationofdrawingsforopticalelementsandsystems—Part5:Surfaceformtolerances,NEQ)
GB/T4457(所有部分)技術(shù)制圖
GB/T4458(所有部分)機(jī)械制圖
GB/T7242透鏡中心誤差
GB/T10609.1技術(shù)制圖標(biāo)題欄
GB/T10609.2技術(shù)制圖明細(xì)欄(GB/T10609.2—1989,neqISO7573:1983)
GB/T14689技術(shù)制圖圖紙幅面和格式(GB/T14689—2008,ISO5457:1999,MOD)
GB
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