標準解讀
《T/CSIQ 3103-2015 陶瓷藝術(shù)品內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)測試方法 X射線計算機斷層掃描法》是一項專門針對陶瓷藝術(shù)品的檢測標準,通過X射線計算機斷層掃描技術(shù)(CT)來分析其內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)。該標準詳細規(guī)定了使用CT技術(shù)對陶瓷藝術(shù)品進行非破壞性檢測的方法流程、設(shè)備要求以及數(shù)據(jù)處理和結(jié)果報告的具體步驟。
在準備階段,需要確保被測樣品適合進行CT掃描,并且明確檢測目的。對于樣品的選擇與制備,標準中提出了具體的要求,包括但不限于樣品尺寸、形狀等因素,以保證能夠獲得高質(zhì)量的圖像數(shù)據(jù)。
設(shè)備方面,該標準指定了CT系統(tǒng)的基本性能參數(shù),如空間分辨率、密度分辨率等,這些都是為了確保能夠準確地獲取到陶瓷藝術(shù)品內(nèi)部細微結(jié)構(gòu)的信息。此外,還涉及到了掃描條件設(shè)置,比如管電壓、電流及曝光時間等,這些參數(shù)的選擇直接影響到最終成像的質(zhì)量。
執(zhí)行掃描過程中,根據(jù)樣品特性調(diào)整合適的參數(shù)后開始采集數(shù)據(jù)。之后,利用專業(yè)軟件對原始數(shù)據(jù)進行重建,形成橫截面圖像或三維模型,以便于觀察分析陶瓷藝術(shù)品內(nèi)部的孔隙分布、裂紋走向以及其他缺陷情況。
最后,在完成所有圖像處理工作后,依據(jù)所得到的結(jié)果編寫正式報告。報告內(nèi)容應包括但不限于實驗背景、采用的技術(shù)手段、主要發(fā)現(xiàn)及其意義等信息,為后續(xù)研究提供參考依據(jù)。
此標準旨在為陶瓷藝術(shù)品的研究者們提供一種科學有效的手段,幫助他們更好地理解文物的歷史價值和技術(shù)特征,同時也為文物保護修復工作提供了技術(shù)支持。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標準文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2015-12-29 頒布
- 2016-06-01 實施



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T/CSIQ 3103-2015陶瓷藝術(shù)品內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)測試方法X射線計算機斷層掃描法-免費下載試讀頁文檔簡介
中國檢驗檢疫學會標準
T/CSIQ3103—2015
陶瓷藝術(shù)品內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)測試方法
X射線計算機斷層掃描法
Testmethodsforinternalmicrostructureofceramicartworks—
X-raycomputedtomography
2015-12-29發(fā)布2016-06-01實施
中國檢驗檢疫學會發(fā)布
T/CSIQ3103—2015
前言
本標準按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標準由景德鎮(zhèn)市檢驗檢疫科學技術(shù)研究院提出
。
本標準由中國檢驗檢疫學會歸口
。
本標準起草單位景德鎮(zhèn)市檢驗檢疫科學技術(shù)研究院景德鎮(zhèn)市陶瓷檢測評估中心
:、。
本標準主要起草人袁文瓚方濤江鵬飛邵川李峰
:、、、、。
Ⅰ
T/CSIQ3103—2015
陶瓷藝術(shù)品內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)測試方法
X射線計算機斷層掃描法
1范圍
本標準規(guī)定了陶瓷藝術(shù)品內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)的信息采集技術(shù)與測試方法射線計算機斷層掃描法
———X
法
(X-CT)。
本標準適用于法測試與采集陶瓷藝術(shù)品內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)唯一性特征
X-CT。
本標準適用于長寬高的陶瓷藝術(shù)品鑒證質(zhì)量溯源認證驗證
<500mm、<500mm、<700mm、
活動
。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
密封放射源一般要求和分級
GB4075
無損檢測儀器工業(yè)用射線裝置通用技術(shù)條件
GB/T26835XCT
3方法提要
將陶瓷藝術(shù)品放入射線裝置中掃描得到樣品內(nèi)部各斷層信息利用影像重建技術(shù)將
XCT,,X-CT
其內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)唯一性特征如孔洞裂紋泥釉縷等信息予以采集并保存
,、、,。
4儀器和試劑
41X射線CT裝置
.
應符合技術(shù)條件且
GB/T26835,:
輻射源射線機峰值射線能量
a):X≥160keV;
警告如果使用放射性源則應該按照GB4075要求把它屏蔽起來注意把放射源取出時應由經(jīng)
:,。,
過專門訓練懂得防護技術(shù)的人員來完成
。
分辨率密度分辨率
b):≤400μm;
樣品室樣品臺大小能容下待測樣品并且六個方向要有不少于的空隙
c):,20cm。
42乙醇
.
無水乙醇分析純
()。
注在對藝術(shù)品無損前提下可采用其他試劑
溫馨提示
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