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文檔簡介

一、劈形膜

SM劈尖角明紋暗紋干涉條件為

1在劈形膜棱邊處,e=0因而形成暗紋。

2相鄰兩條明紋(或暗紋)在劈形膜表面的距離。

L討論

3、干涉條紋的移動(dòng)

每一條紋對應(yīng)劈尖內(nèi)的一個(gè)厚度，當(dāng)此厚度位置改變時(shí)，對應(yīng)的條紋隨之移動(dòng)?？諝獾恼凵渎?/p>

1）用劈形膜干涉測量薄片厚度應(yīng)用：2)比較兩個(gè)塊規(guī)

空氣的折射率

AS3）檢驗(yàn)光學(xué)元件表面的平整度二、牛頓環(huán)

牛頓環(huán)干涉圖樣顯微鏡SL

M半透半反鏡T光程差明紋暗紋Rre暗環(huán)半徑明環(huán)半徑1)利用牛頓環(huán)檢查透鏡質(zhì)量應(yīng)用：LG樣板

待測凸透鏡

光圈的圈數(shù)越多，說明透鏡與樣板的差異越大；光圈的圈數(shù)越少，說明透鏡與樣板的差異越小。

2）在實(shí)驗(yàn)室中，常用牛頓環(huán)測定光波的波長或凸透鏡的曲率。三、單層增透膜

由于反射光干涉相消，所以透射光增強(qiáng)，這樣的膜稱為單層增透膜。光程差為

例10-1在半導(dǎo)體元件生產(chǎn)中，為了測定硅片上SiO2薄膜的厚度，將該膜的一端腐蝕成劈尖狀，如圖所示。已知SiO2的折射率n=1.46，用波長的鈉光照射后，觀察到SiO2劈尖上出現(xiàn)9道暗紋,且第9道在劈尖斜坡的上端點(diǎn)M，硅的折射率為3.42。試求SiO2薄膜的厚度。M已知：

求：

解：由于在SiO2上、下表面反射的光均是從光疏介質(zhì)入射到光密介質(zhì)，都有半波損失，所以光程差為：出現(xiàn)暗紋的條件為：(k=0,1,2,…)

當(dāng)k

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