ICS77040

H17.

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T34504—2017

藍(lán)寶石拋光襯底片表面

殘留金屬元素測(cè)量方法

Measurementmethodforsurfacemetalcontaminationonsapphire

polishedsubstratewafer

2017-10-14發(fā)布2018-05-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T34504—2017

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)與全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)

(SAC/TC203)

化技術(shù)委員會(huì)材料分技術(shù)委員會(huì)共同提出并歸口

(SAC/TC203/SC2)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位天通控股股份有限公司

:。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人康森宋巖巖邵峰沈瞿歡於震杰

:、、、、。

Ⅰ

GB/T34504—2017

藍(lán)寶石拋光襯底片表面

殘留金屬元素測(cè)量方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了藍(lán)寶石拋光襯底片表面深度為以內(nèi)的殘留金屬元素的全反射光熒光光譜測(cè)

5nmX

試方法

。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于藍(lán)寶石拋光襯底片表面殘留的在元素周期表中號(hào)除去鋁和氧

、11(Na)~92(U)(),

且面密度在92152范圍內(nèi)元素的定量測(cè)量其他用途藍(lán)寶石拋光片表面殘

10atoms/cm~10atoms/cm。

留金屬元素的測(cè)量可參照本標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

純氮高純氮和超純氮

GB/T8979—2008、

半導(dǎo)體材料術(shù)語

GB/T14264

潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范

GB50073—2013

3術(shù)語定義和縮略語

、

界定的以及下列術(shù)語定義和縮略語適用于本文件

GB/T14264、。

31術(shù)語和定義

.

311

..

掠射角glancingangle

全反射光熒光光譜測(cè)試方法中射線的入射角度

X(TXRF)X。

312

..

角掃描anglescan

作為掠射角函數(shù)對(duì)發(fā)射的熒光信號(hào)的測(cè)量

,。

313

..

臨界角criticalangle

能產(chǎn)生全反射的最大角度當(dāng)掠射角小于這一角度時(shí)被測(cè)表面發(fā)生對(duì)入射射線的全反射

,,X。

32縮略語

.

全反射光熒光光譜

TXRFX(totalreflectionX-rayfluorescence)

4方法原理

41的激發(fā)是以入射角小于的原級(jí)射線掠射激發(fā)樣品臺(tái)上的樣品入射的射線通過

.TXRF0.1°X。X

樣品表面發(fā)生全反射由此激發(fā)出來的射線熒光通過探測(cè)器進(jìn)行探測(cè)再通過光譜儀進(jìn)行定

,XSi(Li),

量分析射線的損耗波穿過樣品表層呈指數(shù)遞減衰減強(qiáng)度與樣品的表面粗糙度總