ICS8104030

Q35..

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T34177—2017

光刻用石英玻璃晶圓

Quartzglasswaferforlithography

2017-09-07發(fā)布2018-08-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T34177—2017

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)建筑材料聯(lián)合會(huì)提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)工業(yè)玻璃和特種玻璃標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC447)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位中國(guó)建材檢驗(yàn)認(rèn)證集團(tuán)股份有限公司中建材衢州金格蘭石英有限公司長(zhǎng)沙韶

:、、

光鉻版有限公司中國(guó)建筑材料科學(xué)研究總院國(guó)家安全玻璃及石英玻璃質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心

、、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人吳潔王京俠王友軍李弋舟花寧劉煥敏肖頌華聶蘭艦張浩運(yùn)楊曉會(huì)

:、、、、、、、、、、

楊學(xué)東孔敏張應(yīng)語

、、。

Ⅰ

GB/T34177—2017

光刻用石英玻璃晶圓

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了光刻用石英玻璃晶圓以下簡(jiǎn)稱石英玻璃晶圓的術(shù)語和定義分類要求試驗(yàn)方法

()、、、、

檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志包裝運(yùn)輸和貯存

、、。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體集成電路光通訊微機(jī)電系統(tǒng)光電器件和發(fā)光二極管等光

、、(MEMS)、(LED)

刻工藝中用做襯底的石英玻璃晶圓

。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

石英玻璃化學(xué)成分分析方法

GB/T3284—2015

透明石英玻璃氣泡氣線試驗(yàn)方法

GB/T5949、

氮化鎵單晶襯底表面粗糙度的原子力顯微鏡檢驗(yàn)法

GB/T32189

光學(xué)石英玻璃

JC/T185

石英玻璃制品內(nèi)應(yīng)力檢驗(yàn)方法

JC/T655

石英玻璃術(shù)語

JC/T2205

3術(shù)語和定義

界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件

JC/T2205。

31

.

總厚度變化totalthicknessvariationTTV

;

石英玻璃晶圓厚度的最大值和最小值間的差

。

32

.

平整度flatness

石英玻璃晶圓一個(gè)表面為理想平面時(shí)例如石英玻璃晶圓一個(gè)表面由真空吸盤吸附在一個(gè)理想

,,、

平坦的吸盤上其另一表面相對(duì)于規(guī)定的基準(zhǔn)面的偏差以測(cè)量范圍內(nèi)總的示值讀數(shù)表示

,,(TIR)。

33

.

彎曲度bow

自由無夾持的石英玻璃晶圓中位面的中心點(diǎn)與中位面基準(zhǔn)平面間的偏離

。

注中位面基準(zhǔn)平面是由指定的圓周上的三個(gè)等距離點(diǎn)決定的平面該圓周的直徑小于石英玻璃晶圓標(biāo)稱直徑

:,。

34

.

翹曲度warp

自由