標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 27760-2011 利用Si(111)晶面原子臺階對原子力顯微鏡亞納米高度測量進(jìn)行校準(zhǔn)的方法》是一項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn)，旨在為使用原子力顯微鏡（AFM）進(jìn)行亞納米級高度測量時提供一種基于硅單晶（111）晶面上自然形成的原子臺階作為參考標(biāo)準(zhǔn)的校準(zhǔn)方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于需要高精度測量表面形貌或結(jié)構(gòu)的研究領(lǐng)域。

根據(jù)此標(biāo)準(zhǔn)，利用了硅單晶材料特有的物理性質(zhì)——在（111）晶面上存在周期性出現(xiàn)的高度差約為0.154納米的原子臺階。通過精確測定這些臺階之間的距離，可以用來校正AFM探針與樣品之間相對高度變化的測量誤差，從而提高AFM在亞納米尺度上的測量準(zhǔn)確性。

標(biāo)準(zhǔn)中詳細(xì)規(guī)定了實(shí)驗(yàn)所需條件、樣品準(zhǔn)備過程、AFM操作參數(shù)設(shè)置以及數(shù)據(jù)處理方法等關(guān)鍵步驟。其中包括但不限于：選擇合適質(zhì)量且清潔無污染的硅片作為測試基底；采用適當(dāng)?shù)募夹g(shù)手段確保硅片表面平整并去除可能存在的氧化層或其他污染物；調(diào)整AFM工作模式以適應(yīng)不同類型的樣品及研究需求；記錄下每個原子臺階位置及其對應(yīng)的垂直位移值，并通過統(tǒng)計(jì)分析獲得平均值來代表實(shí)際臺階高度；最后，將得到的結(jié)果用于修正儀器內(nèi)部參數(shù)，實(shí)現(xiàn)更精準(zhǔn)的高度測量功能。

此外，還強(qiáng)調(diào)了在整個實(shí)驗(yàn)過程中需要注意的安全事項(xiàng)和個人防護(hù)措施，確保操作人員健康不受損害的同時也能保證實(shí)驗(yàn)結(jié)果的有效性和可靠性。


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....

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  • 正在執(zhí)行有效
  • 2011-12-30 頒布
  • 2012-05-01 實(shí)施
?正版授權(quán)
GB/T 27760-2011利用Si(111)晶面原子臺階對原子力顯微鏡亞納米高度測量進(jìn)行校準(zhǔn)的方法_第1頁
GB/T 27760-2011利用Si(111)晶面原子臺階對原子力顯微鏡亞納米高度測量進(jìn)行校準(zhǔn)的方法_第2頁
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文檔簡介

ICS19020

N04.

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T27760—2011

利用Si111晶面原子臺階對原子力

()

顯微鏡亞納米高度測量進(jìn)行校準(zhǔn)的方法

Testmethodforcalibratingthez-magnificationofanatomicforcemicroscopeat

subnanometerdislacementlevelsusinSi111monatomicstes

pg()p

2011-12-30發(fā)布2012-05-01實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T27760—2011

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)與利用晶面原子臺階對原子力顯微鏡亞納米高度測量進(jìn)行

ASTME2530—2006《Si(111)

校準(zhǔn)的方法英文版技術(shù)內(nèi)容基本一致

》()。

考慮到我國國情在采用時本標(biāo)準(zhǔn)做了一些修改有關(guān)技術(shù)性差異已編入

,ASTME2530—2006,,

正文中附錄規(guī)范性附錄中給出樣品制備方法附錄資料性附錄中列出了本標(biāo)準(zhǔn)章條編號與

。A(),B()

章條編號的對照一覽表附錄資料性附錄中給出了技術(shù)性差異及其原因一覽

ASTME2530—2006,C()

表以供參考

。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國科學(xué)院提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC279)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位國家納米科學(xué)中心

:。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人朱曉陽楊延蓮賀蒙高潔

:、、、。

Ⅰ

GB/T27760—2011

利用Si111晶面原子臺階對原子力

()

顯微鏡亞納米高度測量進(jìn)行校準(zhǔn)的方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了利用晶面原子臺階高度樣品校準(zhǔn)原子力顯微鏡z向標(biāo)度的測量方法

Si(111)。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于在大氣或真空環(huán)境下工作的原子力顯微鏡并且其z向放大倍率達(dá)到最大量級即z

,,

向位移在納米和亞納米范圍內(nèi)這是原子力顯微鏡用于檢測半導(dǎo)體表面光學(xué)器件表面和其他高科技元

,,

件表面中經(jīng)常用到的檢測范圍

。

本標(biāo)準(zhǔn)并未指出所有可能的安全問題在應(yīng)用本標(biāo)準(zhǔn)之前使用者有責(zé)任采取適當(dāng)?shù)陌踩徒】荡?/p>

,,

施并保證符合國家有關(guān)法規(guī)規(guī)定的條件

,。

注本標(biāo)準(zhǔn)中以國際單位制規(guī)定的數(shù)值作為標(biāo)準(zhǔn)值括號內(nèi)插入的數(shù)值僅供參考

:,。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

產(chǎn)品幾何量技術(shù)規(guī)范表面結(jié)構(gòu)區(qū)域法第部分表面結(jié)構(gòu)測量方

ISO25178-6:2010(GPS)6:

法分類

(Geometricalproductsspecification—Surfacetexture:Areal—Part6:Classificationofmethods

formeasuringsurfacetexture)

測量不確定度表示指南

ISO/IECGuide98-3:2008(Uncertaintyofmeasurement—Part3:Guide

totheexpressionofuncertaintyinmeasurement)

測量不確定度評估的重復(fù)性再現(xiàn)性和準(zhǔn)確度評估的使用指南

ISO/TS21748:2004、(Guidance

fortheuseofrepeatability,reproducibilityandtruenessestimatesinmeasurementuncertaintyestima-

tion)

3術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件

。

31

.

原子力顯微術(shù)atomicforcemicroscopyAFM

()

通過檢測探針與樣品表面相互作用力吸引力或排斥力來獲得表面高度進(jìn)而得到樣品表面形貌的

()

檢測技術(shù)

。

32

.

坐標(biāo)軸coordinateaxes

檢測表面形貌時使用的坐標(biāo)系

。

注通常采用直角坐標(biāo)系即各軸形成笛卡爾正交系x軸方向是樣品表面被跟蹤的主掃描方向軸方向是在樣

:,,

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