TcS.37.020N33中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T17723—1999黃金制品鍍層成分的X射線能譜測(cè)量方法Surfacecompositionanalysismethodofgold-platedproductsbyEDX1999-04-11發(fā)布1999-12-01實(shí)施國(guó)家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)黃金制品鍍層成分的X射線能譜測(cè)量方法GB/T17723-1999中中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行北京西城區(qū)復(fù)興門外三里河北街16號(hào)郵政編碼：100045電話：63787337、637874471999年7月第一版2004年11月電子版制作書(shū)號(hào)：155066·1-15976版權(quán)專有侵權(quán)必究舉報(bào)電話：（01068533533

GB/T17723-1999為了檢驗(yàn)鍍金飾品的質(zhì)量，許多單位都開(kāi)展了鍍金飾品的無(wú)損檢測(cè)。經(jīng)過(guò)許多單位多年來(lái)的實(shí)踐，采用掃描電鏡X射線能譜法對(duì)鍍金飾品進(jìn)行無(wú)損檢測(cè).證明是一種簡(jiǎn)單易行的方法。既可以達(dá)到對(duì)鍍金飾品不造成損傷，又可檢測(cè)出鍍層成分的目的。該方法是通過(guò)掃描電鏡結(jié)合能譜分析技術(shù)的特點(diǎn)，使電子束能很準(zhǔn)確地選擇需要分析的部位，并且可以很好地避開(kāi)表面的粗糙面(劃道、磨痕、不平整等等)獲得較為理想的結(jié)果。更為重要的是應(yīng)用改變掃描電鏡的加速電壓使人射電子具有不同能量，而使它進(jìn)人樣品的不同表面深度。這樣可以發(fā)現(xiàn)在不同深度范圍內(nèi)元素是否有變化.并且也可以說(shuō)明在基體上金或金合金鍍層大致有多厚。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用掃描電鏡X射線能譜儀（包括裝有X射線能譜儀的電子探針儀）對(duì)鍍金制品表面金及金合金單層均勻鍍層成分的非破壞性分析測(cè)量方法的技術(shù)要求和規(guī)范本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A是提示的附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并負(fù)責(zé)技術(shù)歸口本標(biāo)準(zhǔn)由北京有色金屬研究總院、核工業(yè)總公司北京地質(zhì)研究院、北京鋼鐵研究總院共同負(fù)責(zé)起本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：劉安生、張宜、毛允靜、

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)黃金制品鍍層成分的X射線能譜測(cè)量方法GB/T17723-1999Surfacecompositionanalysismethodofgold-platedproductsbyEDx1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用掃描電鏡×射線能譜儀(包括裝有X射線能譜儀的電子探針儀)對(duì)鍍金制品表面金及金合金單層均勻鍍層成分的非破壞性分析測(cè)量方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于表面鍍金及金合金，其鍍層厚度為0.2m以上.3m以下范圍內(nèi)的成分測(cè)量(不包括基體和金鍍層材料相近的鍍層成分的測(cè)量)。2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文.通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性，GB/T15075—1994電子探針?lè)治鰞x的檢測(cè)方法GB/T17359—1998電子探針和掃描電鏡定量X射線能譜定量分析方法通則GB/T17362-1998黃金飾品的掃描電鏡X射線能譜分析方法術(shù)語(yǔ)3.1金鍍層采用電鍍或化學(xué)鍍等加工方法得到的金或金合金的覆蓋層·稱為金鍍層3.2電子穿透深度當(dāng)具有一定能量的入射電子與樣品相互作用，其能量逐漸損失，當(dāng)能量達(dá)到零時(shí),人射電子在樣品表面下所達(dá)到的深度，稱為電子穿透深度。4方法原理通過(guò)改變掃描電鏡的工作電壓·來(lái)改變?nèi)肷潆娮拥拇┩干钇?從而獲得不同深度內(nèi)元素存在的信息。在相同的實(shí)驗(yàn)條件下.測(cè)量鍍層中存在元素和相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)樣品中同種元素的特征X射線·經(jīng)對(duì)比、修正后求出鍍層內(nèi)相應(yīng)于電子穿透深度范圍內(nèi)的元素的定量分析結(jié)果。5實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備及材料5.1帶有X射線能譜