1、真空蒸發(fā)技術(shù)真空蒸發(fā)技術(shù) 21105004電子束蒸發(fā)PPT課件真空蒸發(fā)鍍膜法：將固體材料置于高真空環(huán)境中加熱，使之升華或蒸發(fā) 并沉積在特定襯底上以獲得薄膜的工藝方法真空蒸發(fā)技術(shù)高頻感應(yīng)蒸發(fā)激光束蒸發(fā)反應(yīng)蒸發(fā)電阻熱蒸發(fā)電子束蒸發(fā)技術(shù)分類：依據(jù)蒸發(fā)源的不同電子束蒸發(fā)PPT課件電阻熱蒸發(fā)電阻熱蒸發(fā)優(yōu)點(diǎn)：構(gòu)造簡(jiǎn)單、造價(jià)便宜、使用可靠缺點(diǎn)：加熱所達(dá)最高溫度有限、蒸發(fā)速率較低、蒸發(fā)面積小、不適用于高純和高熔點(diǎn)物質(zhì)的蒸發(fā)熱蒸發(fā)：蒸發(fā)材料在真空室中被加熱，其原子或分子從表面逸出的現(xiàn)象加熱方式：電阻加熱電阻材料：難熔金屬電子束蒸發(fā)PPT課件電子束蒸發(fā)：將蒸發(fā)材料置于水冷坩堝中，利用電子束直接加熱使蒸發(fā)材料汽化并

2、在襯底上凝結(jié)形成薄膜電子槍由電子束聚焦方式的不同分類： 直式電子槍 環(huán)槍（電偏轉(zhuǎn)） e形槍（磁偏轉(zhuǎn)） 蒸度高熔點(diǎn)薄膜和高純薄膜的一種主要加熱方法電子束蒸發(fā)PPT課件環(huán)形槍結(jié)構(gòu)示意圖（葉志鎮(zhèn) 2008）優(yōu)點(diǎn)優(yōu)點(diǎn)：不易污染 功率大 可蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料 成膜質(zhì)量較好缺點(diǎn)缺點(diǎn)：要求高真空 設(shè)備成本高 易污染 斑點(diǎn)固定 易“挖坑” 功率和效率都不高直槍結(jié)構(gòu)示意圖（葉志鎮(zhèn) 2008）優(yōu)點(diǎn)優(yōu)點(diǎn)：使用方便 功率變化范圍廣 易于調(diào)節(jié)缺點(diǎn)缺點(diǎn)：設(shè)備體積大 結(jié)構(gòu)復(fù)雜 成本高 易污染電子束蒸發(fā)PPT課件e形槍結(jié)構(gòu)示意圖（葉志鎮(zhèn) 2008）優(yōu)點(diǎn)優(yōu)點(diǎn)：不易污染 功率大 可蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料 成膜質(zhì)量較好缺點(diǎn)缺點(diǎn)：要求高真空 設(shè)

3、備成本高電子束蒸發(fā)特點(diǎn)：優(yōu)點(diǎn)優(yōu)點(diǎn)： 直接加熱，效率高 能量密度大，蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料 冷坩堝，避免反應(yīng)和蒸發(fā) ， 提高薄膜純度缺點(diǎn)缺點(diǎn)：裝置復(fù)雜 殘余氣體和部分蒸氣電離 對(duì)薄膜性能產(chǎn)生影響 電子束蒸發(fā)PPT課件高頻感應(yīng)蒸發(fā)高頻感應(yīng)蒸發(fā) 工作原理：線圈在高頻磁場(chǎng)作用下因產(chǎn)生強(qiáng)大的渦流損失和磁滯損失而升溫，使材料受熱蒸發(fā)。高頻感應(yīng)加熱（葉志鎮(zhèn) 2008）優(yōu)點(diǎn)優(yōu)點(diǎn)：污染少 蒸發(fā)速率大 不易產(chǎn)生飛濺 操作簡(jiǎn)單缺點(diǎn)缺點(diǎn)：不能預(yù)除氣 功率不能微調(diào) 裝置復(fù)雜、昂貴電子束蒸發(fā)PPT課件激光束蒸發(fā)激光束蒸發(fā)工作原理：采用激光束作為蒸發(fā)材料的一種熱源，讓高能量的激光束透過(guò)真空式窗口，對(duì)蒸發(fā)材料加熱蒸發(fā)，通過(guò)聚焦可使激光束功率密度提高到106w/cm2以上。激光蒸發(fā)裝置（葉志鎮(zhèn) 2008）優(yōu)點(diǎn)優(yōu)點(diǎn)：可蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料 熱源在室外， 簡(jiǎn)化真空室 非接觸加熱，無(wú)污染 適于超高真空下制取純潔薄膜缺點(diǎn)缺點(diǎn)：費(fèi)用高 并非所有材料均能適用 電子束蒸發(fā)PPT課件反應(yīng)蒸發(fā)反應(yīng)蒸發(fā) 工作原理：在一定反應(yīng)氣氛中蒸發(fā)金屬或低價(jià)化合物，使之在淀積過(guò)程中發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而生成所需的高價(jià)化合物薄膜反應(yīng)蒸發(fā)裝置圖（葉志鎮(zhèn) 2008）特點(diǎn)：特點(diǎn)： 產(chǎn)生等離子體，使蒸發(fā)材