2025年事業(yè)單位工勤技能-甘肅-甘肅無(wú)損探傷工二級(jí)（技師）歷年參考題庫(kù)含答案解析(5套)2025年事業(yè)單位工勤技能-甘肅-甘肅無(wú)損探傷工二級(jí)（技師）歷年參考題庫(kù)含答案解析(篇1)【題干1】在磁粉檢測(cè)中，若需檢測(cè)鑄鐵件表面裂紋，應(yīng)選擇哪種類型的磁粉？【選項(xiàng)】A.噴射型磁粉B.油性磁粉C.水性磁粉D.膏狀磁粉【參考答案】A【詳細(xì)解析】鑄鐵件因含石墨易產(chǎn)生多孔性，需采用高磁性、顆粒細(xì)的噴射型磁粉（A），其滲透性強(qiáng)且適合粗糙表面。油性磁粉（B）適用于精密鑄件，水性磁粉（C）易被鑄鐵表面吸附，膏狀磁粉（D）無(wú)法有效覆蓋鑄鐵孔隙?！绢}干2】超聲檢測(cè)中，當(dāng)檢測(cè)厚度為50mm的鋼板時(shí)，若采用脈沖反射法，首波到達(dá)時(shí)間約為多少微秒？【選項(xiàng)】A.80B.100C.120D.150【參考答案】B【詳細(xì)解析】首波到達(dá)時(shí)間=（聲速×厚度）/1000000。鋼中縱波聲速約5900m/s，計(jì)算得(5900×50)/1000000=0.295秒=295微秒，但選項(xiàng)無(wú)此值。實(shí)際考試中可能存在近似值設(shè)定，需結(jié)合教材標(biāo)準(zhǔn)。正確選項(xiàng)B（100）可能為題目設(shè)定誤差，需以實(shí)際規(guī)范為準(zhǔn)?！绢}干3】滲透檢測(cè)中，若檢測(cè)表面開放性缺陷，清洗時(shí)間不足會(huì)導(dǎo)致什么后果？【選項(xiàng)】A.缺陷顯示模糊B.基底材料腐蝕C.滲透劑殘留D.檢測(cè)效率降低【參考答案】A【詳細(xì)解析】清洗時(shí)間不足會(huì)導(dǎo)致未溶解的滲透劑殘留在缺陷處（C），但清洗不徹底會(huì)阻礙顯像劑形成，使顯示模糊（A）。基底腐蝕（B）需接觸化學(xué)試劑才會(huì)發(fā)生，檢測(cè)效率（D）與清洗時(shí)間無(wú)直接關(guān)聯(lián)?！绢}干4】射線檢測(cè)中，檢測(cè)焊縫時(shí)若膠片黑度不足，會(huì)導(dǎo)致？【選項(xiàng)】A.缺陷可見度降低B.基底材料曝光C.顯像時(shí)間延長(zhǎng)D.檢測(cè)報(bào)告無(wú)效【參考答案】A【詳細(xì)解析】膠片黑度不足（灰霧度過(guò)高）會(huì)降低對(duì)比度，使細(xì)微缺陷（如氣孔、夾渣）顯示模糊（A）?；灼毓猓˙）是過(guò)載現(xiàn)象，顯像時(shí)間（C）與黑度無(wú)關(guān)，檢測(cè)報(bào)告（D）需根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)判定。【題干5】渦流檢測(cè)中，導(dǎo)體表面裂紋長(zhǎng)度與檢測(cè)靈敏度的關(guān)系如何？【選項(xiàng)】A.裂紋越長(zhǎng)靈敏度越高B.裂紋越短靈敏度越低C.靈敏度與裂紋長(zhǎng)度無(wú)關(guān)D.靈敏度隨裂紋深度增加而提高【參考答案】C【詳細(xì)解析】渦流檢測(cè)靈敏度主要取決于探頭頻率和材料磁化特性，與裂紋長(zhǎng)度無(wú)直接關(guān)系（C）。裂紋深度影響信號(hào)強(qiáng)度，但靈敏度閾值由設(shè)備設(shè)置決定，與長(zhǎng)度無(wú)關(guān)?！绢}干6】在GB/T18185-2017標(biāo)準(zhǔn)中，磁粉檢測(cè)的磁化方向與缺陷方向的夾角應(yīng)如何設(shè)置？【選項(xiàng)】A.0°~15°B.15°~45°C.45°~90°D.90°~180°【參考答案】B【詳細(xì)解析】標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定磁化方向與缺陷方向的夾角應(yīng)在15°~45°（B），此角度可最大程度激發(fā)缺陷磁化信號(hào)。0°~15°（A）易遺漏橫向裂紋，45°~90°（C）可能錯(cuò)過(guò)縱向缺陷，180°（D）與0°效果相同?！绢}干7】滲透檢測(cè)中，顯像劑的作用是什么？【選項(xiàng)】A.吸附滲透劑B.增強(qiáng)缺陷對(duì)比度C.防止?jié)B透劑揮發(fā)D.固定缺陷形狀【參考答案】B【詳細(xì)解析】顯像劑（白色粉末）吸附滲透劑后形成致密層，使缺陷邊緣清晰可見（B）。吸附滲透劑（A）是底漆功能，防止揮發(fā)（C）屬隔離膜作用，固定形狀（D）是顯像劑干燥后的物理特性?！绢}干8】射線檢測(cè)中，確定膠片曝光時(shí)間的關(guān)鍵參數(shù)是？【選項(xiàng)】A.焊縫長(zhǎng)度B.材料厚度C.濾光片類型D.焦距距離【參考答案】B【詳細(xì)解析】材料厚度（B）直接影響射線衰減，需根據(jù)厚度調(diào)整曝光時(shí)間。濾光片（C）影響穿透能力，焦距（D）影響幾何清晰度，焊縫長(zhǎng)度（A）與曝光時(shí)間無(wú)直接關(guān)聯(lián)?！绢}干9】超聲波檢測(cè)中，橫波探測(cè)適用于哪種材料？【選項(xiàng)】A.鋁合金B(yǎng).不銹鋼C.鑄鐵D.銅合金【參考答案】A【詳細(xì)解析】橫波（斯涅爾角>第一臨界角）需材料具備高聲阻抗，鋁合金（A）的聲速與縱波匹配度低，適合橫波檢測(cè)。不銹鋼（B）、鑄鐵（C）、銅合金（D）縱波檢測(cè)更優(yōu)?！绢}干10】滲透檢測(cè)中，若缺陷深度超過(guò)0.2mm且表面開放，應(yīng)選擇哪種檢測(cè)方法？【選項(xiàng)】A.滲透檢測(cè)B.磁粉檢測(cè)C.超聲波檢測(cè)D.射線檢測(cè)【參考答案】A【詳細(xì)解析】開放性缺陷（A）適用滲透檢測(cè)，深度0.2mm以上仍可顯示（標(biāo)準(zhǔn)允許缺陷深度0.05~2.0mm）。磁粉檢測(cè)（B）需封閉表面，超聲波（C）需耦合劑，射線（D）無(wú)法檢測(cè)表面缺陷?！绢}干11】在GB/T3314-2008標(biāo)準(zhǔn)中，磁粉檢測(cè)的磁化電流密度應(yīng)不低于多少A/mm2？【選項(xiàng)】A.1.0B.1.5C.2.0D.2.5【參考答案】B【詳細(xì)解析】標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定磁化電流密度≥1.5A/mm2（B），此值確保鋼件完全磁化。1.0（A）可能無(wú)法覆蓋高電阻材料，2.0（C）適用于特殊要求，2.5（D）超出常規(guī)需求?！绢}干12】射線檢測(cè)中，確定黑度等級(jí)的主要依據(jù)是？【選項(xiàng)】A.膠片靈敏度B.焊縫長(zhǎng)度C.底片灰霧度D.焦距距離【參考答案】C【詳細(xì)解析】黑度等級(jí)根據(jù)底片灰霧度（C）劃分（ISO5817），靈敏度與缺陷尺寸相關(guān)，焊縫長(zhǎng)度（B）影響膠片尺寸，焦距（D）影響幾何畸變。【題干13】渦流檢測(cè)中，導(dǎo)體表面存在深埋缺陷時(shí)，應(yīng)如何調(diào)整檢測(cè)參數(shù)？【選項(xiàng)】A.降低頻率B.提高頻率C.增加激勵(lì)電流D.減少激勵(lì)電流【參考答案】A【詳細(xì)解析】低頻（A）可增強(qiáng)磁場(chǎng)滲透深度，適用于深埋缺陷（>1/2波長(zhǎng)）。高頻（B）磁場(chǎng)衰減快，僅適合表面檢測(cè)。激勵(lì)電流（C/D）影響信號(hào)幅度，但深埋缺陷需依賴頻率而非電流?！绢}干14】在滲透檢測(cè)中，若清洗后缺陷未顯像，可能的原因是？【選項(xiàng)】A.滲透劑未完全溶解B.顯像劑未均勻覆蓋C.缺陷未完全開放D.清洗時(shí)間不足【參考答案】C【詳細(xì)解析】缺陷未完全開放（C）會(huì)導(dǎo)致滲透劑無(wú)法進(jìn)入，清洗時(shí)間（D）不足會(huì)殘留滲透劑但無(wú)法顯像。滲透劑溶解（A）影響滲透效率，顯像劑覆蓋（B）影響顯示效果?！绢}干15】超聲波檢測(cè)中，當(dāng)接收信號(hào)出現(xiàn)波峰時(shí)，表示？【選項(xiàng)】A.裂紋存在B.材料內(nèi)部空化C.反射信號(hào)D.材料分層【參考答案】C【詳細(xì)解析】波峰（反射信號(hào)）對(duì)應(yīng)材料內(nèi)部界面（C），如焊縫或夾層。裂紋（A）表現(xiàn)為波幅異常，空化（B）需高頻檢測(cè)，分層（D）需結(jié)合聲束角度分析?！绢}干16】射線檢測(cè)中，確定膠片曝光量的關(guān)鍵參數(shù)是？【選項(xiàng)】A.焦距B.材料厚度C.管電壓D.管電流【參考答案】B【詳細(xì)解析】材料厚度（B）決定射線衰減，需與管電壓（C）配合調(diào)整。焦距（A）影響幾何模糊，管電流（D）影響輻射量但非曝光量核心參數(shù)。【題干17】在GB/T20258-2006標(biāo)準(zhǔn)中，滲透檢測(cè)的底漆厚度應(yīng)不超過(guò)多少μm？【選項(xiàng)】A.5B.10C.20D.30【參考答案】B【詳細(xì)解析】標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定底漆（A類）厚度≤10μm（B），過(guò)厚（C/D）會(huì)阻礙滲透劑滲透，過(guò)薄（A）無(wú)法均勻覆蓋。底漆作用為封閉表面并吸附滲透劑?！绢}干18】超聲波檢測(cè)中，若缺陷反射信號(hào)幅度低于基準(zhǔn)線，說(shuō)明？【選項(xiàng)】A.缺陷尺寸過(guò)大B.檢測(cè)靈敏度不足C.缺陷未耦合良好D.材料聲速異?！緟⒖即鸢浮緾【詳細(xì)解析】耦合不良（C）會(huì)導(dǎo)致聲能損失，信號(hào)幅度降低。缺陷尺寸（A）影響信號(hào)幅度但基準(zhǔn)線已校準(zhǔn)，靈敏度（B）需通過(guò)對(duì)比試塊判斷，聲速異常（D）需校準(zhǔn)探頭。【題干19】在射線檢測(cè)中，如何減少焊縫的幾何模糊？【選項(xiàng)】A.增加管電壓B.減少焦距C.提高膠片靈敏度D.使用薄板防護(hù)【參考答案】B【詳細(xì)解析】縮短焦距（B）可減少投影模糊，增加管電壓（A）會(huì)加劇衰減模糊，膠片靈敏度（C）影響對(duì)比度而非幾何清晰度，薄板防護(hù)（D）適用于小孔徑檢測(cè)。【題干20】渦流檢測(cè)中，若導(dǎo)體表面存在點(diǎn)狀缺陷，應(yīng)如何調(diào)整探頭位置？【選項(xiàng)】A.垂直于表面掃描B.橫向移動(dòng)探頭C.縱向移動(dòng)探頭D.旋轉(zhuǎn)探頭角度【參考答案】B【詳細(xì)解析】橫向移動(dòng)探頭（B）可覆蓋更大面積，點(diǎn)狀缺陷（A）需點(diǎn)對(duì)點(diǎn)掃描，縱向移動(dòng)（C）適用于線性缺陷，旋轉(zhuǎn)角度（D）影響磁場(chǎng)分布但非定位方法。2025年事業(yè)單位工勤技能-甘肅-甘肅無(wú)損探傷工二級(jí)（技師）歷年參考題庫(kù)含答案解析(篇2)【題干1】射線檢測(cè)中，膠片黑度不足可能導(dǎo)致檢測(cè)結(jié)果出現(xiàn)誤判，正確調(diào)整膠片黑度的方法是？【選項(xiàng)】A.增加膠片曝光時(shí)間B.降低膠片曝光時(shí)間C.更換更高感度的膠片D.增加增感屏的厚度【參考答案】C【詳細(xì)解析】膠片黑度不足通常由曝光不足引起，增加曝光時(shí)間（A）可能過(guò)度曝光導(dǎo)致對(duì)比度下降，更換更高感度膠片（C）可提升記錄靈敏度，而增感屏厚度（D）影響初級(jí)射線強(qiáng)度，需結(jié)合膠片性能綜合調(diào)整。【題干2】磁粉檢測(cè)中，使用交流電源的磁化裝置適用于哪種材料？【選項(xiàng)】A.鋁合金B(yǎng).不銹鋼C.鑄鐵D.銅合金【參考答案】B【詳細(xì)解析】交流磁化裝置通過(guò)周期性磁場(chǎng)退磁特性，適用于表面和近表面檢測(cè)（如不銹鋼），而鋁合金（A）和銅合金（D）為非鐵磁性材料無(wú)法磁化，鑄鐵（C）雖為鐵磁性但內(nèi)部缺陷磁導(dǎo)率差異小，易漏檢?！绢}干3】超聲波檢測(cè)中，當(dāng)缺陷反射波幅值超過(guò)基準(zhǔn)波幅值的80%時(shí)，應(yīng)判定為哪種缺陷類型？【選項(xiàng)】A.未傷B.輕微缺陷C.中等缺陷D.嚴(yán)重缺陷【參考答案】D【詳細(xì)解析】缺陷反射波幅值與基準(zhǔn)波幅比是分級(jí)依據(jù)，80%以上（D）表明缺陷顯著改變聲阻抗，中等缺陷（C）通常為50%-80%，未傷（A）和輕微缺陷（B）反射波幅低于30%?！绢}干4】滲透檢測(cè)中，清洗劑去除滲透液的最佳方法是？【選項(xiàng)】A.熱水沖洗B.壓力水噴射C.溶劑擦拭D.紗布擦拭【參考答案】B【詳細(xì)解析】壓力水噴射（B）可高效去除滲透液，避免溶劑殘留（C）和紗布擦拭（D）導(dǎo)致二次污染，熱水沖洗（A）溫度不足易殘留?！绢}干5】當(dāng)超聲波檢測(cè)儀顯示缺陷端面反射時(shí)，說(shuō)明缺陷位于？【選項(xiàng)】A.表面附近B.材料內(nèi)部C.管壁中心D.焊縫根部【參考答案】A【詳細(xì)解析】端面反射（A）表明缺陷緊貼探頭表面，如表面裂紋；背波反射（B）則指向材料內(nèi)部，需結(jié)合聲程計(jì)算定位。【題干6】RT檢測(cè)中，用于比較膠片黑度的標(biāo)準(zhǔn)片應(yīng)具備？【選項(xiàng)】A.與被檢工件相同材料B.相同厚度和密度C.相同曝光條件D.標(biāo)準(zhǔn)參考灰度【參考答案】D【詳細(xì)解析】標(biāo)準(zhǔn)片（D）需模擬工件材質(zhì)和密度，但實(shí)際檢測(cè)中通過(guò)灰度對(duì)比（D）評(píng)估膠片靈敏度，而非直接匹配材料（A）?！绢}干7】UT檢測(cè)中，若探頭與工件接觸不良導(dǎo)致基線波動(dòng)，應(yīng)首先采??？【選項(xiàng)】A.增加耦合劑B.檢查探頭晶片C.調(diào)整發(fā)射角度D.更換晶片【參考答案】B【詳細(xì)解析】接觸不良（B）直接導(dǎo)致聲波衰減，調(diào)整角度（C）或耦合劑（A）僅部分緩解，更換晶片（D）成本過(guò)高，優(yōu)先檢查探頭狀態(tài)?！绢}干8】磁粉檢測(cè)中，使用熒光磁粉時(shí)，需在何種光照條件下觀察顯示？【選項(xiàng)】A.白光B.紅光C.熒光燈D.黑光【參考答案】D【詳細(xì)解析】熒光磁粉（D）需在黑光激發(fā)下顯現(xiàn)，紅光（B）和普通白光（A）無(wú)法激發(fā)熒光，紫外線燈（C）可能損傷材料表面?！绢}干9】射線檢測(cè)中，用于校準(zhǔn)膠片靈敏度的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)是？【選項(xiàng)】A.缺陷試塊B.空氣間隙板C.灰度標(biāo)準(zhǔn)片D.金相樣品【參考答案】B【詳細(xì)解析】空氣間隙板（B）通過(guò)已知厚度計(jì)算曝光參數(shù)，缺陷試塊（A）用于評(píng)估對(duì)比度，灰度標(biāo)準(zhǔn)片（C）用于黑度比較，金相樣品（D）無(wú)關(guān)?！绢}干10】UT檢測(cè)中，若缺陷回波幅度與基準(zhǔn)波相同，應(yīng)判定為？【選項(xiàng)】A.未傷B.表面裂紋C.內(nèi)部裂紋D.疲勞裂紋【參考答案】A【詳細(xì)解析】回波幅度一致（A）表明聲波無(wú)衰減，排除表面或內(nèi)部缺陷（B/C/D），需結(jié)合其他特征（如波峰位置）進(jìn)一步分析。【題干11】滲透檢測(cè)中，滲透液滲透時(shí)間不足會(huì)導(dǎo)致？【選項(xiàng)】A.滲透劑未完全潤(rùn)濕B.清洗劑殘留C.缺陷顯示模糊D.灰度等級(jí)下降【參考答案】A【詳細(xì)解析】滲透時(shí)間（A）不足使?jié)B透劑無(wú)法充分滲透缺陷，清洗劑殘留（B）是清洗時(shí)間不足的后果，灰度（D）與顯示清晰度無(wú)關(guān)。【題干12】RT檢測(cè)中，若像質(zhì)清晰但對(duì)比度不足，應(yīng)調(diào)整？【選項(xiàng)】A.增加膠片時(shí)間B.降低電壓電流C.更換增感屏D.調(diào)整焦距【參考答案】B【詳細(xì)解析】對(duì)比度不足（B）通常由曝光不足引起，降低電壓電流（B）可減少散射，增加時(shí)間（A）會(huì)降低對(duì)比度，增感屏（C）影響初能，焦距（D）無(wú)關(guān)?！绢}干13】UT檢測(cè)中，缺陷反射波延遲時(shí)間與？【選項(xiàng)】A.材料厚度B.缺陷位置C.聲速D.缺陷尺寸【參考答案】C【詳細(xì)解析】反射波延遲時(shí)間（C）=缺陷深度×聲速，材料厚度（A）影響聲程，缺陷尺寸（D）影響反射波幅值而非時(shí)間?！绢}干14】滲透檢測(cè)中，使用dichromate溶液作為清洗劑時(shí)，應(yīng)避免接觸？【選項(xiàng)】A.銅合金B(yǎng).鋁合金C.不銹鋼D.鑄鐵【參考答案】A【詳細(xì)解析】dichromate溶液（A）會(huì)腐蝕銅合金，其他材料（B/C/D）耐酸性較強(qiáng)，需使用中性清洗劑（如堿性溶液）處理。【題干15】RT檢測(cè)中，像質(zhì)差的主要原因是？【選項(xiàng)】A.膠片黑度不足B.曝光時(shí)間過(guò)長(zhǎng)C.焦距不準(zhǔn)D.暗室處理不當(dāng)【參考答案】A【詳細(xì)解析】膠片黑度不足（A）導(dǎo)致對(duì)比度低，曝光過(guò)長(zhǎng)（B）會(huì)降低對(duì)比度，焦距（C）影響成像清晰度，暗室（D）影響最終顯影效果?！绢}干16】UT檢測(cè)中，用于測(cè)量聲速的標(biāo)準(zhǔn)試塊厚度為？【選項(xiàng)】A.1mmB.5mmC.10mmD.20mm【參考答案】C【詳細(xì)解析】標(biāo)準(zhǔn)試塊（C）厚度為10mm，通過(guò)已知聲速（如鋼中約5920m/s）計(jì)算實(shí)際聲速，其他厚度（A/B/D）不符合行業(yè)規(guī)范。【題干17】磁粉檢測(cè)中，使用直流磁化時(shí)，缺陷顯示形態(tài)為？【選項(xiàng)】A.環(huán)形B.線狀C.矩形D.不規(guī)則形【參考答案】A【詳細(xì)解析】直流磁化（A）產(chǎn)生閉合磁路，缺陷處磁通集中形成環(huán)形顯示，交流磁化（B）呈線狀?！绢}干18】RT檢測(cè)中，用于計(jì)算膠片黑度的公式為？【選項(xiàng)】A.黑度=lg（透射光強(qiáng)度/入射光強(qiáng)度）B.黑度=lg（入射光強(qiáng)度/透射光強(qiáng)度）【參考答案】A【詳細(xì)解析】黑度計(jì)算（A）遵循國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO527，公式為透射光強(qiáng)度與入射光強(qiáng)度的對(duì)數(shù)比，選項(xiàng)B為倒數(shù)關(guān)系?！绢}干19】UT檢測(cè)中，若缺陷回波幅度低于基準(zhǔn)波30%，應(yīng)判定為？【選項(xiàng)】A.未傷B.輕微缺陷C.中等缺陷D.嚴(yán)重缺陷【參考答案】A【詳細(xì)解析】回波幅度低于30%（A）表明缺陷對(duì)聲波衰減極小，輕微缺陷（B）通常為30%-50%，中等（C）為50%-80%，嚴(yán)重（D）超過(guò)80%。【題干20】滲透檢測(cè)中，若缺陷顯示模糊，應(yīng)首先檢查？【選項(xiàng)】A.滲透時(shí)間B.清洗時(shí)間C.去除劑類型D.灰度標(biāo)準(zhǔn)【參考答案】B【詳細(xì)解析】清洗時(shí)間（B）不足會(huì)導(dǎo)致滲透劑殘留，模糊顯示（B）需延長(zhǎng)清洗時(shí)間或更換清洗劑，去除劑類型（C）影響清洗效率而非清晰度。2025年事業(yè)單位工勤技能-甘肅-甘肅無(wú)損探傷工二級(jí)（技師）歷年參考題庫(kù)含答案解析(篇3)【題干1】無(wú)損探傷中，射線檢測(cè)（RT）最適用于檢測(cè)哪種材料的內(nèi)部缺陷？【選項(xiàng)】A.銅合金B(yǎng).碳鋼C.有機(jī)玻璃D.鋁合金【參考答案】A【詳細(xì)解析】射線檢測(cè)穿透力強(qiáng)，尤其適合檢測(cè)金屬材料的內(nèi)部缺陷。銅合金對(duì)X射線的吸收系數(shù)較低，穿透能力最佳，而碳鋼、鋁合金因密度差異導(dǎo)致穿透率不穩(wěn)定，有機(jī)玻璃則因非金屬材料特性無(wú)法有效成像?！绢}干2】超聲波檢測(cè)（UT）中，缺陷反射信號(hào)與基準(zhǔn)信號(hào)的幅值比（A/B）通常如何判斷缺陷性質(zhì)？【選項(xiàng)】A.A/B＞1為裂紋B.A/B＜0.5為氣孔C.A/B≈1為夾渣D.A/B＞2為未熔合【參考答案】C【詳細(xì)解析】基準(zhǔn)信號(hào)代表材料聲阻抗均勻區(qū)域的反射，缺陷信號(hào)幅值與基準(zhǔn)的比值（A/B）可輔助定性。夾渣缺陷因與基體聲阻抗差異較小，A/B值接近1；裂紋因聲阻抗突變，A/B＞1；氣孔因聲波散射，A/B＜0.5；未熔合區(qū)域A/B＞2?！绢}干3】磁粉檢測(cè)（MT）中，使用弱磁化電流檢測(cè)時(shí)，哪種材料需要施加退磁處理？【選項(xiàng)】A.碳鋼B.鉻鎳鋼C.不銹鋼D.銅合金【參考答案】B【詳細(xì)解析】鉻鎳鋼（如304不銹鋼）含鎳量＞8.5%，屬于奧氏體不銹鋼，在弱磁化條件下易殘留剩磁，檢測(cè)后需通過(guò)退磁棒或交流退磁裝置消除，而碳鋼、普通不銹鋼及銅合金可通過(guò)自然退磁完成。【題干4】滲透檢測(cè)中，顯像劑與熒光粉末的混合比例一般為多少？【選項(xiàng)】A.1:1B.1:3C.1:5D.1:10【參考答案】B【詳細(xì)解析】滲透劑與熒光粉末的配比需保證顯像均勻性，標(biāo)準(zhǔn)比例通常為1:3（體積比）。若比例過(guò)小（如1:5）會(huì)導(dǎo)致覆蓋不充分，比例過(guò)大（如1:10）則熒光強(qiáng)度不足，影響缺陷識(shí)別?！绢}干5】在UT檢測(cè)中，調(diào)整探頭頻率的主要目的是什么？【選項(xiàng)】A.提高分辨率B.增加檢測(cè)深度C.降低噪聲D.優(yōu)化耦合效果【參考答案】A【詳細(xì)解析】探頭頻率與波長(zhǎng)成反比，高頻（＞10MHz）可提高分辨率，但檢測(cè)深度受限（＜10mm）；低頻（＜2MHz）穿透力強(qiáng)但分辨率低。需根據(jù)缺陷尺寸與材料厚度匹配頻率，如檢測(cè)1mm裂紋用5MHz，檢測(cè)50mm焊縫用0.5MHz?！绢}干6】射線檢測(cè)中，像質(zhì)計(jì)的用途是什么？【選項(xiàng)】A.補(bǔ)償膠片暗室誤差B.補(bǔ)償膠片厚度誤差C.補(bǔ)償膠片密度不均D.補(bǔ)償膠片顯影時(shí)間差異【參考答案】B【詳細(xì)解析】像質(zhì)計(jì)通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)化缺陷（如十字刻痕）的可見度，評(píng)估膠片對(duì)材料厚度變化的響應(yīng)能力，直接補(bǔ)償因膠片厚度不均導(dǎo)致的影像模糊或?qū)Ρ榷认陆?，與顯影時(shí)間、暗室條件無(wú)關(guān)?！绢}干7】MT檢測(cè)中，缺陷顯示的靈敏度主要取決于哪種因素？【選項(xiàng)】A.磁化電流強(qiáng)度B.滲透時(shí)間C.清洗時(shí)間D.磁粉用量【參考答案】A【詳細(xì)解析】磁化電流強(qiáng)度直接影響磁場(chǎng)均勻性，電流過(guò)小導(dǎo)致局部磁場(chǎng)不足，無(wú)法激發(fā)磁粉；電流過(guò)大可能引起磁飽和，反而降低缺陷顯示靈敏度。滲透時(shí)間僅影響滲透劑滲透深度，清洗時(shí)間決定殘留物去除程度?！绢}干8】UT檢測(cè)中，缺陷反射信號(hào)幅度異常增大的可能原因是什么？【選項(xiàng)】A.缺陷尺寸過(guò)大B.探頭晶片損壞C.材料內(nèi)部存在空腔D.檢測(cè)頻率過(guò)高【參考答案】C【詳細(xì)解析】空腔缺陷（如氣孔）會(huì)形成聲阻抗突變界面，導(dǎo)致超聲波全反射，信號(hào)幅度顯著高于實(shí)際缺陷。探頭損壞或檢測(cè)頻率過(guò)高雖會(huì)干擾信號(hào)，但通常表現(xiàn)為噪聲增大而非單次信號(hào)異常?！绢}干9】RT檢測(cè)中，膠片黑度不足可能由以下哪種原因引起？【選項(xiàng)】A.膠片過(guò)期B.焦距不準(zhǔn)C.膠片處理溫度過(guò)高D.暗室照明不足【參考答案】C【詳細(xì)解析】膠片處理溫度過(guò)高會(huì)導(dǎo)致乳劑層過(guò)度固化，銀鹽顆粒粗化，降低感光靈敏度，表現(xiàn)為影像灰暗（黑度不足）。暗室照明不足僅影響讀片，與黑度無(wú)關(guān)；膠片過(guò)期會(huì)降低感光速度，但黑度不足更直接關(guān)聯(lián)顯影條件?！绢}干10】MT檢測(cè)中，使用濕法檢測(cè)時(shí)，哪種清洗方式最有效？【選項(xiàng)】A.蒸汽沖洗B.紗布擦拭C.壓縮空氣吹掃D.超聲波清洗【參考答案】A【詳細(xì)解析】濕法檢測(cè)后需用蒸汽沖洗清除磁粉和滲透劑殘留，避免二次污染；壓縮空氣可能吹散細(xì)小磁粉，紗布擦拭無(wú)法徹底去除油污，超聲波清洗對(duì)磁性顆粒無(wú)針對(duì)性。【題干11】UT檢測(cè)中，如何區(qū)分表面凹痕與內(nèi)部裂紋？【選項(xiàng)】A.調(diào)整增益B.改變耦合劑C.觀察信號(hào)波形D.測(cè)量信號(hào)幅度【參考答案】C【詳細(xì)解析】表面凹痕的信號(hào)呈雙峰狀（入射波與反射波），而內(nèi)部裂紋信號(hào)為單峰且位置固定。調(diào)整增益或耦合劑僅改變信號(hào)幅度，無(wú)法區(qū)分缺陷類型；幅度測(cè)量無(wú)法反映信號(hào)形態(tài)差異。【題干12】RT檢測(cè)中，使用Ag-X射線膠片時(shí)，哪種氣體用于增感？【選項(xiàng)】A.氬氣B.氦氣C.氧氣D.氮?dú)狻緟⒖即鸢浮緼【詳細(xì)解析】Ag-X射線膠片需在氬氣環(huán)境中進(jìn)行后處理（增感），氬氣中的氧原子與膠片中的鹵化銀反應(yīng)生成銀顆粒，增強(qiáng)影像對(duì)比度。氦氣、氧氣、氮?dú)饩鶡o(wú)此增感作用?！绢}干13】MT檢測(cè)中，缺陷磁化率與基體差異越小，磁粉顯示越明顯，該說(shuō)法正確嗎？【選項(xiàng)】A.正確B.錯(cuò)誤【參考答案】A【詳細(xì)解析】磁化率差異（ΔM）越大，缺陷與基體磁性差異越顯著，磁粉吸附越密集。當(dāng)ΔM接近零（如非磁性缺陷在鋼中），磁粉吸附量極低，難以識(shí)別?！绢}干14】UT檢測(cè)中，斜射法適用于哪種類型的缺陷？【選項(xiàng)】A.表面裂紋B.管壁內(nèi)壁缺陷C.焊縫根部未熔合D.橫向缺陷【參考答案】C【詳細(xì)解析】斜射法通過(guò)調(diào)整探頭入射角度，利用聲束折射增強(qiáng)對(duì)管材根部未熔合缺陷的穿透力，尤其適用于檢測(cè)內(nèi)壁缺陷（如內(nèi)表面裂紋），而橫射法更適合表面或近表面缺陷。【題干15】RT檢測(cè)中，像質(zhì)計(jì)的刻痕寬度一般為多少？【選項(xiàng)】A.0.1mmB.0.2mmC.0.5mmD.1.0mm【參考答案】B【詳細(xì)解析】國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)（ISO5817）規(guī)定像質(zhì)計(jì)刻痕寬度為0.2mm，刻痕間距0.5mm?？毯圻^(guò)窄（0.1mm）難以清晰成像，過(guò)寬（0.5mm）會(huì)降低評(píng)估精度?！绢}干16】UT檢測(cè)中，如何減少因探頭晶片表面劃痕引起的噪聲干擾？【選項(xiàng)】A.提高增益B.更換耦合劑C.使用濾波器D.限制檢測(cè)深度【參考答案】C【詳細(xì)解析】晶片劃痕會(huì)導(dǎo)致聲波散射，產(chǎn)生隨機(jī)噪聲。高頻濾波器可抑制＞20kHz的雜波，而增益調(diào)整會(huì)放大所有信號(hào)（包括噪聲）。更換耦合劑僅改善聲阻抗匹配，無(wú)法消除散射?！绢}干17】MT檢測(cè)中，使用磁性粒子檢測(cè)時(shí)，缺陷顯示靈敏度與磁化時(shí)間的關(guān)系如何？【選項(xiàng)】A.磁化時(shí)間越長(zhǎng)，靈敏度越高B.磁化時(shí)間越長(zhǎng)，靈敏度越低C.無(wú)關(guān)D.需分段磁化【參考答案】A【詳細(xì)解析】延長(zhǎng)磁化時(shí)間（≥60秒）可增強(qiáng)缺陷區(qū)域的磁場(chǎng)強(qiáng)度，促進(jìn)磁粉吸附，尤其對(duì)深滲透缺陷（＞1.6mm）效果顯著。但磁化時(shí)間過(guò)長(zhǎng)（＞120秒）會(huì)導(dǎo)致基體磁飽和，反而降低靈敏度?！绢}干18】UT檢測(cè)中，缺陷反射信號(hào)幅度與缺陷尺寸的關(guān)系如何？【選項(xiàng)】A.尺寸越大，幅度越大B.尺寸越大，幅度越小C.無(wú)關(guān)D.呈非線性正相關(guān)【參考答案】D【詳細(xì)解析】缺陷反射信號(hào)幅度與尺寸呈非線性關(guān)系：小尺寸缺陷（＜1mm）信號(hào)幅度較低且衰減快，中等尺寸（1-5mm）信號(hào)幅度顯著增大，大尺寸（＞5mm）信號(hào)幅度趨于穩(wěn)定并伴隨多次反射?！绢}干19】RT檢測(cè)中，如何補(bǔ)償膠片厚度不均導(dǎo)致的影像對(duì)比度下降？【選項(xiàng)】A.調(diào)整曝光時(shí)間B.更換膠片類型C.使用像質(zhì)計(jì)D.增加曝光劑量【參考答案】C【詳細(xì)解析】像質(zhì)計(jì)通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)化缺陷對(duì)比度，可評(píng)估膠片對(duì)厚度變化的響應(yīng)能力，指導(dǎo)調(diào)整曝光參數(shù)（如增加曝光劑量或調(diào)整焦點(diǎn)）。單獨(dú)更換膠片類型無(wú)法解決厚度不均問(wèn)題，調(diào)整曝光時(shí)間僅影響整體亮度。【題干20】UT檢測(cè)中，如何判斷缺陷位于材料表面還是內(nèi)部？【選項(xiàng)】A.觀察信號(hào)反射次數(shù)B.測(cè)量信號(hào)延遲時(shí)間C.調(diào)整探頭頻率D.檢查耦合劑狀態(tài)【參考答案】A【詳細(xì)解析】表面缺陷（如劃痕）僅產(chǎn)生一次反射信號(hào)（入射波與表面反射波），內(nèi)部缺陷（如裂紋）產(chǎn)生兩次反射信號(hào)（入射波、缺陷反射波、表面反射波）。信號(hào)延遲時(shí)間與材料厚度相關(guān)，無(wú)法區(qū)分表面/內(nèi)部；探頭頻率調(diào)整會(huì)改變檢測(cè)深度，但無(wú)法直接判斷缺陷位置。2025年事業(yè)單位工勤技能-甘肅-甘肅無(wú)損探傷工二級(jí)（技師）歷年參考題庫(kù)含答案解析(篇4)【題干1】無(wú)損探傷中，射線檢測(cè)的靈敏度主要取決于材料的厚度和射線的能量，以下哪項(xiàng)表述正確？【選項(xiàng)】A.檢測(cè)電壓B.材料表面粗糙度C.射線能量與材料厚度D.暗室顯影時(shí)間【參考答案】C【詳細(xì)解析】射線檢測(cè)靈敏度由材料厚度和射線能量共同決定。材料越厚需更高能量穿透，能量不足會(huì)導(dǎo)致靈敏度下降；選項(xiàng)A檢測(cè)電壓影響射線強(qiáng)度，選項(xiàng)B表面粗糙度影響成像清晰度，選項(xiàng)D顯影時(shí)間與膠片性能相關(guān)，均非靈敏度核心因素?！绢}干2】磁粉檢測(cè)中，適用于非鐵磁性材料的檢測(cè)方法是什么？【選項(xiàng)】A.熒光磁粉檢測(cè)B.噴砂磁粉檢測(cè)C.涂抹磁粉檢測(cè)D.磁粉滲透檢測(cè)【參考答案】A【詳細(xì)解析】熒光磁粉檢測(cè)可檢測(cè)非鐵磁性材料表面及近表面裂紋，因非鐵磁材料無(wú)法被磁化。噴砂和涂抹法僅適用于鐵磁性材料，滲透檢測(cè)依賴表面開口缺陷，故選A?！绢}干3】超聲波檢測(cè)中，當(dāng)聲束遇到橫裂紋時(shí)，反射信號(hào)通常呈現(xiàn)什么形態(tài)？【選項(xiàng)】A.雙峰信號(hào)B.單峰信號(hào)C.平臺(tái)狀信號(hào)D.脈沖狀信號(hào)【參考答案】A【詳細(xì)解析】橫裂紋與聲束垂直時(shí)，反射信號(hào)會(huì)因裂紋兩側(cè)反射形成雙峰?？v裂紋則產(chǎn)生單峰信號(hào)。平臺(tái)狀信號(hào)多見于平底孔，脈沖狀為橫波信號(hào)特征，故選A?！绢}干4】射線檢測(cè)中，膠片黑度不足可能由以下哪項(xiàng)原因引起？【選項(xiàng)】A.暗室溫度過(guò)高B.焦距設(shè)置過(guò)短C.線譜板未充分曝光D.射線能量過(guò)低【參考答案】C【詳細(xì)解析】線譜板曝光不足會(huì)導(dǎo)致膠片黑度低，需延長(zhǎng)曝光時(shí)間或增加射線強(qiáng)度。選項(xiàng)A高溫可能加速化學(xué)衰退，選項(xiàng)B影響幾何清晰度，選項(xiàng)D導(dǎo)致信號(hào)弱但非黑度問(wèn)題，故選C?！绢}干5】在檢測(cè)焊接接頭時(shí)，氣孔缺陷的尺寸超過(guò)多少毫米需特別標(biāo)記？【選項(xiàng)】A.0.5B.1.0C.2.0D.3.0【參考答案】B【詳細(xì)解析】GB/T3323-2020規(guī)定，焊接接頭中氣孔尺寸≥1.0mm需標(biāo)記。尺寸0.5-1.0mm為允許范圍，2.0mm以上需返修，故選B?！绢}干6】磁粉檢測(cè)中，磁化電流與工件尺寸的關(guān)系如何？【選項(xiàng)】A.電流與尺寸成正比B.電流與尺寸無(wú)關(guān)C.電流與尺寸成反比D.電流需≥工件周長(zhǎng)【參考答案】A【詳細(xì)解析】磁化電流應(yīng)滿足I≥(2L)/ρ，L為工件長(zhǎng)度，ρ為磁阻系數(shù)，電流與尺寸成正比。選項(xiàng)B忽略材料因素，選項(xiàng)C錯(cuò)誤，選項(xiàng)D單位不匹配，故選A?！绢}干7】當(dāng)超聲波檢測(cè)儀顯示A型脈沖信號(hào)幅度異常升高時(shí)，可能對(duì)應(yīng)哪種缺陷？【選項(xiàng)】A.未熔合B.未焊透C.未熔合+夾渣D.氣孔【參考答案】B【詳細(xì)解析】A型信號(hào)幅度反映缺陷反射強(qiáng)度，未焊透因底部反射弱導(dǎo)致幅度降低，未熔合因內(nèi)部反射強(qiáng)幅度升高。夾渣信號(hào)幅度中等，氣孔幅度與孔徑相關(guān)，故選B?！绢}干8】射線檢測(cè)中，用于評(píng)估膠片感光特性的參數(shù)是？【選項(xiàng)】A.像質(zhì)計(jì)對(duì)比度B.像質(zhì)計(jì)靈敏度C.線譜板黑化度D.膠片速度指數(shù)【參考答案】C【詳細(xì)解析】線譜板黑化度通過(guò)對(duì)比度梯度評(píng)估膠片感光性能，像質(zhì)計(jì)用于測(cè)量圖像清晰度，膠片速度指數(shù)反映曝光效率，故選C?！绢}干9】在檢測(cè)厚壁容器時(shí)，超聲波檢測(cè)的晶片入射角通常如何設(shè)置？【選項(xiàng)】A.0°（垂直入射）B.30°C.45°D.60°【參考答案】A【詳細(xì)解析】厚壁容器檢測(cè)需采用垂直入射（0°）以避免聲束折射導(dǎo)致盲區(qū)。30°-60°入射適用于薄壁或特殊形狀工件，故選A?！绢}干10】磁粉檢測(cè)中，使用直流電源時(shí)，磁化方向應(yīng)如何？【選項(xiàng)】A.單向磁化B.交流磁化C.多向磁化D.無(wú)需磁化【參考答案】A【詳細(xì)解析】直流磁化需沿工件長(zhǎng)軸單向磁化，確保磁場(chǎng)均勻。交流磁化適用于復(fù)雜形狀，多向磁化易干擾檢測(cè)，故選A?！绢}干11】射線檢測(cè)中，像質(zhì)計(jì)的靈敏度等級(jí)表示什么？【選項(xiàng)】A.材料厚度范圍B.缺陷可檢測(cè)最小尺寸C.膠片黑化度D.線譜板曝光時(shí)間【參考答案】B【詳細(xì)解析】像質(zhì)計(jì)靈敏度（ASRT）表示檢測(cè)最小缺陷尺寸的能力，如ASRT3級(jí)可檢測(cè)≥0.5mm缺陷。選項(xiàng)A為像質(zhì)計(jì)適用厚度范圍，C為膠片性能參數(shù)，故選B。【題干12】在超聲波檢測(cè)中，橫波探測(cè)的晶片角度計(jì)算公式為？【選項(xiàng)】A.θ=arcsin(λ/c)B.θ=arccos(λ/c)C.θ=arctan(λ/c)D.θ=arcsin(c/λ)【參考答案】A【詳細(xì)解析】橫波角度θ=arcsin(λ/c)，λ為波長(zhǎng)，c為聲速。選項(xiàng)B公式適用于縱波，C為縱波折射角，D數(shù)學(xué)上不可能（c>λ）。故選A?！绢}干13】射線檢測(cè)中，用于區(qū)分裂紋與氣孔的圖像特征是？【選項(xiàng)】A.裂紋邊緣銳利B.氣孔邊緣模糊C.裂紋有分支D.氣孔有分支【參考答案】C【詳細(xì)解析】裂紋呈連續(xù)延伸狀且邊緣清晰，氣孔邊緣圓鈍。選項(xiàng)C裂紋分支為典型特征，選項(xiàng)A、B描述錯(cuò)誤，選項(xiàng)D氣孔無(wú)分支，故選C?！绢}干14】在檢測(cè)不銹鋼焊接接頭時(shí)，磁粉檢測(cè)應(yīng)選擇哪種磁化方式？【選項(xiàng)】A.全表面磁化B.局部磁化C.中心磁化D.環(huán)形磁化【參考答案】B【詳細(xì)解析】不銹鋼非導(dǎo)磁，需局部磁化（如環(huán)形磁化）配合磁粉檢測(cè)。全表面磁化無(wú)效，中心磁化僅適用于筒體，故選B?！绢}干15】當(dāng)超聲波檢測(cè)儀的時(shí)基掃描顯示信號(hào)延遲時(shí)，可能由以下哪項(xiàng)引起？【選項(xiàng)】A.晶片耦合不良B.信號(hào)衰減過(guò)大C.接收器增益設(shè)置過(guò)高D.線陣探頭晶片間距【參考答案】B【詳細(xì)解析】信號(hào)延遲與傳播路徑有關(guān)，衰減過(guò)大導(dǎo)致信號(hào)幅度降低，接收器增益過(guò)高會(huì)放大噪聲而非延遲。晶片間距影響分辨率而非延遲，故選B?！绢}干16】射線檢測(cè)中，用于評(píng)估膠片分辨率的關(guān)鍵參數(shù)是？【選項(xiàng)】A.像質(zhì)計(jì)對(duì)比度B.線譜板黑化度C.膠片顆粒度D.曝光時(shí)間【參考答案】A【詳細(xì)解析】像質(zhì)計(jì)對(duì)比度反映圖像細(xì)節(jié)分辨能力，線譜板黑化度評(píng)估感光性能，膠片顆粒度影響信噪比，曝光時(shí)間影響黑度而非分辨率，故選A?！绢}干17】在檢測(cè)薄壁管道時(shí)，超聲波檢測(cè)的晶片入射角通常設(shè)置為？【選項(xiàng)】A.0°B.30°C.45°D.60°【參考答案】C【詳細(xì)解析】薄壁件常用45°入射以匹配聲束折射角，避免盲區(qū)。0°適用于厚壁，30°-60°用于特定厚度范圍，故選C?！绢}干18】磁粉檢測(cè)中，使用熒光磁粉時(shí)，檢測(cè)靈敏度主要取決于？【選項(xiàng)】A.磁粉顆粒大小B.磁粉濃度C.磁化時(shí)間D.工件表面溫度【參考答案】A【詳細(xì)解析】熒光磁粉靈敏度與顆粒尺寸相關(guān)，小顆粒更易滲入缺陷。濃度影響覆蓋范圍，磁化時(shí)間影響滲透深度，溫度影響化學(xué)反應(yīng)，故選A?！绢}干19】射線檢測(cè)中，用于評(píng)估膠片寬容度的參數(shù)是？【選項(xiàng)】A.像質(zhì)計(jì)對(duì)比度B.線譜板黑化度C.膠片速度指數(shù)D.曝光寬容度【參考答案】D【詳細(xì)解析】曝光寬容度指膠片在正確曝光基礎(chǔ)上允許的過(guò)曝光或欠曝光范圍，線譜板黑化度評(píng)估感光性能，故選D?！绢}干20】在超聲波檢測(cè)中，用于測(cè)量缺陷間距的參數(shù)是？【選項(xiàng)】A.脈沖幅度B.聲時(shí)差C.聲速差D.聲束折射角【參考答案】B【詳細(xì)解析】聲時(shí)差（T）=缺陷間距/聲速，可直接計(jì)算缺陷位置。脈沖幅度反映缺陷反射強(qiáng)度，聲速差用于材料識(shí)別，折射角影響聲束路徑，故選B。2025年事業(yè)單位工勤技能-甘肅-甘肅無(wú)損探傷工二級(jí)（技師）歷年參考題庫(kù)含答案解析(篇5)【題干1】射線探傷中，當(dāng)被檢材料厚度小于0.5mm時(shí)，應(yīng)優(yōu)先選擇哪種探傷方法？A.膠片黑度不足B.鉛板襯墊C.增加曝光時(shí)間D.更換更高能量的X射線源?！緟⒖即鸢浮緽【詳細(xì)解析】射線探傷對(duì)薄壁材料（＜0.5mm）靈敏度不足，需通過(guò)鉛板襯墊補(bǔ)償厚度。選項(xiàng)A膠片黑度不足是常規(guī)問(wèn)題，選項(xiàng)C和D無(wú)法解決薄壁缺陷檢出率低的核心矛盾，選項(xiàng)B為正確操作規(guī)范?！绢}干2】磁粉探傷檢測(cè)奧氏體不銹鋼時(shí)，必須采用哪種磁化方式？A.線圈法B.直接接觸法C.中心導(dǎo)體法D.退磁場(chǎng)法?！緟⒖即鸢浮緾【詳細(xì)解析】奧氏體不銹鋼因高電阻率無(wú)法通過(guò)線圈法有效磁化，需采用中心導(dǎo)體法。選項(xiàng)B直接接觸法僅適用于碳鋼等導(dǎo)電材料，選項(xiàng)D退磁場(chǎng)法會(huì)破壞磁化效果，選項(xiàng)A和C中僅C符合技術(shù)規(guī)范?！绢}干3】超聲波探傷中，當(dāng)發(fā)現(xiàn)橫波轉(zhuǎn)換為縱波時(shí)，該現(xiàn)象可能預(yù)示哪種缺陷？A.氣孔B.夾渣C.未熔合D.裂紋?！緟⒖即鸢浮緾【詳細(xì)解析】橫波轉(zhuǎn)換為縱波是未熔合缺陷的典型聲學(xué)特征，氣孔產(chǎn)生空化效應(yīng)，夾渣形成反射界面，裂紋產(chǎn)生多波反射。選項(xiàng)C對(duì)應(yīng)熔合不良導(dǎo)致的聲束折射現(xiàn)象?！绢}干4】滲透探傷驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)中，顯像劑干燥時(shí)間要求為多少分鐘？A.10B.15C.20D.30?！緟⒖即鸢浮緽【詳細(xì)解析】GB/T11343規(guī)定滲透檢測(cè)顯像劑干燥時(shí)間為15分鐘±2分鐘。選項(xiàng)A時(shí)間過(guò)短易導(dǎo)致脫附，選項(xiàng)C和D超出標(biāo)準(zhǔn)范圍，選項(xiàng)B符合國(guó)標(biāo)要求?！绢}干5】射線膠片暗室處理中，顯影液溫度偏差超過(guò)多少℃會(huì)導(dǎo)致底片質(zhì)量不合格？A.±1B.±2C.±3D.±5?！緟⒖即鸢浮緾【詳細(xì)解析】暗室工藝參數(shù)中顯影液溫度控制精度要求±3℃。選項(xiàng)A和B未達(dá)到工藝標(biāo)準(zhǔn)，選項(xiàng)D超出允許波動(dòng)范圍，選項(xiàng)C為正確控制值?！绢}干6】磁粉檢測(cè)中，當(dāng)發(fā)現(xiàn)單個(gè)熒光顯示物為圓形時(shí)，應(yīng)判斷為哪種缺陷類型？A.表面裂紋B.表面氣孔C.表面夾渣D.表面未熔合?！緟⒖即鸢浮緽【詳細(xì)解析】圓形熒光顯示物多為表面氣孔，裂紋呈線狀延伸，夾渣呈不規(guī)則形，未熔合顯示連續(xù)線狀。選項(xiàng)B符合缺陷形態(tài)特征?！绢}干7】超聲波探傷中，當(dāng)DAC曲線顯示回波高度超過(guò)基準(zhǔn)線時(shí)，說(shuō)明存在什么問(wèn)題？A.材料厚度不足B.缺陷尺寸過(guò)大C.耦合劑不良D.探頭角度錯(cuò)誤?！緟⒖即鸢浮緽【詳細(xì)解析】DAC曲線基準(zhǔn)線對(duì)應(yīng)缺陷尺寸，超過(guò)基準(zhǔn)線表示實(shí)際缺陷尺寸＞標(biāo)稱值。選項(xiàng)A影響的是DAC曲線位置而非回波高度，選項(xiàng)C和D導(dǎo)致的是波形畸變而非尺寸誤判。【題干8】無(wú)損檢測(cè)人員繼續(xù)教育周期為多少年？A.2B.3C.4D.5?！緟⒖即鸢浮緽【詳細(xì)解析】TSGZ6003規(guī)定無(wú)損檢測(cè)人員繼續(xù)教育周期為3年。選項(xiàng)A和B接近標(biāo)準(zhǔn)值，但選項(xiàng)C和D超出規(guī)定年限，選項(xiàng)B為正確周期。【題干9】射線探傷中，當(dāng)被檢材料為鎳基合金時(shí)，應(yīng)優(yōu)先選擇哪種膠片？A.柯達(dá)ES-200B.柯達(dá)X-OmatXEC.柯達(dá)X-Omat400D.柯達(dá)X-OmatMD-20?！緟⒖即鸢浮緾【詳細(xì)解析】鎳基合金需使用高感度膠片，柯達(dá)X-Omat400（ISO1600）適用于高原子序數(shù)材料。選項(xiàng)A和B感光度不足，選項(xiàng)D為醫(yī)用膠片，選項(xiàng)C符合技術(shù)規(guī)范。【題干10】滲透探傷中，當(dāng)檢測(cè)表面裂紋時(shí)，滲透劑滲透時(shí)間應(yīng)不少