標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 24574-2009 硅單晶中Ⅲ-Ⅴ族雜質(zhì)的光致發(fā)光測試方法》是一項國家標(biāo)準(zhǔn),旨在提供一種用于檢測硅單晶材料中Ⅲ-Ⅴ族元素(如硼、磷等)雜質(zhì)含量的方法。該標(biāo)準(zhǔn)詳細規(guī)定了采用光致發(fā)光技術(shù)測定這些雜質(zhì)的具體步驟和技術(shù)要求。
首先,標(biāo)準(zhǔn)介紹了實驗所需的基本條件和設(shè)備,包括但不限于光源、低溫杜瓦瓶、光電探測器以及數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)等。這些儀器的選擇與配置對于保證測試結(jié)果準(zhǔn)確性至關(guān)重要。
接著,文檔中描述了樣品制備過程。為了獲得可靠的測量結(jié)果,需要確保待測硅片表面清潔且無損傷,并且在適當(dāng)?shù)臈l件下進行退火處理以激活潛在的發(fā)光中心。
然后,《GB/T 24574-2009》給出了詳細的測試程序,包括如何設(shè)置實驗參數(shù)(比如溫度、激發(fā)波長等),如何記錄并分析光譜數(shù)據(jù)。此外,還提供了不同種類Ⅲ-Ⅴ族雜質(zhì)對應(yīng)的特征峰位置信息,幫助用戶準(zhǔn)確識別樣品中的特定元素。
最后,標(biāo)準(zhǔn)強調(diào)了質(zhì)量控制的重要性,建議定期校準(zhǔn)儀器并使用已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣本來驗證系統(tǒng)的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。同時,也提到了實驗報告應(yīng)包含的信息項目,如樣品編號、測試日期、主要操作者姓名及聯(lián)系方式等,以便于后續(xù)的數(shù)據(jù)追蹤與管理。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2009-10-30 頒布
- 2010-06-01 實施



文檔簡介
犐犆犛29.045
犎80
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜24574—2009
硅單晶中ⅢⅤ族雜質(zhì)的
光致發(fā)光測試方法
犜犲狊狋犿犲狋犺狅犱狊犳狅狉狆犺狅狋狅犾狌犿犻狀犲狊犮犲狀犮犲犪狀犪犾狔狊犻狊狅犳
狊犻狀犵犾犲犮狉狔狊狋犪犾狊犻犾犻犮狅狀犳狅狉ⅢⅤ犻犿狆狌狉犻狋犻犲狊
20091030發(fā)布20100601實施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局
發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
書
犌犅/犜24574—2009
前言
本標(biāo)準(zhǔn)修改采用SEMIMF13890704《ⅢⅤ號混雜物中對單晶體硅的光致發(fā)光分析的測試方法》。
本標(biāo)準(zhǔn)對SEMIMF13890704格式進行了相應(yīng)調(diào)整。為了方便比較,在資料性附錄B中列出了本標(biāo)準(zhǔn)
章條和SEMIMF13890704章條對照一覽表。并對SEMIMF13890704條款的修改處用垂直單線標(biāo)
識在它們所涉及的條款的頁邊空白處。
本標(biāo)準(zhǔn)與SEMIMF13890704相比,主要技術(shù)差異如下:
———刪除了“目的”、“術(shù)語和定義”中的討論部分、“偏差”和“關(guān)鍵詞”等章節(jié)的內(nèi)容;
———刪除了SEMIMF13890704中對砷鋁含量測定的內(nèi)容;
———將實際測試得到的單一試驗室的精密度結(jié)果代替原標(biāo)準(zhǔn)SEMIMF13890704中的精度和偏
差部分,并將原標(biāo)準(zhǔn)中的精度和偏差部分作為資料性附錄A。
本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A和附錄B為資料性附錄。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:信息產(chǎn)業(yè)部專用材料質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心、中國電子科技集團公司第四十六研
究所。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:李靜、何秀坤、藺嫻。
Ⅰ
書
犌犅/犜24574—2009
硅單晶中ⅢⅤ族雜質(zhì)的
光致發(fā)光測試方法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅單晶中ⅢⅤ族雜質(zhì)的光致發(fā)光測試方法。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于低位錯單晶硅中導(dǎo)電性雜質(zhì)硼和磷含量的同時測定。
本標(biāo)準(zhǔn)用于檢測單晶硅中含量為1×1011at·cm-3~5×1015at·cm-3的各種電活性雜質(zhì)元素。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T13389摻硼摻磷硅單晶電阻率與摻雜物濃度換算規(guī)程
GB/T24581低溫傅立葉變換紅外光譜法測量硅單晶中Ⅲ、Ⅴ族雜質(zhì)含量的標(biāo)準(zhǔn)方法
3術(shù)語和定義
下列術(shù)語和定義適應(yīng)于本標(biāo)準(zhǔn)。
3.1
缺陷光熒光譜犱犲犳犲犮狋犾狌犿犻狀犲狊犮犲狀犮犲犾犻狀犲狊
由硅中缺陷產(chǎn)生的那些特征吸收。
3.2
電子空位液滴(犈犎犇)犲犾犲犮狋狉狅狀犺狅犾犲犱狉狅狆犾犲狋(犈犎犇)
由光激發(fā)產(chǎn)生的激子氣體的冷凝相(液體)。
3.3
激子犲狓犮犻狋狅狀狊
是由一個空位晶格(自由激子)或雜質(zhì)原子點(束縛激子)結(jié)合在一起的能發(fā)光的電子空穴對。
3.4
非本征譜(犡犜犗(犅犈)或犡犖犘(犅犈))犲狓狋狉犻狀狊犻犮犾犻狀犲(犡犜犗(犅犈)或犡犖犘(犅犈))
由晶格中的雜質(zhì)原子點(束縛激子)捕獲激子而產(chǎn)生的光熒光譜。
在4.2K溫度下非本征激子的結(jié)合能,它的能量比本征發(fā)射低得多。X是雜質(zhì)元素符號,BE表示
束縛激子熒光譜。非本征熒光同樣包括特征吸收,是因為束縛的多個激子復(fù)合(b1,b2,b3分別表示第
一、第二和第三束縛的多個激子復(fù)合)。在施主熒光譜中,這些復(fù)合在TO區(qū)域出現(xiàn)了兩個系列的譜線,
叫做α系列和β系列。在符號后面加撇號來表示弱的β系列特征吸收。(即
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